JP5070298B2

JP5070298B2 - 界面活性剤

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Publication number: JP5070298B2
Application number: JP2009546250A
Authority: JP
Inventors: 敏明岩瀬; 純黒岩; 正憲吉田; 勝也上西; 光英村山
Original assignee: Chuo Kagaku Co Ltd; Aisin AW Co Ltd
Current assignee: Chuo Kagaku Co Ltd; Aisin AW Co Ltd
Priority date: 2007-12-14
Filing date: 2008-12-12
Publication date: 2012-11-07
Anticipated expiration: 2028-12-12
Also published as: US20100191014A1; CN101932688B; CN101932688A; US8110707B2; JP2009161752A; JP5385602B2; JPWO2009078369A1; WO2009078369A1; DE112008003374T5; DE112008003374B4

Description

本発明は、第四級アンモニウム塩からなる新規な界面活性剤に関する。

従来、界面活性剤は、例えば、キレート剤、アルカリ剤等と共に水に混合した洗浄液として金属部材の洗浄等に用いられる。この場合、界面活性剤は、金属部材の表面に付着している油性の汚れに集結して汚れを包含するミセルを形成し、液中に拡散することで汚れを除去する。キレート剤は、清浄な金属部材の表面と汚れとの界面に存在する酸化皮膜を洗浄液中に溶解して洗浄効果を高める。アルカリ剤は、界面活性剤との相互作用で洗浄力を向上させるもので、洗浄液中で汚れを反応によって可溶性にして分散させると共に、界面活性剤の臨界ミセル濃度及び界面張力を低下させて、洗浄液の汚れへの濡れ性、浸透性等を改善する。

一般に、界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤に分類される。これらのうち、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等は、洗浄力を有しており、洗浄液の主要成分として用いられる。一方、カチオン性界面活性剤は、油分との親和性が良いため、例えば、金属部材等の洗浄において、アニオン性界面活性剤や両性界面活性剤等を含む洗浄液と共に用いられ、洗浄液に油分が可溶化・乳化するのを防止し、乳化状態にある洗浄液に対しては乳化したものを破壊して、洗浄液の洗浄力を長期間持続させる。このようなカチオン性界面活性剤としては、第四級アンモニウム塩が知られている（例えば、特許文献１，２参照）。
特開平６−２９３８９６号公報特開２００５−１８７６２２号公報

しかし、前記従来の洗浄液では、洗浄液が発泡し、洗浄容器等から溢れ出るという問題があった。特に、金属部材の洗浄等では、スプレー洗浄を採用しており、この場合には金属部材の表面が泡に覆われてしまい、洗浄効果が低減する虞もあった。さらに、洗浄後においても、洗浄液を金属部材の表面から落下させた場合に貯留槽等で発泡することがあった。また、洗浄後に水洗工程を伴わないスプレー洗浄の場合には、金属部材等の被洗浄物の表面に洗浄残渣が残り易いという問題もあった。

一方、第四級アンモニウム塩等の従来のカチオン性界面活性剤は、金属部材の洗浄等においては、通常、補助添加剤として、両性界面活性剤等と共に用いられるものであるため、カチオン性界面活性剤自体には洗浄力が求められていなかった。

本発明は上記問題に鑑み案出されたものであり、カチオン性界面活性剤であって、高い洗浄力を有し、低発泡性の新規な界面活性剤を提供することを目的とする。

上記目的を達成するための本発明に係る界面活性剤の特徴構成は、式（１）

（式中、Ｒ１は炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基を表し、
Ｒ２は水素原子、メチル基、ベンジル基、または式（２）

で示される置換基を表し、
Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表し、
ｋは０〜２２の整数である。）
で示される点にある。

本構成によれば、式（１）で示される界面活性剤を洗浄液に用いることにより、高い洗浄力で、発泡を抑制して洗浄することができる。
また、式（１）で示される界面活性剤は、カチオン性界面活性剤であり、洗浄液に油分が可溶化・乳化するのを防止できるため、洗浄液の洗浄力を長期に亘って持続させることもできる。

本発明に係る界面活性剤において、前記Ｒ１はｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、またはｎ−デシル基であることが好ましい。

本発明に係る界面活性剤において、前記Ｘ⁻はカプロン酸イオン、カプリル酸イオン、またはカプリン酸イオンであることが好ましい。

本発明に係る界面活性剤は、スプレー洗浄用組成物として用いる場合に、特に適している。

本発明に係る界面活性剤（以下、「本発明界面活性剤」と称する場合がある。）は、式（１）で示されるアルキル第四級アンモニウムの脂肪酸塩（以下、「第四級アンモニウム塩」と称する場合がある。）である。

で示される置換基を表し、
Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表し、
ｋは０〜２２の整数である。）

式（１）において、Ｒ１、及びＸ⁻は、下記の基が挙げられる。
Ｒ１で示される炭素数６〜１０のアルキル基としては、例えば、ｎ−ヘキシル基、１，２−ジメチルブチル基等のヘキシル基の構造異性体、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基等のヘプチル基の構造異性体、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等のオクチル基の構造異性体、ｎ−ノニル基、１，２，３−トリメチルヘキシル基等のノニル基の構造異性体、ｎ−デシル基、１，２−ジエチルヘキシル基等のデシル基の構造異性体が挙げられる。

Ｘ⁻で示される炭素数６〜１０の脂肪酸イオンとしては、例えば、カプロン酸イオン（ヘキサン酸イオン）、２，２−ジメチルブタン酸イオン等のカプロン酸イオンの構造異性体、エナント酸イオン（ヘプタン酸イオン）、２−メチルカプロン酸イオン等のエナント酸イオンの構造異性体、カプリル酸イオン（オクタン酸イオン）、２−エチルカプロン酸イオン等のカプリル酸イオンの構造異性体、ペラルゴン酸イオン（ノナン酸イオン）、３−メチルカプリル酸イオン等のペラルゴン酸イオンの構造異性体、カプリン酸イオン（デカン酸イオン）、２，３−ジメチルカプリル酸イオン等のカプリン酸イオンの構造異性体が挙げられる。また、脂肪酸イオンとしては、飽和脂肪酸イオンに限らず、不飽和脂肪酸イオンも適用可能である。

式（１）に示される第四級アンモニウム塩の態様としては、例えば、以下のアンモニウム塩が挙げられる。
式（１）において、Ｒ１が、炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ１が、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、またはｎ−デシル基であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ２が、水素原子、メチル基、ベンジル基、または式（２）で示される置換基であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ２が、メチル基、または式（２）で示される置換基であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ２が、式（２）で示される置換基であり、ｋが０〜２２のいずれかであるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ２が、式（２）で示される置換基であり、ｋが１〜４のいずれかであるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ２が、式（２）で示される置換基であり、ｋが１または２であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ１が、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、またはｎ−デシル基であり、Ｒ２が、メチル基、または式（２）で示される置換基であり、ｋが１または２であるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｘ⁻が、カプロン酸イオン、カプリル酸イオン、またはカプリン酸イオンであるアンモニウム塩、
式（１）において、Ｒ１が、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、またはｎ−デシル基であり、Ｒ２が、メチル基、または式（２）で示される置換基であり、ｋが１または２であり、Ｘ⁻が、カプロン酸イオン、カプリル酸イオン、またはカプリン酸イオンであるアンモニウム塩。

尚、式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基である場合、本発明界面活性剤は、カチオン性（陽イオン性）とノニオン性（非イオン性）の両方の性質を有する。ノニオン性の度合いはｋの数によって決まり、ｋが大きくなるとノニオン性が強くなる。このため、本発明界面活性剤は、ｋが大きくなると、水溶性が高まり炭素数の多い脂肪酸イオンを対イオンとして使用可能になるが、カチオン性は弱くなるため、洗浄力、油分離性、ｐＨ緩衝作用等は低下する。したがって、ｋは０〜２２の範囲に設定する。

次に、式（１）で示される第四級アンモニウム塩を構成する第四級アンモニウムの具体例を示す。
式（１）において、Ｒ２が水素原子であるアルキル第四級アンモニウムとしては、例えば、２，３−ジヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム、２，３−ジヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム、２，３−ジヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム、２，３−ジヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム、２，３−ジヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウムが挙げられる。

式（１）において、Ｒ２がメチル基である第四級アンモニウムとしては、例えば、３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム、３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム、３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム、３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム、３−メトキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウムが挙げられる。

式（１）において、Ｒ２がベンジル基である第四級アンモニウムとしては、例えば、３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム、３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム、３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム、３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム、３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウムが挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが１である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−オキシエチレンオキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−オキシエチレンオキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−オキシエチレンオキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−オキシエチレンオキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−オキシエチレンオキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが２である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−ジ（オキシエチレン）オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ジ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ジ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−ジ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−ジ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが４である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−テトラ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−テトラ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−テトラ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−テトラ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−テトラ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが９である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−ノナ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ノナ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ノナ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−ノナ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−ノナ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが１３である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−トリデカ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−トリデカ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−トリデカ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−トリデカ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−トリデカ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが２２である第四級アンモニウムとしては、例えば、３，３’−ドコサ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ドコサ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチル−２−エチルヘキシルアンモニウム)、３，３’−ドコサ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)、３，３’−ドコサ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルデシルアンモニウム)、３，３’−ドコサ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム)が挙げられる。

これらの第四級アンモニウムは、例えば、カプロン酸イオン、カプリル酸イオン、またはカプリン酸イオンと、アルキル第四級アンモニウムの脂肪酸塩を構成する。

式（１）で示される第四級アンモニウム塩は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、下記式で示すように、水を溶媒として、アルキルジメチルアミン（第三級アミン）と脂肪酸とを室温で等モル混合し、アルキルジメチルアミンの脂肪酸塩を生成させる。その後、生成したアルキルジメチルアミンの脂肪酸塩に対し、グリシジルアルコールまたはアルキルグリシジルエーテルをエポキシ当量で等モル加え、室温（２５℃）〜８０℃で１〜１０時間攪拌することにより第四級アンモニウム塩を製造することができる。

（式中、Ｒ１は炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基を表し、ＨＸは炭素数６〜１０の脂肪酸を表し、Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表す。）

(式中、Ｒ１は炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基を表し、Ｒ２は水素原子、メチル基、またはベンジル基を表し、Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表す。)

また、式（１）において、Ｒ２が式（２）で示される置換基である第四級アンモニウム塩の場合には、下記式で示すように、生成したアルキルジメチルアミンの脂肪酸塩に対し、(オキシエチレン)_ｋジグリシジルエーテルをエポキシ当量で等モル加え、室温〜８０℃で１〜１０時間攪拌することにより製造することができる。

（式中、Ｒ１は炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基を表し、Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表し、ｋは０〜２２の整数である。)

本発明界面活性剤の製造に用いるアルキルジメチルアミンとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルカプリルアミン（Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミン）、Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアミン等が挙げられ、これらは公知の方法によって製造することができる。
アルキルグリシジルエーテルとしては、例えば、グリシジルメチルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。アルキルグリシジルエーテル及びグリシジルアルコールは公知の方法によって製造することができる。
(オキシエチレン)_ｋジグリシジルエーテルとしては、例えば、オキシエチレンジグリシジルエーテル（エチレングリコールジグリシジルエーテル）、ジオキシエチレンジグリシジルエーテル（ジエチレングリコールジグリシジルエーテル）等が挙げられ、これらは公知の方法によって製造することができる。

本発明界面活性剤は、例えば、水と混合した洗浄液として用いることができる。この場合、本発明界面活性剤は、特に限定はされないが、洗浄液の０．０５〜５重量％（質量％）含有させることが好ましく、０．１〜５重量％含有させることがより好ましい。

本発明界面活性剤を水と混合した洗浄液は、例えば、鉄鋼製品等の金属部材の洗浄に適用することができる。金属部材の洗浄としては、焼き入れ等の熱処理を施す場合に、金属部材の表面に防炭剤等の水溶性の液剤を塗布できるように切削工程等で付着した加工油等を除去するための洗浄、熱処理の工程において使用された急冷油を除去するための洗浄、熱処理後の防炭剤の除去やショットブラスト処理によるショット粉塵・スチールポール等の除去のための洗浄等が挙げられる。

本発明界面活性剤を適用可能な洗浄方法としては、特に限定はされないが、例えば、スプレー洗浄、浸漬洗浄、電解洗浄、振動洗浄等が例示される。本発明界面活性剤は、いずれの洗浄方法においても、従来の界面活性剤に比べて高洗浄力と低発泡性を実現可能である。金属部材等のスプレー洗浄の場合には、特に洗浄液の発泡が顕著であるため、本発明界面活性剤をスプレー洗浄用組成物として用いることで、発泡に対する大きな抑制効果が期待でき、好ましい。
尚、本発明界面活性剤においては、式（１）のＲ１及びＸ⁻は、炭素数が少なくなると親油性が低下し、洗浄力が低下する。一方、洗浄の際に形成される泡は、疎水基（アルキル基）が外側、親水基が内側の２重構造をとると考えられ、アルキル基の炭素数が少ない方が、安定性が悪く、つぶれ易くなるため、発泡に対する抑制効果が高くなる。したがって、Ｒ１及びＸ⁻は、炭素数が６〜１０の場合に、最も効果が高くなる。

また、一般に、脂肪酸は、炭酸に比べて酸解離定数（ｐＫａ）が大きいため、炭酸に優先して有機または無機のカチオンと塩を形成する。このため、本発明界面活性剤を用いることで、溶存二酸化炭素が炭酸塩を形成し難くなり、洗浄後に金属部材等の表面に炭酸塩が残留して白粉やシミが発生することも防止できる。

洗浄に際して本発明界面活性剤を使用する温度は、特に制限はなく、任意に設定可能である。一般に、界面活性剤を含む洗浄液は加温して使用すると脱脂力等の洗浄力が向上する。一方、５〜３５℃の常温で使用すると洗浄力が低下すると共に洗浄液の発泡が顕著になる。本発明界面活性剤においても、例えば５０〜９０℃に加温して使用することは好ましい態様であるが、本発明界面活性剤の場合には、例えば常温でも高洗浄力と低発泡性とを維持することができるため、好ましく使用することができる。すなわち、本発明界面活性剤であれば、使用温度に制限がないため、例えば、５０〜９０℃で洗浄する高温洗浄工程と、５〜３５℃の常温で洗浄する低温洗浄工程とがあるような工場等においても、両方の洗浄工程で本発明界面活性剤を含む同一の洗浄液を使用することができ、洗浄液の管理等の手間を低減することができる。

本発明界面活性剤は、単体で用いることもできるが、キレート剤、アルカリ剤等を含む洗浄用組成物として使用することもできる。このような洗浄組成物は、例えば、水と混合した洗浄液として用いることができる。この場合、洗浄組成物は、特に限定はされないが、本発明界面活性剤を洗浄液の０．０５〜５重量％、キレート剤を洗浄液の０．０２〜３重量％、アルカリ剤を０．０５〜５重量％含有させることが好ましい。

アルカリ剤は、界面活性剤との相互作用で洗浄力を向上させるもので、洗浄液中で汚れを反応によって可溶性にして分散させる共に、界面活性剤の臨界ミセル濃度及び界面張力を低下させて、洗浄液の汚れへの濡れ性、浸透性等を改善することができる。キレート剤は、清浄な金属部材等の表面と汚れとの界面に存在する酸化皮膜を洗浄液中に溶解して洗浄効果を高めると共に光輝性を出させることができる。また、キレート剤は、洗浄液のｐＨを９〜１１に維持することができるため、空気中から溶け込む溶存二酸化炭素の増加を抑えて、炭酸塩が形成され、金属部材等の表面に析出して、白粉やシミ等の不具合を生じることも防止できる。

キレート剤としては、例えば、アミノカルボン酸型キレート剤、ポリカルボン酸型キレート剤等が挙げられる。
アミノカルボン酸型キレート剤は、例えば、式（３）

（式中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルケニル基、または式（４）

で示される置換基を表し、ｑは０〜３の整数である。）
で示されるキレート剤等が挙げられる。具体例としては、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニトリロトリ酢酸、Ｌ−アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸等が挙げられる。

ポリカルボン酸型キレート剤としては、例えば、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、アクリル酸、またはマレイン酸の重合体、または共重合体であって、式（５）

（式中、Ｒ４〜Ｒ９は水素原子、炭素数１〜５のアルコキシル基、カルボキシル基、または水酸基を表し、Ｍは水素原子、炭素数１〜４のアルキルアミン、または炭素数１〜６のアルカノールアミンを表し、ｒ／ｓ（共重合モル比）が０／１０〜１０／１であり、平均分子量が１０００〜１０００００である。）
で示される水溶性高分子カルボン酸化合物等が挙げられる。
尚、キレート剤は、公知の化合物であり、従来公知の方法によって製造可能である。また、市場から入手することもできる。

アルカリ剤としては、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等、特に限定されないが、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の式（６）

（式中、Ｒ^１０は炭素数２または３のアルキレン基を表し、ｍは１〜３の整数である。）
で示されるアルカノールアミン；
エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の式（７）

（式中、ｎは１〜５の整数である。）
で示されるエチレンアミン；
メトキシプロピルアミン、エトキシプロピルアミン等の式（８）

（式中、Ｒ^１１は炭素数２または３のアルキレン基を表し、Ｒ^１２は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ｔは１〜３の整数である。）
で示されるアルコキシアルキルアミン；
オクチルアミン、デシルアミン等の式（９）

（式中、Ｒ^１３は炭素数４〜１０のアルキル基を表す。）
で示されるアルキルアミン；
式（１０）

（式中、ｐは分子量が３００〜７０００の範囲となる整数である。）
で示されるポリエチレンイミン等が挙げられる。
尚、これらのアルカリ剤は、公知の化合物であり、従来公知の方法によって製造可能である。また、市場から入手することもできる。

本発明界面活性剤を含む洗浄液には、本発明の作用を阻害しない範囲で、さらに、オキシエチレンオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のエーテル型のノニオン性界面活性剤や、アミンオキサイド等の両性界面活性剤、その他の従来公知のビルダー等を含有させることもできる。

以下に、本発明を用いた実施例を示し、本発明をより詳細に説明する。但し、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明界面活性剤は、５００ｍｌの四つ口フラスコに、水１００ｇ（５．６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルカプリルアミン１５．７ｇ（０．１モル）、及びカプリル酸１４．４ｇ（０．１モル）を入れ、室温で攪拌しながら、ジエチレングリコールグリシジルエーテルを１５ｇ（０．０５モル）添加した後、３０〜８０℃で約６時間攪拌し、式（１）において、Ｒ１がｎ−オクチル基（カプリル基）であり、Ｒ２が式（２）で示される置換基であり、ｋが２であり、Ｘ⁻がカプリル酸である、３、３’−ジ(オキシエチレン)オキシ−ビス(２−ヒドロキシプロピルジメチルオクチルアンモニウム)カプリル酸塩を得た。
また、その他のアルキル第四級アンモニウムの脂肪酸塩についても、同様の方法で調製した。

本発明界面活性剤と、アルカリ剤としてのモノプロパノールアミンと、キレート剤としてのエチレンジアミン四酢酸とを、表１に示す濃度となるように水に混合し、洗浄液を調製した。調製した洗浄液を用い、表２に示す条件で洗浄し、洗浄力と発泡性について評価した。その結果を表３に示した。
洗浄力は、洗浄後の被洗浄物の残留油分を、油分測定計（堀場製作所製ＯＣＭＡ−３５０）を用いて測定し、残留油分値７．０ｍｇ未満をＡ，７．０〜８．０ｍｇをＢ、８．０ｍｇ以上をＣとした。発泡性は、「ＪＩＳ（日本工業規格、Japanese Industrial Standards）Ｋ−３３６２．８．５ｅ（起泡力と泡の安定度）」に基づいて評価し、泡の高さ２ｍｍ以下をＡ、２〜５ｍｍをＢ、５ｍｍ以上をＣとした。
また、比較例として、式（１）において、Ｒ１、Ｘ⁻が本発明界面活性剤と異なる界面活性剤、及び従来の界面活性剤を用い、同様の方法によって洗浄力と発泡性について評価し、その結果を表４に示した。尚、従来品Ａは、アルキルアミンオキサイドを主要成分とする洗浄液であり、従来品Ｂは、ポリオキシエチレンを主要成分とする洗浄液であり、従来品Ｃは、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコールを主要成分とする洗浄液であり、従来品Ｄは、特殊アルキルホスフェートを主要成分とする洗浄液であり、従来品Ｅはポリオキシエチレンパラクミルフェニルエーテルを主要成分とする洗浄液である。
その結果、式（１）において、Ｒ１が炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基であり、Ｘ⁻が炭素数６〜１０の脂肪酸イオンである界面活性剤を用いた場合のみ、高い洗浄力と低発泡性とが両立できることを確認できた。

本発明に係る界面活性剤は、例えば、金属部材の洗浄等に用いることができる。

Claims

式（１）

（式中、Ｒ１は炭素数６〜１０のアルキル基、またはベンジル基を表し、
Ｒ２は水素原子、メチル基、ベンジル基、または式（２）

で示される置換基を表し、
Ｘ⁻は炭素数６〜１０の脂肪酸イオンを表し、
ｋは０〜２２の整数である。）
で示される界面活性剤。
前記Ｒ１はｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、またはｎ−デシル基である請求項１に記載の界面活性剤。
前記Ｘ⁻はカプロン酸イオン、カプリル酸イオン、またはカプリン酸イオンである請求項１または２に記載の界面活性剤。
請求項１〜３のいずれか１項に記載の界面活性剤を含有するスプレー洗浄用組成物。