JPS6118959A - 防塵カセツト - Google Patents
防塵カセツトInfo
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- JPS6118959A JPS6118959A JP59140197A JP14019784A JPS6118959A JP S6118959 A JPS6118959 A JP S6118959A JP 59140197 A JP59140197 A JP 59140197A JP 14019784 A JP14019784 A JP 14019784A JP S6118959 A JPS6118959 A JP S6118959A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lid
- lower lid
- upper lid
- cassette
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、防塵カセットに関し、特に半導体製造装置に
都合良く使用されるフォトマスク又はレチクルの防塵カ
セットに関する。
都合良く使用されるフォトマスク又はレチクルの防塵カ
セットに関する。
ＩＣ，ＬＳＩ超ＬＳＩ等の半導体の製造上解決しなけれ
ばならない事項の一つとして、マスク又はレチクルへの
塵埃付着の問題がある。マスクに形成された超微細な回
路パターンなウェハに転写するとき、マスクに塵埃が付
着しているとウェハに転写された回路パターンの損害に
つながり、後工程を経て製品化されたＬＳＩ等の半導体
装置の性能を低下Ｓせるばかりでなく、最悪の場合半導
体装置の機能全体を損わせてしまう。
ばならない事項の一つとして、マスク又はレチクルへの
塵埃付着の問題がある。マスクに形成された超微細な回
路パターンなウェハに転写するとき、マスクに塵埃が付
着しているとウェハに転写された回路パターンの損害に
つながり、後工程を経て製品化されたＬＳＩ等の半導体
装置の性能を低下Ｓせるばかりでなく、最悪の場合半導
体装置の機能全体を損わせてしまう。
しかしながら従来の半導体製造装置に於いては作業員が
直接子によってマスク又はレチクルをマスクホルダーに
装填しなければならないため、人体からの塵埃がマスク
又はレチクルに付着する可能性が大きい。更に近年マス
クの直径が大きくなってきたことに伴ない手で扱いにく
くなってきており１作業員の取扱い上の不注意により、
マスクに傷をつけたり破損のおそれもある。
直接子によってマスク又はレチクルをマスクホルダーに
装填しなければならないため、人体からの塵埃がマスク
又はレチクルに付着する可能性が大きい。更に近年マス
クの直径が大きくなってきたことに伴ない手で扱いにく
くなってきており１作業員の取扱い上の不注意により、
マスクに傷をつけたり破損のおそれもある。
上述した問題点を解消するために半導体製造装置にマス
クを装填する際作業員の介在を極力避け、マスク又はレ
チクルを自動的に搬送、装填できる自動化機器の開発が
望まれていた。
クを装填する際作業員の介在を極力避け、マスク又はレ
チクルを自動的に搬送、装填できる自動化機器の開発が
望まれていた。
本発明の目的は、保存時塵埃の仕事防止に効果的な密閉
構造のマスク（又はレチクル）防塵カセットを提供する
ことにある。
構造のマスク（又はレチクル）防塵カセットを提供する
ことにある。
本発明の他の目的は、マスク（又はレチクル）を自動的
に搬送するのに適した構造を有するマスク防塵カセット
を提供することにある。
に搬送するのに適した構造を有するマスク防塵カセット
を提供することにある。
本発明に依ればマスク又はレチクルをカセットに収容し
持ち運ぶことにより、取扱いを容易にするとともに防塵
の効果も得られる。又カセット形状を工夫しであるため
マスクの搬送の自動化が可能であり、作業員の介在の余
地がなくなるため、この点からもマスクへの塵埃の付着
は防止される。
持ち運ぶことにより、取扱いを容易にするとともに防塵
の効果も得られる。又カセット形状を工夫しであるため
マスクの搬送の自動化が可能であり、作業員の介在の余
地がなくなるため、この点からもマスクへの塵埃の付着
は防止される。
以下添付した図面を参照して本発明の好ましい実施例に
ついて説明する。第１図は本発明の防塵カセットの上蓋
構造を示した図である。上蓋ｌの前壁２の中央部２ａは
両端部２ｂに比べて突き出ており、一方引込んだ両端部
２ｂにはそれぞれ逆り字形の係止部材３が一体的に取り
付けられている。この逆り字形の係止部材３は、後述す
る下蓋１０の前壁１１の両端部１１ｂの対応する位置に
形成された係止用突起１２と端部がはまり合うように十
分な長さおよび可撓性を有していなければならない。
ついて説明する。第１図は本発明の防塵カセットの上蓋
構造を示した図である。上蓋ｌの前壁２の中央部２ａは
両端部２ｂに比べて突き出ており、一方引込んだ両端部
２ｂにはそれぞれ逆り字形の係止部材３が一体的に取り
付けられている。この逆り字形の係止部材３は、後述す
る下蓋１０の前壁１１の両端部１１ｂの対応する位置に
形成された係止用突起１２と端部がはまり合うように十
分な長さおよび可撓性を有していなければならない。
次に上蓋１の両側壁４について説明すれば、側壁４はそ
れぞれ、前壁２の垂直方向長さと同一の長さを有する第
１の側壁部４ａと、上蓋１と下蓋１０を重ね合わせた状
態で下蓋１０の底部とほぼ同じ位置まで延びるような長
さを有する第２の側壁部４ｂとから構成されている。
れぞれ、前壁２の垂直方向長さと同一の長さを有する第
１の側壁部４ａと、上蓋１と下蓋１０を重ね合わせた状
態で下蓋１０の底部とほぼ同じ位置まで延びるような長
さを有する第２の側壁部４ｂとから構成されている。
第２の側壁部４ｂには斜辺部４Ｃから水平方向へ延びた
案内溝５が形成されている。この案内溝・５は、下蓋１
０の案内ピン２２を部分的に収容するのに十分な深さを
有していれば図示の如く第２の側壁部４ｂの厚さ方向途
中まで延びる構造としても良いし、或いは第２の側壁部
４ｂを貫通するような構造としても良い。更に第２の側
壁部４ｂの下端にはそれぞれ、マスクカセットを複数段
に重ねて収納するためのキャリヤと嵌合し、キャリヤ間
での上蓋の位置決めを行なうのに役立つ突出片６が一体
的に形成されている。
案内溝５が形成されている。この案内溝・５は、下蓋１
０の案内ピン２２を部分的に収容するのに十分な深さを
有していれば図示の如く第２の側壁部４ｂの厚さ方向途
中まで延びる構造としても良いし、或いは第２の側壁部
４ｂを貫通するような構造としても良い。更に第２の側
壁部４ｂの下端にはそれぞれ、マスクカセットを複数段
に重ねて収納するためのキャリヤと嵌合し、キャリヤ間
での上蓋の位置決めを行なうのに役立つ突出片６が一体
的に形成されている。
上蓋ｌの後壁７の内側下端部には段部８が形成されてお
り、段部８は上蓋１の両側壁４，４の間に亘って延びて
いる。−上蓋１と下蓋１０とが重ね合わされた状態で、
後述する下蓋の後壁段部１６は下面１６ａが−１−蓋１
の後壁段部８の上面８ａと接触し、支承される。
り、段部８は上蓋１の両側壁４，４の間に亘って延びて
いる。−上蓋１と下蓋１０とが重ね合わされた状態で、
後述する下蓋の後壁段部１６は下面１６ａが−１−蓋１
の後壁段部８の上面８ａと接触し、支承される。
第２図は本発明の防塵カセットの下蓋構造を示した図で
ある。上蓋１の前壁部２と同様に下蓋１０の前ｆｉｌｌ
の中央部は両端部１１ｂに比べて突き出ており、一方引
込んだ両端部１１ｂにはそれぞれ上蓋１の前壁両端部２
ｂに取付けられた逆り字形の係止部材３と係合する係止
用突起１２が形成されている。次に下蓋１０の両側壁１
３について説明すれば、上蓋１と下蓋ｌＯを重ね合せた
とき上蓋１の第１の側壁部４ａの下面４ａを載置させる
ための突出片１４が側壁１３の上端部から延びている。
ある。上蓋１の前壁部２と同様に下蓋１０の前ｆｉｌｌ
の中央部は両端部１１ｂに比べて突き出ており、一方引
込んだ両端部１１ｂにはそれぞれ上蓋１の前壁両端部２
ｂに取付けられた逆り字形の係止部材３と係合する係止
用突起１２が形成されている。次に下蓋１０の両側壁１
３について説明すれば、上蓋１と下蓋ｌＯを重ね合せた
とき上蓋１の第１の側壁部４ａの下面４ａを載置させる
ための突出片１４が側壁１３の上端部から延びている。
この突出片１４は、上蓋ｌと下蓋１０とを重ね合わせた
ときカセット内部を密封状態とするために上蓋１の第１
の側壁部４ａの長さと実質的に等しい長さを有するのが
好ましい。又突出片１４は、」二Ｍｌの突出片６と同様
キャリヤと嵌合しキャリヤ内での下蓋１０の位置決めを
行なうのに役立つように十分な幅を有していなげればな
らない。更に下蓋１０の両側壁１３．１３には、上ｉｔ
の第２の側壁部４ｂに形成された案内溝５に収容される
案内ピン２２が突出片１４に隣接して配置されている。
ときカセット内部を密封状態とするために上蓋１の第１
の側壁部４ａの長さと実質的に等しい長さを有するのが
好ましい。又突出片１４は、」二Ｍｌの突出片６と同様
キャリヤと嵌合しキャリヤ内での下蓋１０の位置決めを
行なうのに役立つように十分な幅を有していなげればな
らない。更に下蓋１０の両側壁１３．１３には、上ｉｔ
の第２の側壁部４ｂに形成された案内溝５に収容される
案内ピン２２が突出片１４に隣接して配置されている。
下蓋１０の後壁１５下端部には上蓋の後壁７の内側下端
部に形成された段部８と対応した形状を有する段部１６
が形成されている。この段部１６は、下面１６ａが上蓋
１の後壁段部８の上面８ａと接触し支承される構造であ
るために、上蓋の場合と異なり両側壁１３．１３を貫い
て延びている。
部に形成された段部８と対応した形状を有する段部１６
が形成されている。この段部１６は、下面１６ａが上蓋
１の後壁段部８の上面８ａと接触し支承される構造であ
るために、上蓋の場合と異なり両側壁１３．１３を貫い
て延びている。
更に下蓋１０の内部中央付近にはマスク又はレチクルを
載置させるための底部１７から直立する環状部１８が配
置されている。
載置させるための底部１７から直立する環状部１８が配
置されている。
環状部１８と下蓋１０（７）４つの壁１１ａ、１３゜１
３．１５のほぼ中央部とは直交するリブ１９によって連
結されている。マスク２０は通常パターンを形成された
面を下に向けて環状部１８に載置されるため、環状部１
８の内側のリブ１９ａは高さを低くし、マスク２０のパ
ターン面と接触しないようにするのが好ましい。
３．１５のほぼ中央部とは直交するリブ１９によって連
結されている。マスク２０は通常パターンを形成された
面を下に向けて環状部１８に載置されるため、環状部１
８の内側のリブ１９ａは高さを低くし、マスク２０のパ
ターン面と接触しないようにするのが好ましい。
環状部１８の周囲にはリブ１９の直交部１９ｂを中心と
して同心円状に位置決めピン２１が直立している。この
位置決めピン２１はマスク２０を環状部１８に載置する
ときマスク２０の位置を下蓋１０内のほぼ中央部に定め
るのに役立つ。このためピン２１の高さは、環状部１８
に置かれたマスク２０の上面位置と等しいか或いは高く
設立されるのが都合良い。
して同心円状に位置決めピン２１が直立している。この
位置決めピン２１はマスク２０を環状部１８に載置する
ときマスク２０の位置を下蓋１０内のほぼ中央部に定め
るのに役立つ。このためピン２１の高さは、環状部１８
に置かれたマスク２０の上面位置と等しいか或いは高く
設立されるのが都合良い。
次に本発明の防塵カセットの上蓋１と下蓋１０の組み合
わせ方および取りはずし方を第４図〜第７図を参照して
説明する。
わせ方および取りはずし方を第４図〜第７図を参照して
説明する。
位置決めピン２１を参考にして下蓋１０の環状部１８に
マスク２０を載置させた状態（第７図）で、まず下蓋の
両側壁１３から延びた案内ピン２２．２２を上蓋１の第
２の側壁部４ｂ 、４ｂに形成された案内溝５，５に向
けて挿し込むべく、下蓋の後壁１５を上蓋の後壁７に接
近させる（第６図）。案内ピン２２．２２が案内溝５，
５内に収容され、下蓋１０の段部１６の下面１６ａが上
蓋ｌの後壁段部８の上面８ａに接触し支承されたら（第
５図）、案内ビン２２．２２を軸として−Ｌ蓋！又は下
蓋１０を回動させる。その結果上蓋の逆り字形係止部材
３の端部と下蓋の係止用突起１２とが係合し、カセット
は第３図および第４図に示されるような組み合わせ状態
となる。上蓋と下蓋の取りはずし方については第４図か
ら第７図の順に、前述した操作を逆におこなえば良い。
マスク２０を載置させた状態（第７図）で、まず下蓋の
両側壁１３から延びた案内ピン２２．２２を上蓋１の第
２の側壁部４ｂ 、４ｂに形成された案内溝５，５に向
けて挿し込むべく、下蓋の後壁１５を上蓋の後壁７に接
近させる（第６図）。案内ピン２２．２２が案内溝５，
５内に収容され、下蓋１０の段部１６の下面１６ａが上
蓋ｌの後壁段部８の上面８ａに接触し支承されたら（第
５図）、案内ビン２２．２２を軸として−Ｌ蓋！又は下
蓋１０を回動させる。その結果上蓋の逆り字形係止部材
３の端部と下蓋の係止用突起１２とが係合し、カセット
は第３図および第４図に示されるような組み合わせ状態
となる。上蓋と下蓋の取りはずし方については第４図か
ら第７図の順に、前述した操作を逆におこなえば良い。
ここで第１図および第２図において、上蓋ｌの前壁？お
よび下蓋１０の前蓋１１の当接面は平担な面として表わ
されている。
よび下蓋１０の前蓋１１の当接面は平担な面として表わ
されている。
本発明に依れば防塵カセットの密閉力を高めるために前
壁２および１１の当接部を第４図〜第７図に示す如き相
補的な形状とすることもできる。
壁２および１１の当接部を第４図〜第７図に示す如き相
補的な形状とすることもできる。
更に上蓋と下蓋を重ね合わせてマスクをカセット内に収
容したとき、マスクの位置がカセット内で不用意にずれ
マスク面が損傷するのを防止するためにマスク位置ずれ
防止用パッド２４（第７図）を備えても良い。
容したとき、マスクの位置がカセット内で不用意にずれ
マスク面が損傷するのを防止するためにマスク位置ずれ
防止用パッド２４（第７図）を備えても良い。
なお本発明のカセットは密閉構造のため内部に収容した
マスクの塵埃の付着を防ぐものではあるが、カセットの
上蓋と下蓋のすり合わせ等によるカセット自体からの塵
埃を効果的に防止するためＰＥＥＫ （）等の樹脂で構
成するのが好ましい。
マスクの塵埃の付着を防ぐものではあるが、カセットの
上蓋と下蓋のすり合わせ等によるカセット自体からの塵
埃を効果的に防止するためＰＥＥＫ （）等の樹脂で構
成するのが好ましい。
第１図は本発明の防塵カセットの」１蓋構造の斜視図、
第２図は本発明の防塵カセットの下蓋構造の斜視図、
第３図は本発明の防塵カセットを組み合わせた状態で示
した図、 第４図乃至第７図はそれぞれ本発明の防塵カセットの」
１蓋と下蓋の組み合わせおよび取り外し方を説明するた
めの図である。 １−−一上蓋、２−−一前壁、３−−一係止部材、４−
ｍ−側壁、５−〜−案内溝、８−ｍ一段部、ｌＯ−ｍ−
下蓋、 １４−ｍ−突出片。 ’２２−−一案内片。 手続補正書（自発） 昭和５９年特許願第１４０１９７号 ２、発明の名称 防塵カセット ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都大田区下丸子３−３０−２名称 （１００
）キャノン株式会社 代表者 賀 来 龍 三 部 ４、代理人 居所 〒１４８東京都大田区下丸子３−３０−２５、補
正の対象 明 細 書及び訊面 ６、補正の内容 １、明細書第３頁下から第４行目の「仕事防止」を「付
着防ｌＦ」に訂正する。 ２、明細書第８頁第１行の「好ましい。」を以下の通り
補正する。 「好ましい。又第２図に示すように環状部１８の上端面
に突起２５を等間隔に配置し、この突起２５によってマ
スク２０を支持するようにしても良い。 これに加えてマスク２０のパターンを形成された面には
塵埃が付着することを防止するためにペリクル膜を取り
つけることが多く、この状態でパターン面を下に向けて
マスクを環状部１８上に載置する。この場合環状部１８
の内径はべりタル膜の外径よりも大きくし、内側のリブ
１９ａはペリクル膜の厚さを考慮して十分低くする必要
がある。」 ３、明細書第１Ｏ頁第４行及び第５行のｒ ＰＥＥＫ（
）等の樹脂で構成するのが好ましい。」を以下の通り補
正する。 ｒＰＥＥＫ（Ｐｏｌｙ Ｅｔｈｅｒ Ｅｔｈｅｒ Ｋｅ
ｔｏｎｅ）等の樹脂で構成するのが好ましい、 ＰＥＥ
Ｋは万一カセットにゴミ、油等が付着した場合カセット
を洗浄するための種々の洗浄液によっておかされにくく
、又機械的強度もすぐれている。」 ４、第２図を別紙の通り補正する。 （参照番号２５を加入する）
した図、 第４図乃至第７図はそれぞれ本発明の防塵カセットの」
１蓋と下蓋の組み合わせおよび取り外し方を説明するた
めの図である。 １−−一上蓋、２−−一前壁、３−−一係止部材、４−
ｍ−側壁、５−〜−案内溝、８−ｍ一段部、ｌＯ−ｍ−
下蓋、 １４−ｍ−突出片。 ’２２−−一案内片。 手続補正書（自発） 昭和５９年特許願第１４０１９７号 ２、発明の名称 防塵カセット ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都大田区下丸子３−３０−２名称 （１００
）キャノン株式会社 代表者 賀 来 龍 三 部 ４、代理人 居所 〒１４８東京都大田区下丸子３−３０−２５、補
正の対象 明 細 書及び訊面 ６、補正の内容 １、明細書第３頁下から第４行目の「仕事防止」を「付
着防ｌＦ」に訂正する。 ２、明細書第８頁第１行の「好ましい。」を以下の通り
補正する。 「好ましい。又第２図に示すように環状部１８の上端面
に突起２５を等間隔に配置し、この突起２５によってマ
スク２０を支持するようにしても良い。 これに加えてマスク２０のパターンを形成された面には
塵埃が付着することを防止するためにペリクル膜を取り
つけることが多く、この状態でパターン面を下に向けて
マスクを環状部１８上に載置する。この場合環状部１８
の内径はべりタル膜の外径よりも大きくし、内側のリブ
１９ａはペリクル膜の厚さを考慮して十分低くする必要
がある。」 ３、明細書第１Ｏ頁第４行及び第５行のｒ ＰＥＥＫ（
）等の樹脂で構成するのが好ましい。」を以下の通り補
正する。 ｒＰＥＥＫ（Ｐｏｌｙ Ｅｔｈｅｒ Ｅｔｈｅｒ Ｋｅ
ｔｏｎｅ）等の樹脂で構成するのが好ましい、 ＰＥＥ
Ｋは万一カセットにゴミ、油等が付着した場合カセット
を洗浄するための種々の洗浄液によっておかされにくく
、又機械的強度もすぐれている。」 ４、第２図を別紙の通り補正する。 （参照番号２５を加入する）
Claims (7)
- （１）上蓋と下蓋とから構成され、前記上蓋は対向する
側壁に形成された案内溝と、下蓋の前壁と上蓋とを係止
させるための係止手段を備えた前壁と、下蓋の後壁の一
部を支承する部分を備えた後壁とを有し、前記下蓋は、
案内溝に嵌合する案内ピンを対向する側壁に備えている
ことを特徴とする防塵カセット。 - （２）前記上蓋は対向する側壁に突出片を有することを
特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の防塵カセット
。 - （３）前記下蓋は対向する側壁に突出片を有することを
特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の防塵カセット
。 - （４）前記下蓋は内部に収納すべき物体を載置させるた
めの部材を備えることを特徴とする、特許請求の範囲第
１項記載の防塵カセット。 - （５）前記防塵カセットは、内部に収納された物体の位
置ずれを防止するための部材を備えることを特徴とする
、特許請求の範囲第１項記載の防塵カセット。 - （６）前記防塵カセットはＰＥＥＫ（）から製造される
ことを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の防塵カ
セット。 - （７）前記上蓋および下蓋の前壁の当接部は相補的形状
を有することを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載
の防塵カセット。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59140197A JPS6118959A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 防塵カセツト |
| US06/750,282 US4611967A (en) | 1984-07-06 | 1985-07-01 | Cassette-type container for a sheet-like member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59140197A JPS6118959A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 防塵カセツト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6118959A true JPS6118959A (ja) | 1986-01-27 |
| JPS6319859B2 JPS6319859B2 (ja) | 1988-04-25 |
Family
ID=15263167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59140197A Granted JPS6118959A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 防塵カセツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6118959A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0333744A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | ホトマスクケース及びホトマスクの保管方法 |
| CN110865511A (zh) * | 2018-08-27 | 2020-03-06 | 家登精密工业股份有限公司 | 一种光罩盒及其作动方法 |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59140197A patent/JPS6118959A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0333744A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-02-14 | Oki Electric Ind Co Ltd | ホトマスクケース及びホトマスクの保管方法 |
| CN110865511A (zh) * | 2018-08-27 | 2020-03-06 | 家登精密工业股份有限公司 | 一种光罩盒及其作动方法 |
| CN110865511B (zh) * | 2018-08-27 | 2023-08-29 | 家登精密工业股份有限公司 | 一种光罩盒及其作动方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6319859B2 (ja) | 1988-04-25 |
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