JPS61192330A - 第４級アンモニウム化合物からなる新規カチオン界面活性剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、第４級アンモニウム化合物からなる新規な改
良されたカチオン界面活性剤（カチオニクス）および工
業用洗浄剤溶液における該カチオン界面活性剤の利用に
関するものである。

［従来の技術とその問題点］ 工業製品、例えば鉄や鋼でできた自動車部品の半完成品
または完成品を洗浄するため、ビルグー物質、錯化剤、
有機または無機の抗腐食剤や適宜他の成分のような他の
補助物質に加えて、界面活性剤を含有する水溶液が用い
られている。例えば、西ドイツ特許出願公開第２７１２
９００号公報および同第３２３７４３１号公報には、有
機基、より詳しくはアンモニウム窒素原子に結合した種
々の鎖長を有するアルキル基を持つ他の洗浄剤成分に加
えて、カチオン界面活性剤として第４級アンモニウム化
合物をアルカリ性ｐＨ域で用いるという方法が提案され
ている。用いたアンモニウムカヂオンの対イオンは、例
えば、塩素イオン、スルフェートあるいはメチルスルフ
ェートなどのアニオンであるが、これらのアニオンは、
腐食を起こす原因となるアニオンとして知られている。

核アニオンを必要なものとして含んでいると、不都合に
も装置の部品や処理した金麿表面の腐食か促進される。

このことは、とりわけ水性の製品を用いて金属表面が処
理される場合、特にカチオン界面活性剤の適用濃度が高
いことが要求されろ場合、著しい欠点となる。事実、処
理した部品の中間貯蔵過程で長時間縁た時だＣノでなく
、水性の適用溶液で各表面が処理された直後にも腐食が
起こる。

また、西ドイツ特許出願公開第３０４８６４２号公報に
は、びんや硬質表面を有する他の物品（磁器、合成品、
金属）を洗浄するための、アンモニウム化合物からなる
カチオン界面活性剤を含有する界面活性剤混合物が開示
されている。しかしながら、これらの界面活性剤は、ア
ニオンとして塩素、臭素あるいはメチルスルフェートイ
オンを含有するという１つの欠点を有している。また、
この場合、アニオンは、処理した結果として装置（例え
ば皿洗い器）部品および所望の処理表面の耐腐食性に対
して悪影響を及ぼす。

ヒドロキシアルキル基を導入した末端エポキシ化合物を
用いて、第３級アミン塩と有機酸とを水中で常圧、４０
℃〜１００℃の温度および少なくとも７のＩ）Ｈ値の条
件で反応させることにより、少なくとも１つの長鎖ヒド
ロキシアルキル基を含有する第４級アンモニウム化合物
を調製するための方法が、西ドイツ特許出願第３３２１
６０８。

８に記載されている。しかしながら、得られた第４級ア
ンモニウム化合物は、実用的な有益性および抗腐食性に
関して、市販のカチオン界面活性剤に求められている高
い必要条件を満たしうるものではない。すなわち、多数
の有機酸のアニオンは、得られた第４級アンモニウム化
合物が水に溶解し難いため、カチオン界面活性剤の対イ
オンとして適当でない。製造工程からペーストの形態で
得られる該化合物は、水への溶解性に乏しいため、工業
用洗浄剤に調製することができない。また、多数のヒド
ロキシアルキル基を有するアンモニウムカチオンは、十
分に脱塩されていない水中で不必要な沈澱を起ごず原因
となり、このことは、また、該カチオン界面活性剤が使
用できなくなるということを示１．ている。更には、カ
チオン界面活性剤は、エマルジョン及び／又はアニオン
界面活性剤あるいは乳化剤のそれぞれに対１．て解乳化
及び／又は消泡作用を有することがしば゛しは望まれて
いる。１．かじながら、前記出願で開示された第４級ア
ンモニウム化合物は、エマルジョン及び／又はアニオン
乳化剤に関して何ら解乳化作用を示さない。市販のカチ
オン界面活性剤と比較してもほぼ同じ耐腐食性しか得ら
れないというように、生成したカチオン界面活性剤が有
する顕著な改良された抗腐食性によっても、該化合物の
欠点は捕われていない。

［発明の目的］ 本発明の目的は、先行技術の欠点を有さない第４級アン
モニウム化合物からなる新規な改良されたカチオン界面
活性剤を提供することにある。より詳しくは、カチオン
界面活性剤の成分が、腐食を防止し、アニオン性物質の
混入があっても達成すべき十分な解乳化効果を生じ、工
業用水性洗浄剤に十分に調製でき、すなわち容易に水に
溶解し、何ら妨げとなる沈澱を生じさせる原因となるこ
とがなく、しかも工業用洗浄剤に通常使用される成分と
相溶性を有する、工業的に使用するために有用なカチオ
ン界面活性剤を提供することを目的とするものである。

［発明の構成］ 該目的は、第４級アンモニウム化合物のアンモニウム窒
素原子が少なくとも２つのアルギル基、１０〜２４の炭
素原子を有する末端エボキンドから生じる１つの２−ヒ
ドロキシアルキル基および要すれば１つのアリールアル
キル基を有し、かつ第４級アンモニウム化合物のアニオ
ンが５〜１６の炭素原子を有する有機カルボン酸のアニ
オンであるような第４級アンモニウム化合物からなる新
規な改良されたカチオン界面活性剤を提供することによ
り達成される。すなわち、驚くべきことに、該カチオン
界面活性剤は、アニオン界面活性剤ま一７＝ たは乳化剤のそれぞれに関して良好な解乳化性を有する
だけでなく、各工業用洗浄剤中に存在するとき、処理さ
れた表面を疎水性にし、それによって処理された表面か
ら垂れるこ゛となく適用液体を円滑に流出させることが
できるので、腐食防止に寄与し、しかも合成物表面の帯
電防止効果をももたらずということを見出した。

本発明は、第４級アンモニウム化合物からなる新規な改
良されたカチオン界面活性剤を提供するものであり、こ
の第４級アンモニウム化合物は、一般式： ％式％［］ 〔式中、 Ｒ１は、１〜２２の炭素原子を有する直鎖または分枝状
アルキル基を表わし。

Ｒ２は、水素または１〜２■の炭素原子を有する直鎖ま
たは分枝状アルキル基を表わし、置換基ＲＩとＲ２の炭
素原子の総数は、８〜２２の範囲にあり； Ｒ３およびＲ４は、同一または異なって、メチル、エヂ
ノ区　２−ヒドロキシエチルまたは２−ヒドロキシプロ
ピルを表４つし； Ｒ５は、４〜６の炭素原子を有するアルキル基またはア
ルキル基に１〜３の炭素原子を有するフェニルアルキル
基を表わし； また Ｒ８は、４〜１５の炭素原子を有する直鎖または分枝状
アルキル基を表わす。〕 によって特徴付けられる。

Ｒ１およびＲＱで表わされる直鎖または分枝状アルキル
基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル
、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テ
トラデシルおよびヘキザデシルがある。好ましいものは
、Ｒ２が水素であり、Ｒ１が８〜２２の炭素原子を有す
る直鎖または分枝状アルキル基、例えばｎ−オクチル、
ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ｎ−テトラデシルまたはｎ
−ヘキサデシルである第４級アンモニウム化合物である
。

いずれの場合にも、２つの置換基ＲＩおよびＲ２の炭素
原子の総数は、８〜２２の炭素原子の範囲内でなげれば
ならない。

アンモニウム窒素原子に結合した基Ｒ５は、例えばｎ−
ブチル、ｉ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ローペンチル
、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたはｎ−ヘキシルなどのア
ルギル基、またはペンシル、フェニルエチルまたはフェ
ニルプロピルなとのフェニルアルギル基を示す。

本発明のカチオン界面活性剤において適したアニオンは
、５〜１６の炭素原子を何する有機カルボン酸のアニオ
ンである。ずなわぢ、一般式［Ｉ］において、基Ｒ６は
、例えばｎ−ブチル、１−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンデル、ヘキシル、オクチル、２−エヂルヘキシル、
ｎ−ノニル、ｉ−ノニル、デシル、ドデシルまたはペン
タデシルなどのアルギル基を示す。特に好ましいものは
、イソノナン酸のアニオンである。

工業用洗浄剤において、以下の各化合物を用いるのが好
ましい。

ベンジルツメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウ
ムイソノナン酸塩、ペンノルジメチル−２−ヒトロキン
ドデノルアンモニウムの９７１３−ベルザト酸（ｖｅｒ
ｓａｔｉｃ　ａｃｉｄ、商標）塩、ペンジルジメヂル＝
２−ヒドロギシドデシルアンモニウムイソパルミチン酸
塩、プチルジメヂルー２−ヒドロキンドデンルアンモニ
ウムイソノナン酸塩およびベンジルジメチル−２−ヒド
ロキシヘキザデシルアンモニウムイソノナン酸塩。これ
らの中で、ペンシルジメチル−２−ヒドロキシドデシル
アンモニウムイソノナン酸塩が特に好ましい。

本発明の一般式［Ｉ］を有する化合物は、それ自体公知
の方法によって、一般式 ％式％［］ 〔式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、前記と同意義。〕で
示される第３級アミンの塩と、一般式％式％［］ 〔式中、Ｒ６は、前記と同意義。〕 で示される有機酸塩とを水中で、一般式；％式％［］ 〔式中、Ｒ１およびＲ２は、前記と同意義。〕で示され
るエポギソ化合物を用いて、化学量論比のもと、常圧お
よび４０°Ｃ−１００℃の温度で、反応混合物が反応開
始前に少な゛くともｐＩＩ７を何する条件で反応させる
ことにより調製できる。

本発明の第４級アンモニウム化合物の調製に用いる一般
式［ＩＶ］を有するエボキザイドは、１０〜２４の炭素
原子を有するエボキザイドであってもよく、エボギザイ
ドのオキシラン環は、分子のいかなる位置にあってもよ
い。しかしながら、アミン塩と、１．２−エボキザイド
との反応によって調製した第４級アンモニウム化合物、
すなわちＲ１が８〜２２の炭素原子を有するアルキル基
であり、Ｒ２が水素原子である一般式［Ｉ］を有する化
合物が好ましい。

一般式［Ｉ］を有する第４級アンモニウム化合物の調製
に用いるアミンは、好ましくは第３級のアルキル−、ヒ
ドロキシアルキル−またはアルキルアリールアミンであ
り、ジメチルブチルアミンおよびジメヂルベンジルアミ
ンが特に好ましい。

１２一 本発明の第４級アンモニウム化合物の調製に用いるカル
ボン酸は、好ましくはアルキル部分に５〜８の炭素原子
を有するモノカルボン酸である。

イソノナン酸を用いるのが特に好ましい。

本発明の第４級アンモニウム化合物は、工業用洗浄剤溶
液のカチオン界面活性剤として用いられる。該用途にお
いて、該第４級アンモニウム化合物は、先行技術から既
に公知の第４級アンモニウム化合物などの他のカチオン
界面活性剤よりも多くの利点を有しており、腐食したり
、不都合な沈澱を起こす原因となる対アニオンを何ら含
有していない。従来のものと対比すると、本発明のアン
モニウム化合物の調製において用いられる有機酸のアニ
オンは、清浄化した金属表面での腐食過程を防止するこ
とさえもできる。従って、浴中に腐食性アニオンが蓄積
することがなく、しかもカルボン酸アニオンが有する防
止効果によって、水性媒体中での抗腐食性を良くするこ
とができる。このことにより、直ちに次の加工処理をす
る部品に対しても、他の加工処理に先だって中間貯蔵さ
れる部品に対しても適用できることとなる。改良された
耐腐食性は、第４級アンモニウム化合物を含有する工業
用洗浄剤で処理された」−記部品においてとりわ（Ｊ顕
著であろう。このことは、該部品の幾何学的形状がひし
ゃくのように作用するためである。普通の洗浄剤が用い
られる場合、通常水である溶媒が蒸発するに従って、成
分が多く蓄積し、それ故更に腐食性成分が多く蓄積する
恐れがあったので、該部品で腐食が生じる危険性が特に
高かった。このことは、カチオン界面活性剤として本発
明の第４級アンモニウム化合物を含有する工業用洗浄剤
を用いるごとにより防止できる。

本発明のカチオン界面活性剤は、清浄な表面、より詳し
くは清浄な金属表面の有益な疎水化が認められるという
他の利点をもたらす。更には、処理した物品の腐食を、
適用する液体が有する良好な流出性によって防止できる
。

更には、カチオン界面活性剤として本発明の第４級アン
モニウム化合物を含有する工業用洗浄剤の水溶液は、帯
電防止効果を奏するため、合成物質の洗浄用にも十分に
用い得るということが判明した。合成物質の表面が噴霧
法により洗浄される傾向が増大しているため該製品に対
して将来の適用分野が拡大するのは正にこの性質による
ものである。

本発明の第４級アンモニウム化合物は、工業的な洗浄作
業に重要である全ての洗浄剤に使用するのに好適である
。従って、噴霧可能な洗浄剤、例えば中性ないし弱アル
カリ性洗浄剤または酸性洗浄剤、より詳しくは洗浄すべ
き物品に高圧下で噴霧する洗浄剤溶液のような洗浄剤に
、これらの化合物を含有することができる。同様に、こ
れらの化合物を、ノニオン界面活性剤からなる浸漬洗浄
剤に用いてもよい。

また、本発明の第４級アンモニウム化合物は、噴霧また
は浸漬洗浄用の工業用洗浄剤溶液において、解乳化剤ま
たは消泡剤として作用させるためにカチオン界面活性剤
として用いられる。

第４級アンモニウム化合物からなる新規な改良されたカ
チオン界面活、性剤は、それ自体公知の方＝１５＝ 法に従って、工業用洗浄剤溶液用に通常用いられる他の
成分を用いて調製される。第４級アンモニウム化合物お
よび他の成分に加えて、該溶液は、適宜他の添加剤、例
えばアルカノールアミン、リン酸塩、ホウ酸塩や硝酸塩
である添加剤を含有していてもよい。もし必要なら、防
止剤、より詳しくは非鉄金属用の防止剤、または例えば
ヘキザヒドロトリアジン誘導体及び／又はフェノール及
び／又はクロロフェノールなどの殺菌剤を、噴霧または
浸漬装置内で細菌及び／又は菌類が発生するのを防止す
るため、溶液に添加してもよい。

［実施例］ 本発明を、実施例によって更に説明する。

実施例１ （ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニ
ウムイソノナン酸塩の調製） 水５７．８８ｇを、攪拌機、還流冷却器、液体温度計お
よび窒素カバーを備えた５００酎の３つロフラスコに入
れた。続いて、ジメチルベンジルアミン６７．６ｇ（０
，５モル）、イソノナン酸７９．１２ｇ（０，５モル）
および１．２−エポキシドデカン（エボキン価８．５１
）９４．．０９（０，５モル）を添加した。攪拌しなが
ら混合物を９５℃に加熱し、その条件で３時間保った。

この期間が過ぎた後、エポキシ価は０．０５以下の価に
低下した。また、酸価は約２．０であり、アミン価は約
１００であった。室温に冷却すると、生成物からは、分
離されかつ除去される幾分かの水が分離された。

８０％ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデソルアン
モニウムイソノナン酸塩の収量、２９０９゜ 実施例２ （ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニ
ウムの９７１３−ベルサト酸（Ｖ　ｅｒｓａｔｉｃａｃ
ｉｄ、商標）塩の調製） 攪拌機、温度制御器（接触式温度計）、還流冷却器およ
び窒素カバーを備えた３つロフラスコに、水５９０ｇを
入れた後、ジメチルベンジルアミン６７．６ｇ（０，５
モル）、９／１３−ベルサト酸（Ｖｅｒｓａｔｉｃ　　
ａｃｉｄ、商標）（酸価３３５．３）８３．７ｇ（０，
５モル）および１．２−エポキシドデカン（エポキシ価
８．５１）９４　、ｏｇを添加した。ついで攪拌しなが
ら混合物を９５°Ｃに加熱した。２時間後、エポキシ価
（」０に低下し、反応が完了した。室温ではフラスコの
底に、分離されかつ除去される幾分かの水滴が分離した
。得られた暗色の溶液は、調製時の水約２０％を含有し
、酸価４．２４およびニブトン価（Ｅｐｔｏｎ　ｖａｌ
ｕｅ）９５．７ｍｖａｌ／　ｌ　ＯＯｇを有していた。

実施例３ （ペンジルジメチル−２−ヒドロキシトデソルアンモニ
ウムイソパルミヂン酸塩の調製）実施例２に記載したの
と同じ装置に、水６８゜１ｇ、ジメヂルベンジルアミン
６７．６ｇ（０，５モル）、イソパルミチン酸（酸価２
１５．３）ｌ　３０ｇ（０，５モル）および１，２−エ
ポキシドデカン９４０ｙ（０，５モル）を入れた。９５
℃で２時間攪拌し、室温に冷却すると、２相系が形成さ
れた。水性相を取り出し、計量しく３５．Ｉｇ）、除去
した。油相は、水約ＩＯ％を含有していた。生成物は、
黄色透明液体（エポキシ価　０．０；酸価：４．９２゜
ニブトン価（Ｅｐｔｏｎ　ｖａｌｕｅ）：　　８４　、
８　ｍｖａｌ／　Ｉ　００９であった。

実施例４ （ｎ−ブチルジメヂルー２−ヒドロキシドデシルアンモ
ニウムイソノナン酸塩の調製）実施例２と同じ装置およ
び同じ条件下で、以下の反応成分を反応させた　水４５
７ｇ、ジメチルブヂルアミン４３．５ｇＣ０，４３モル
）、イソノナン酸（酸価３６０．３）６８．０ｇ（０，
４３モル）および１．２−ｘボキンドデカン８０．９ｇ
（０，４３モル）。反応混合物の後処理手順は、実施例
２に記載したのと同じであった。黄色透明な８０％溶液
の生成物（エポキシ価・００；酸価・３　ｏ６；ニブト
ン価（Ｅｐｔｏｎ　ｖａｌｕｅ）：　　Ｉ　２５　、　
Ｉ　ｍｖａｌ／　１００、？）を得た。

実施例５ （ペンジルンメヂルー２〜ヒドロギシヘキザデンルアン
モニウムイソノナン酸塩の調製）実施例２と同じ装置お
よび同じ条件下で、以下の反応成分を反応さ０−た：水
６３．２ｆ／、ジメヂルベンジルアミン６７．６９（０
，５モル）、イソノナン酸（酸価３６０．３）７９．１
９（０，５モル）おｊ；び１．２−エポキシへキザデガ
ン（エポキシ価６４６）Ｉ　２３．８ｙ（０，５モル）
。室温に冷却した後、取り出されかつ除去される水３．
１ｇが分離した。

油相は、黄色かつ透明であり、８１％の濃度で生成物（
エポキシ価：　０．０６．酸価：　　１０．９．ニブト
ン価（Ｅｐｔｏｎ　ｖａｌｕｅ）：　　８２　、７　ｍ
ｖａｌ／　Ｉ　００　＆）を含有していた。

実施例６ 噴霧法により適用され、かつ０．５〜５％の範囲の適用
濃度を有する洗浄剤として使用するだめの洗浄剤液を調
製した。これらの溶液の組成は、以下の通りであった（
％は重量％を示す）・ａ）中性洗浄剤 １゜トリエタノールアミン３０％； カプリル酸１０％。

ヘキザヒドロトリアジン誘導体５％； トリルトリアゾール０．５％。

２エヂレンオキサイド（ＥＯ）および４ＰＯ（プロピレ
ンオキザイド）のＣｌ［ｌアルコール付加生成物４％； ５ＥＯおよび３０ＰＯの１，２−プロピレングリコール
付加生成物１％。

ペンノルツメデル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウ
ムイソノナン酸塩１．５％および十分に脱塩した水４８
．０％。

２　カプリン酸すｌ・リウム塩ｌＯ％；トリエタノール
アミン１０％； ホウ砂５％ニ トリリン酸ナトリウム塩１０％； ９ＥＯおよびｌ０ＰＯのノニルフェノール付加生成物４
％； ペンノルジメチル−２−ヒドロキシドデンルアンモニウ
ムの９７１３−ベルザト酸塩２％および 十分に脱塩した水５９．０％。

ｂ）アルカリ性工業用洗浄剤 トリリン酸力１２ウム塩１５％； トリエタノールアミン６％； 水酸化カリウム５％。

３ＥＯおよび６ＰＯのＣ１２〜Ｃ１Ｂアルコールド１加
生成物２％； イソノナン酸４％。

ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデソルアンモニウ
ムイソパルミヂン酸塩２％。

十分に脱塩した水６６．０％。

Ｃ）酸性洗浄剤 １、ソヒドロリン酸ナトリウム塩２５％：安息香酸Ｉ％
； モリブデン酸ナトリウム塩０．２％； ブチルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウム
イソノナン酸塩１％。

非イオン界面活性剤トリトンＤＰＩ６ （Ｔｒｉｔｏｎ　ＤＦ　＋　６、商標）３％および十分
に脱塩した水６９．８％。

２　ノエタノールアミン１２％。

２−ボスボッブタン−１，２，４−）リカルポン酸１５
％。

グルコン酸５％； 非イオン界面活性剤トリトンＤＦ＋６ （ＴｒｉＬｏｎ　Ｄ　Ｆ　Ｉ　６、商標）３％。

ナトリウム塩形脂肪アルコール硫酸塩８％；リン酸３％
： ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウ
ムイソノナン酸塩２％および十分に脱塩した水５２％。

」二記のように処方した洗浄剤は、噴霧により十分適用
可能であった。これらの洗浄剤は、泡立ちの傾向が小さ
いか、泡立ちの傾向を全く示さなかった。洗浄剤浴は、
長期間にわたり安定であり、しかもその期間中、何ら洗
浄力を失わなかった。本発明の第４級アンモニウム化合
物を用いたため、洗浄剤で噴霧処理した金属表面は、腐
食せず、通常の洗浄剤で処理した表面に比べて大きな耐
腐食性を有していた。

実施例７ アルカリ性工業用浸漬洗浄剤；　１〜７％の範囲の適用
濃度。

■　トリリン酸カリウム塩１５％ニ トリエタノールアミン６％； イソノナン酸６％： ベンジルジメチル−２−七ドロキシヘキザデシルアンモ
ニウムイソノナン酸塩１．５％ニジエタノールアミン１
０％； １０ＥＯのノニルフェノール付加生成物５％および 十分に脱塩した水５６．５％。

２、シリン酸ナトリウム塩４０％； オルトリン酸ナトリウム塩３０％； トリリン酸すｌ・リウム塩１０％： ペンジルジメヂル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウ
ムの９７１３ベルザト酸塩１％および １０ＥＯのノニルフェノール付加生成物９％。

」二記のように処方した洗浄剤物質は、処理した金属表
面」二で長期間にわたり高い洗浄力を有し、しかも洗浄
剤浴は、高い安定性を有していた。上記洗浄剤を用いて
浸漬処理した金属表面は、通常＝２４− の洗浄剤で処理した表面に比べて大きな耐腐食性を有し
ていた。

実施例８ 解乳化効果− Ａ、中性洗浄剤 以下の組成を有する中性洗浄剤の解乳化活性について述
べる アルカノールアミンＣ８ＣＩ２カルボン酸塩３５％； １−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸２％： メルカプトベンズチアゾール０５％； エヂレンジアミン＋エチレンオキザイド３０モルおよび
プロピレンオキサイド６０モルのブロック重合体３％。

エチレンオキサイド１０モルのＣＩ２〜Ｃｌ１１−脂肪
アミン付加生成物１％および 水５８．５％。

ａ　エマルジョンの分離 エマルジョンを分離させる性能を、以下の試験に従って
求めた。

２７０ｍＱの油分離フラスコ中、２％の中性洗浄剤水溶
液４０ｇを用いて研削油１０ｇを室温で乳化した。当量
のＢＤＩ（ＡＴを添加した。熱い２％の水性洗浄剤溶液
を振盪しながら添加してフラスコを一杯に満たした。解
乳化が自然に起こり始めた。

最初の分離として゛′エマルンヨン状の相”から浦か完
全に分離するように、液体混合物を８０℃の温度で２時
間保った。

結果；油はほぼ定量的に分離された。

ｈ　消泡剤の添加 ２７０ｍＱの油分離フラスコ中、２％の中性洗浄剤水溶
液４０！？を用いて研削ＭｈｌＯｇを室温で乳化した。

このエマルジョンに化学量論的量よりも過剰となるよう
にＢＤＨＡＩを添加した（解乳化剤とアニオン乳化剤と
の割合は、１．２・ｌである）。

消泡剤として、エチレンオキサ１１３０モルおよびプロ
ピレンオキサイド６０モルをエチレンジアミンに付加し
た生成物を添加した（解乳化剤と消泡剤との割合は、１
・ｌである）。熱い２％中性洗浄剤溶液を振盪しながら
添加してフラスコを一杯に満たした。分離が自然に起こ
り始めた。循環処理した洗浄剤溶液は、泡を形成するこ
となく噴霧することができた。

Ｂ、アルカリ性洗浄剤 以下に説明するような組成を含有するアルカリ性洗浄剤
が存在する場合の解乳化について述べるａ）メタケイ酸
ナトリウム塩６３％： 水酸化ナトリウム１４％。

ソーダ１５％； 脂肪アルコール」用４エチレンオキザイド２％および アルキルヘンゼンスルポン酸塩３％。

２％の研削油濃縮物を用い、水道水の４％洗浄剤溶液を
室温で乳化した。当量よりも多い（１：Ｉ。

１、）Ｂ　Ｄ　ＨＡ　Ｉを添加し、次いで混合物を約３
分間中分に攪拌した。次いで混合物を静置した。浦の分
離が直ちに始まった。

ｂ）メタケイ酸ナトリウム塩６０％； 水酸化ナトリウム１０％。

ソーダ１５％１ シリン酸ナトリウム塩ｌＯ％； 脂肪アルコール＋１４エチレンオキサイド２５％および ココヤシ浦アミン＋１２エチレンオキザイド２５％。

エマルジョンの分離を起こさせるために、ａ）に記載し
たのと同様に混合した３％の洗浄剤液に対して、２倍当
量のＢＤＨＡＩを添加した。７１ｉ］の分離が直ちに始
まり、水性相は殆ど透明であった。

Ｃ）シリン酸ナトリウム塩５０％。

トリリン酸ナトリウム塩１５％； リン酸トリナトリウム塩１５％； ソーダ１０％。

ノニルフェノール＋１４エチレンオキサイド７．７％お
よび やし油脂肪酸モノエタノールアミド＋４エチレンオキザ
イド２３％。

ａ）およびｂ）に記載したのと同様に混合した２％洗浄
剤溶液に対して、２倍当量のＢＤＨＡＩを添加した。油
の分離が自然に始まり、水性相は殆ど透明になった。

ピローまたはポリリン酸塩及び／又はアニオン界面活性
剤が存在するとき、完全に、しかも迅速に解乳化を起こ
させるには、一層多量の解乳化剤を添加する必要があっ
た。

実施例９ 一般用洗浄剤（例えば自動車用洗浄剤、工業プラントの
壁および床用洗浄剤、およびスチームジェット洗浄に用
いるための製品、２〜３０％の範囲の適用６度）。

１．１４ＥＯのＣＩ２〜ＣＩ４アルコール付加生成物８
％； 脂肪アルコール硫酸塩７％； ブチルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアンモニウム
イソノナン酸塩３％； 水酸化カリウム５％； ジェタノールアミン１０％； リン酸６％および 十分に脱塩した水６１％。

２　トリリン酸ナトリウム塩８％。

イソノナン酸５％。

ホウ酸５％； モノエタノールアミン８％； 水酸化カリウム１％； １２ＥＯのＣＩ２アミン付加生成物５％。

ペンジルジメヂル＝２−ヒドロキンドデシルアンモニウ
ムイソパルミヂン酸塩３％および十分に脱塩した水６５
％。

」１記組成を有する洗浄剤は、良好な洗浄効果を示すと
同時に、処理した表面でむらがなく垂れることのない流
出挙動を示した。

本発明の第４級アンモニウム化合物を用いたため、洗浄
剤溶液で処理した金属表面および物品の耐腐食性は、通
常の洗浄で処理した金属表面および物品の耐腐食性より
も著しく改良された。

実施例１０ 比較腐食試験 以下の試験において、２種の溶液の腐食防止性を比較し
た。その１つは、公知の第４級アンモニラｌい化合物と
してデハイクオート（Ｄ　ｅｈｙｑｕａｒｔ。

、　　商標）ＬＤＢ（ヘンケル社製）を含有するもので
あり、他の１つは、本発明の第４級アンモニウム化合物
としてＢｒ）ＨＡＴを含有するものである。

試験は、処方Ｉおよび■の濃縮液を含有する十分に脱塩
した（ｆ’、ｄ、）水と２０°ｄ水において、１％〜３
％の濃度を有する溶液を用いて、ＤｒＮ５１３６０／２
のチップ試験に従って行なった：Ｉ：デハイクオートＬ
　Ｄ　Ｂ　（活性成分の含有量：３５％月２．５％。

ジェタノールアミン３７．５％； 水残部。

ＩＴ：ＢＤＨＡＩ（活性成分の含有４８０％）５．５％
。

ジェタノールアミン３７．５％； 水残部。

結果を下表に要約した。

＝３１− ＤｒＮ５１３６０／２による腐食度 ２欄と４欄、および３欄と５欄とをそれぞれ比較すると
、ＢＤＨＡＴは、著しく改良された抗腐食性を有するこ
とが明らかである。

特許出願人　ヘンケル・コマンディットゲゼルシャフト
・アウフ・アクチェン 代　理　人　弁理士　青白　葆　ほか２名−３２〜

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式： Ｒ＾１−ＣＨＯＨ−ＣＨＲ＾２−Ｎ＾＋Ｒ＾３Ｒ＾４Ｒ
   ＾５・Ｒ＾６ＣＯ＿２−［ I ］〔式中、 Ｒ＾１は、１〜２２の炭素原子を有する直鎖または分枝
   状アルキル基を表わし； Ｒ＾２は、水素または１〜２１の炭素原子を有する直鎖
   または分枝状アルキル基を表わし、置換基Ｒ＾１とＲ＾
   ２の炭素原子の総数は、８〜２２の範囲にあり； Ｒ＾３およびＲ＾４は、同一または異なって、メチル、
   エチル、２−ヒドロキシエチルまたは２−ヒドロキシプ
   ロピルを表わし； Ｒ＾５は、４〜６の炭素原子を有するアルキル基または
   アルキル基に１〜３の炭素原子を有するフェニルアルキ
   ル基を表わし； また Ｒ＾６は、４〜１５の炭素原子を有する直鎖または分枝
   状アルキル基を表わす。〕 で示される第４級アンモニウム化合物からなることを特
   徴とするカチオン界面活性剤。
2. （２）一般式［ I ］において、Ｒ＾１が８〜２２の炭
   素原子を有するアルキル基であり、Ｒ＾２が水素原子で
   ある特許請求の範囲第１項記載のカチオン界面活性剤。
3. （３）一般式［ I ］において、Ｒ＾１がデシルまたは
   テトラデシル基である特許請求の範囲第２項記載のカチ
   オン界面活性剤。
4. （４）一般式［ I ］において、Ｒ＾３およびＲ＾４が
   メチル基を表わす特許請求の範囲第１項記載のカチオン
   界面活性剤。
5. （５）一般式［ I ］において、Ｒ＾５がベンジルまた
   はｎ−ブチル基を表わす特許請求の範囲第１項記載のカ
   チオン界面活性剤。
6. （６）一般式［ I ］において、Ｒ＾６がイソオクチル
   基を表わす特許請求の範囲第１項記載のカチオン界面活
   性剤。
7. （７）ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアン
   モニウムイソノナノエートである特許請求の範囲第１項
   記載のカチオン界面活性剤。
8. （８）ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアン
   モニウムの９／１３−ベルサト酸塩である特許請求の範
   囲第１項記載のカチオン界面活性剤。
9. （９）ベンジルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアン
   モニウムイソパルミテートである特許請求の範囲第１項
   記載のカチオン界面活性剤。
10. （１０）ブチルジメチル−２−ヒドロキシドデシルアン
    モニウムイソノナノエートである特許請求の範囲第１項
    記載のカチオン界面活性剤。
11. （１１）ベンジルジメチル−２−ヒドロキシヘキサデシ
    ルアンモニウムイソノナノエートである特許請求の範囲
    第１項記載のカチオン界面活性剤。
12. （１２）噴霧可能な洗浄剤、浸漬洗浄剤、工業用洗浄剤
    溶液または他の洗浄剤に対する解乳化添加剤として使用
    する特許請求の範囲第１項〜第１１項のいずれかに記載
    のカチオン界面活性剤。