JPS61192033A - 磁気デイスク媒体の製造方法 - Google Patents
磁気デイスク媒体の製造方法Info
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- JPS61192033A JPS61192033A JP3305085A JP3305085A JPS61192033A JP S61192033 A JPS61192033 A JP S61192033A JP 3305085 A JP3305085 A JP 3305085A JP 3305085 A JP3305085 A JP 3305085A JP S61192033 A JPS61192033 A JP S61192033A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ディスク媒
体の製造方法に係り、特に保磁力の温度特性を損なわず
に耐久性及びＳ／Ｎ特性の良好な磁気ディスク媒体の製
造方法に関するものである。
体の製造方法に係り、特に保磁力の温度特性を損なわず
に耐久性及びＳ／Ｎ特性の良好な磁気ディスク媒体の製
造方法に関するものである。
スパッタリング法等の薄膜形成工程によって形成される
γ−Ｆｅ ２０３などの金属酸化物系の連続薄膜型磁気
ディスク媒体は、塗布法により形成される磁気ディスク
媒体のようにバインダ等を含まないので、残留磁束密度
Ｂｒが大きく高出力が得られ、又極めて薄い磁性膜も得
られるので、高密度記録化に有利である。
γ−Ｆｅ ２０３などの金属酸化物系の連続薄膜型磁気
ディスク媒体は、塗布法により形成される磁気ディスク
媒体のようにバインダ等を含まないので、残留磁束密度
Ｂｒが大きく高出力が得られ、又極めて薄い磁性膜も得
られるので、高密度記録化に有利である。
このような連続薄膜型磁気ディスク媒体には、■高出力
で、かつ高密度記録が得られることは勿論のこと、■信
号記録の均−性及び記録信号出力の安定性が高く、しか
もＳ／Ｎ特性が良好なこと、■機械的強度に優れ、耐摩
耗性等の耐久性の向上などが要求される。
で、かつ高密度記録が得られることは勿論のこと、■信
号記録の均−性及び記録信号出力の安定性が高く、しか
もＳ／Ｎ特性が良好なこと、■機械的強度に優れ、耐摩
耗性等の耐久性の向上などが要求される。
ところで従来、スパッタリング法等の薄膜形成工程によ
って、例えばγ−Ｆｅ ２０３からなる金属酸化物系の
連続薄膜型磁気ディスク媒体を作成するには、非、磁性
のディスク基板上に、熱処理温度マージンの拡大と磁気
・再生特性の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕを各
々数％づつ添加したＦｅを主成分とするターゲットを用
いた反応性スパッタリング法によ―てα−Ｆｅ２０３か
らなる連続薄膜を被着形成し、該α−Ｆｅ２０３連続薄
膜を湿潤Ｈ２雰囲気中で熱処理（還元）を行って、Ｆｅ
３０４薄膜を形成する。
って、例えばγ−Ｆｅ ２０３からなる金属酸化物系の
連続薄膜型磁気ディスク媒体を作成するには、非、磁性
のディスク基板上に、熱処理温度マージンの拡大と磁気
・再生特性の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕを各
々数％づつ添加したＦｅを主成分とするターゲットを用
いた反応性スパッタリング法によ―てα−Ｆｅ２０３か
らなる連続薄膜を被着形成し、該α−Ｆｅ２０３連続薄
膜を湿潤Ｈ２雰囲気中で熱処理（還元）を行って、Ｆｅ
３０４薄膜を形成する。
その後、このＦｅ３０４薄膜を更に大気中において熱処
理（Ｍ化）することによって、γ Ｆｅ２０３からなる
磁性ＷＩ膜が形成された磁気ディスク媒体を得る方法が
知られている。
理（Ｍ化）することによって、γ Ｆｅ２０３からなる
磁性ＷＩ膜が形成された磁気ディスク媒体を得る方法が
知られている。
ところが上記のような製造方法によって形成されたγ−
Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜に含まれる前記各添加物の
内、Ｔｉは前記基板に対する該薄膜の密着性を高め、Ｃ
ｕと共に前記還元、酸化熱処理時の温度マージンを拡げ
ることに！与する。またＧｏはその添加量に比例して保
磁力（Ｈｃ）が大きくなる。
Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜に含まれる前記各添加物の
内、Ｔｉは前記基板に対する該薄膜の密着性を高め、Ｃ
ｕと共に前記還元、酸化熱処理時の温度マージンを拡げ
ることに！与する。またＧｏはその添加量に比例して保
磁力（Ｈｃ）が大きくなる。
更にＣｕはその添加量に比例して結晶粒径を小さくし、
Ｓ／Ｎ特性を向上させることができるが、その反面、該
結晶粒径が小さくなると、結晶粒界が増加し、この結晶
粒界の増加に起因して薄膜の機械的強度が低下して耐久
性が悪くなる。また更にＣｕの添加により保磁力（Ｈｃ
）の温度特性が悪くなるといった問題がある。
Ｓ／Ｎ特性を向上させることができるが、その反面、該
結晶粒径が小さくなると、結晶粒界が増加し、この結晶
粒界の増加に起因して薄膜の機械的強度が低下して耐久
性が悪くなる。また更にＣｕの添加により保磁力（Ｈｃ
）の温度特性が悪くなるといった問題がある。
このような関係から、従来の製造方法によって形成され
たγ−Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜を有する磁気ディス
ク媒体においては、該磁性薄膜の膜厚方向に小さい結晶
粒径が均一に分布していることから、該薄膜の機械的強
度が低下して耐久性が悪く、また膜厚方向の保磁力（Ｈ
ｃ）が磁気ヘッドからの記録磁界強度分布と対応しない
ことから、充分な記録・再生特性が得られない欠点があ
った。
たγ−Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜を有する磁気ディス
ク媒体においては、該磁性薄膜の膜厚方向に小さい結晶
粒径が均一に分布していることから、該薄膜の機械的強
度が低下して耐久性が悪く、また膜厚方向の保磁力（Ｈ
ｃ）が磁気ヘッドからの記録磁界強度分布と対応しない
ことから、充分な記録・再生特性が得られない欠点があ
った。
上記問題点は、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕの内の少なくとも１種
以上を含有するＦｅを主成分とするターゲットを用いた
スパッタリング工程により、ディスク基板上に磁性薄膜
を形成する構成において、上記ターゲットを、前記含有
成分量の異なる少なくとも２枚のＦｅ板状部材を円板状
に組み合わせて構成し、該ターゲットを微小回転しなが
らスパッタリングを行って、ディスク基板上に含有成分
量が膜厚の厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜
を形成する本発明による磁気ディスク媒体の製造方法に
よって解決される。
以上を含有するＦｅを主成分とするターゲットを用いた
スパッタリング工程により、ディスク基板上に磁性薄膜
を形成する構成において、上記ターゲットを、前記含有
成分量の異なる少なくとも２枚のＦｅ板状部材を円板状
に組み合わせて構成し、該ターゲットを微小回転しなが
らスパッタリングを行って、ディスク基板上に含有成分
量が膜厚の厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜
を形成する本発明による磁気ディスク媒体の製造方法に
よって解決される。
即ち、スパッタリング工程に用いるターゲットとしては
、例えばＴｉ、Ｇｏ、Ｃｕをそれぞれ微量に添加含有さ
せた一方のＦｅ板状部材と微量なＴｉ、 ＣｏとＣｕを
多く添加含有させた他方のＦｅ板状部材とを陰極上に貼
り合わせて配置した円板状ターゲットを用意し、該円板
状ターゲットを磁性薄膜を形成すべきディスク基板面に
対向配置して、該ディスク基板を一定速度で回転させる
と共に、前記ターゲットをＣｕ含有量が多い領域面より
少ない領域面方向に微速回転させた状態でスパッタリン
グを行うことにより、該ディスク基板上にＣｕ含有成分
量が基板面側で多く、膜表面側で少なくなるように膜厚
の厚さ方向に連続的に変化した磁性薄膜を形成すること
が可能となる。
、例えばＴｉ、Ｇｏ、Ｃｕをそれぞれ微量に添加含有さ
せた一方のＦｅ板状部材と微量なＴｉ、 ＣｏとＣｕを
多く添加含有させた他方のＦｅ板状部材とを陰極上に貼
り合わせて配置した円板状ターゲットを用意し、該円板
状ターゲットを磁性薄膜を形成すべきディスク基板面に
対向配置して、該ディスク基板を一定速度で回転させる
と共に、前記ターゲットをＣｕ含有量が多い領域面より
少ない領域面方向に微速回転させた状態でスパッタリン
グを行うことにより、該ディスク基板上にＣｕ含有成分
量が基板面側で多く、膜表面側で少なくなるように膜厚
の厚さ方向に連続的に変化した磁性薄膜を形成すること
が可能となる。
従って、耐久性、記録・再生特性及びＳ／Ｎ特性の良好
な磁気ディスク媒体を容易に製作することができる。
な磁気ディスク媒体を容易に製作することができる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明子
る。
る。
第１図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製造方法に用
いるスパッタリング用のターゲットの一実施例を示す斜
視図、第２図は本発明の製造方法に通用するスパッタリ
ング装置の概略構成図である。
いるスパッタリング用のターゲットの一実施例を示す斜
視図、第２図は本発明の製造方法に通用するスパッタリ
ング装置の概略構成図である。
本発明の製造方法の第１実施例としては、先ずスパッタ
リング用のターゲットとして第１図に示すように、例え
ばＴｉ、Ｃｏ、Ｃｕをそれぞれ微量に添加含有させた一
方のＦｅ板状部材２と、微量なＴｉ、 Ｃ。
リング用のターゲットとして第１図に示すように、例え
ばＴｉ、Ｃｏ、Ｃｕをそれぞれ微量に添加含有させた一
方のＦｅ板状部材２と、微量なＴｉ、 Ｃ。
とＣｕを多く添加含有させた他方のＦｅ板状部材３とを
極板４上に貼り合わせて構成した円板状ターゲット１を
用意する。
極板４上に貼り合わせて構成した円板状ターゲット１を
用意する。
上記円板状ターゲ□ソト１において、２枚のＦｅ板状部
材２と３とを図示のように互いにテーパ一部分Ａ同士を
重ね合わせて接合している所以は、スバッタリング中に
極板４がスバフタされて、極板部材が不純物として、形
成される薄膜に混入することを防止するためである。
材２と３とを図示のように互いにテーパ一部分Ａ同士を
重ね合わせて接合している所以は、スバッタリング中に
極板４がスバフタされて、極板部材が不純物として、形
成される薄膜に混入することを防止するためである。
次に、上記のように構成された円板状ターゲット１を第
２図に示すように配設されたディスク基板２２面に対し
て、マスク板２３を介し、Ｃｕ含有量が多い領域面を対
向する形に配置する。
２図に示すように配設されたディスク基板２２面に対し
て、マスク板２３を介し、Ｃｕ含有量が多い領域面を対
向する形に配置する。
即ち、上記円板状ターゲット１とマスク板２３及びディ
スク基板２２との配置関係は第３図に示すようにする。
スク基板２２との配置関係は第３図に示すようにする。
次に、装置２１内を一定の酸素（０２）ガスが添加され
た例えばアルゴン（Ａｒ）雰囲気とし、該雰囲気中で前
記基板２２を回転機構２４により５ ＰＰＭ程度の回転
速度で回転させると共に、対向する前記円板状ターゲッ
ト１もターゲット回転機構２５によりＣｕ含有口が多い
領域面より少ない領域面方向に微速回転させた状態でス
パッタリングを行って、第４図に示すように該基板２２
上に、所定の膜厚を有するα−Ｆｅ２０３からなる連続
薄膜３１を被着形成する。
た例えばアルゴン（Ａｒ）雰囲気とし、該雰囲気中で前
記基板２２を回転機構２４により５ ＰＰＭ程度の回転
速度で回転させると共に、対向する前記円板状ターゲッ
ト１もターゲット回転機構２５によりＣｕ含有口が多い
領域面より少ない領域面方向に微速回転させた状態でス
パッタリングを行って、第４図に示すように該基板２２
上に、所定の膜厚を有するα−Ｆｅ２０３からなる連続
薄膜３１を被着形成する。
次に、この該α−Ｆｅ２０３連続薄膜３１を湿潤Ｈ２雰
囲気中で熱処理（還元）を行って、第５図に示すように
Ｆｅ３０４薄膜３２を形成し、更にこのＦｅ３０４薄膜
３２を大気中において熱処理（酸化）することによって
、第６図に示すようにＣｕ含有成分量が基板面側で多く
、膜表面側で少なくなるように膜厚の厚さ方向に連続的
に変化したγ−Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜３３を形成
することが可能となる。
囲気中で熱処理（還元）を行って、第５図に示すように
Ｆｅ３０４薄膜３２を形成し、更にこのＦｅ３０４薄膜
３２を大気中において熱処理（酸化）することによって
、第６図に示すようにＣｕ含有成分量が基板面側で多く
、膜表面側で少なくなるように膜厚の厚さ方向に連続的
に変化したγ−Ｆｅ２０３からなる磁性薄膜３３を形成
することが可能となる。
従って、耐久性及びＳ／Ｎ特性の良好な磁気ディスク媒
体を容易に得ることができる。
体を容易に得ることができる。
第７図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製造方法の第
２実施例を説明ための要部平面図である。
２実施例を説明ための要部平面図である。
本実施例ではスパッタリング工程に用いられるターゲッ
トとして、例えばＴｉ、Ｃｏ、Ｃｕの添加物の内のＣｕ
添加含有量が多く、かつＣｏ添加含有量の少ない第１Ｆ
ｅ板状部材４２と、同じ＜ Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕの添加物
の内のＣｕ添加含有量が少なく、かつＣｏ添加含有量が
中位程度とした第２Ｆｅ板状部材４３と、同じ＜ Ｔｉ
。
トとして、例えばＴｉ、Ｃｏ、Ｃｕの添加物の内のＣｕ
添加含有量が多く、かつＣｏ添加含有量の少ない第１Ｆ
ｅ板状部材４２と、同じ＜ Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕの添加物
の内のＣｕ添加含有量が少なく、かつＣｏ添加含有量が
中位程度とした第２Ｆｅ板状部材４３と、同じ＜ Ｔｉ
。
Ｃｏ、 Ｃｕの添加物の内のＣｕ添加含有量が少なく、
かつＣｏ添加含有量の多い第３Ｆｅ板状部材４４とを極
板上に貼り合わせて配置した円板状ターゲット４１を用
意する。
かつＣｏ添加含有量の多い第３Ｆｅ板状部材４４とを極
板上に貼り合わせて配置した円板状ターゲット４１を用
意する。
しかして、このように構成された円板状ターゲ、：ｚｌ
−４１を、図示のようにディスク基板２２面に対し、マ
スク板２３を介してＣｕ含有量が多く、かつＣＯ添加含
有最の少ない第１Ｆｅ板状部材４２面が対向する形に配
置して、第２図に示すように装置２１内を一定のｒ！Ｉ
素（０２）ガスが添加された、例えばアルゴン（Ａｒ）
雰囲気にして前記基板２２を回転機構２４により５ Ｐ
ＰＭ程度の回転速度で回転させると共に、対向する前記
円板状ターゲット１も、ターゲット回転機構２５により
時計針の回転方向とは逆方向に微速回転させた状態でス
パッタリングを行って、該基板２２上に所定の膜厚を有
するα−Ｆｅ２０３からなる連続薄膜を被着形成する。
−４１を、図示のようにディスク基板２２面に対し、マ
スク板２３を介してＣｕ含有量が多く、かつＣＯ添加含
有最の少ない第１Ｆｅ板状部材４２面が対向する形に配
置して、第２図に示すように装置２１内を一定のｒ！Ｉ
素（０２）ガスが添加された、例えばアルゴン（Ａｒ）
雰囲気にして前記基板２２を回転機構２４により５ Ｐ
ＰＭ程度の回転速度で回転させると共に、対向する前記
円板状ターゲット１も、ターゲット回転機構２５により
時計針の回転方向とは逆方向に微速回転させた状態でス
パッタリングを行って、該基板２２上に所定の膜厚を有
するα−Ｆｅ２０３からなる連続薄膜を被着形成する。
以下、第１実施例と同様の製造工程により、Ｃｕ含有成
分量が基板面側で多く、膜表面側で少ない、又、Ｃｏ含
有成分量が基板面側で少なく、膜表面側で多くなるよう
に膜厚の厚さ方向に連続的に変化したγ−Ｆｅ２０３か
らなる磁性薄膜を形成することが可能となる。
分量が基板面側で多く、膜表面側で少ない、又、Ｃｏ含
有成分量が基板面側で少なく、膜表面側で多くなるよう
に膜厚の厚さ方向に連続的に変化したγ−Ｆｅ２０３か
らなる磁性薄膜を形成することが可能となる。
従って、耐久性、Ｓ／Ｎ特性及び膜厚方向に保磁力分布
の良好な磁気ディスク媒体を容易に得ることができる。
の良好な磁気ディスク媒体を容易に得ることができる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ディ
スク媒体の製造方法によれば、スパッタリング法によっ
てディスク基板上に添加物Ｔｉ、Ｃｏ。
スク媒体の製造方法によれば、スパッタリング法によっ
てディスク基板上に添加物Ｔｉ、Ｃｏ。
Ｃ’ｕの内の少なくとも１種以上の含有成分量を膜厚の
厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜を形成する
ことが可能となり、該磁性薄膜の保磁力の温度特性を劣
化させることなく、Ｓ／Ｎ特性及び記録・再生特性の優
れた高耐久性の磁気ディスク媒体を容易に得ることが出
来る利点を有する。
厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜を形成する
ことが可能となり、該磁性薄膜の保磁力の温度特性を劣
化させることなく、Ｓ／Ｎ特性及び記録・再生特性の優
れた高耐久性の磁気ディスク媒体を容易に得ることが出
来る利点を有する。
従って、スパッタリング法によってディスク基板上に、
複数種の添加物の内の少なくとも１種以上の含有成分量
を膜厚の厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜を
形成する各種磁気ディスク媒体の製造方法に適用して極
めて有利である。
複数種の添加物の内の少なくとも１種以上の含有成分量
を膜厚の厚さ方向に連続的に変化するように磁性薄膜を
形成する各種磁気ディスク媒体の製造方法に適用して極
めて有利である。
第１図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製造方法に用
いるスパンタリング用ターゲ ・／１・の一実施例を示す斜視図、 第２図は本発明の製造方法に適用するスパッタリング装
置の概略構成図、 第３図は円板状ターゲットとマスク板及びディスク基板
との配置関係を示す要部平面 図、 第４図乃至第６図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製
造方法の一実施例を工程順に 示す要部断面図、 第７図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製造方法の第
２実施例を説明するための要 部平面図である。 図中、１．４１は円板状ターゲ７）、２は一方のＦｅ板
状部材、３は他方のＦｅ板状部材、４は極板、２１はス
パッタリング装置、２２はディスク基板、２３はマスク
板、２４は基板回転機構、２５はターゲット回転機構、
３１はα−Ｆｅ２０３．３２はＦｅ３０４薄膜、３３は
γ−Ｆｅ２０３磁性薄膜、４２は第１Ｆｅ板状部材、４
３は第２Ｆｅ板状部材、４４は第３Ｆｅ板状部材をそれ
ぞれ示す。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
いるスパンタリング用ターゲ ・／１・の一実施例を示す斜視図、 第２図は本発明の製造方法に適用するスパッタリング装
置の概略構成図、 第３図は円板状ターゲットとマスク板及びディスク基板
との配置関係を示す要部平面 図、 第４図乃至第６図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製
造方法の一実施例を工程順に 示す要部断面図、 第７図は本発明に係る磁気ディスク媒体の製造方法の第
２実施例を説明するための要 部平面図である。 図中、１．４１は円板状ターゲ７）、２は一方のＦｅ板
状部材、３は他方のＦｅ板状部材、４は極板、２１はス
パッタリング装置、２２はディスク基板、２３はマスク
板、２４は基板回転機構、２５はターゲット回転機構、
３１はα−Ｆｅ２０３．３２はＦｅ３０４薄膜、３３は
γ−Ｆｅ２０３磁性薄膜、４２は第１Ｆｅ板状部材、４
３は第２Ｆｅ板状部材、４４は第３Ｆｅ板状部材をそれ
ぞれ示す。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕの内の少なくとも１種以上を含有する
Ｆｅを主成分とするターゲットを用いたスパッタリング
工程により、ディスク基板上に磁性薄膜を形成する磁気
ディスク媒体の製造方法であって、上記ターゲットを、
前記含有成分量の異なる少なくとも２枚のＦｅ板状部材
を円板状に組み合わせて構成し、該ターゲットを微小回
転しながらスパッタリングを行って、上記ディスク基板
上に含有成分量が、膜厚の厚さ方向に連続的に変化する
磁性薄膜を形成することを特徴とする磁気ディスク媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305085A JPS61192033A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3305085A JPS61192033A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192033A true JPS61192033A (ja) | 1986-08-26 |
Family
ID=12375940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3305085A Pending JPS61192033A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61192033A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03232963A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-16 | Nippon Steel Corp | セラミックス膜被覆方法 |
| WO2009154213A1 (ja) * | 2008-06-19 | 2009-12-23 | 東京エレクトロン株式会社 | マグネトロンスパッタ方法及びマグネトロンスパッタ装置 |
-
1985
- 1985-02-20 JP JP3305085A patent/JPS61192033A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03232963A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-16 | Nippon Steel Corp | セラミックス膜被覆方法 |
| WO2009154213A1 (ja) * | 2008-06-19 | 2009-12-23 | 東京エレクトロン株式会社 | マグネトロンスパッタ方法及びマグネトロンスパッタ装置 |
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