JPS61180734A - シクロペンタン誘導体 - Google Patents
シクロペンタン誘導体Info
- Publication number
- JPS61180734A JPS61180734A JP60020923A JP2092385A JPS61180734A JP S61180734 A JPS61180734 A JP S61180734A JP 60020923 A JP60020923 A JP 60020923A JP 2092385 A JP2092385 A JP 2092385A JP S61180734 A JPS61180734 A JP S61180734A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- octenyl
- formula
- ether
- added
- hydroxy
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
本発明は一般式
又は−国＝ａｉ−ｃｕ（ｏＨ）−で表わされる基でろシ
、Ｂは水素原子又は水酸基の保護基であり、Ｗは水酸基
の保護基でるる。）で表わされる７クロベンタン誘導体
に関する。
、Ｂは水素原子又は水酸基の保護基であり、Ｗは水酸基
の保護基でるる。）で表わされる７クロベンタン誘導体
に関する。
本発明の前記一般式（１）で表わされるシクロペンタン
誘導体のうち後記（１−Ｃ）で表わされる化合物は、ア
リル転位を行ない、酸化し、脱保護を行うことＫよシ構
造式 で表わされるヒドロキシ−シクロベンテノン誘導体に導
くことができる（下記参考側参照）。
誘導体のうち後記（１−Ｃ）で表わされる化合物は、ア
リル転位を行ない、酸化し、脱保護を行うことＫよシ構
造式 で表わされるヒドロキシ−シクロベンテノン誘導体に導
くことができる（下記参考側参照）。
前記式（１）で表わされるとドロ午クーシクロベンテノ
ン誘導体は新しいタイプの制癌剤として注目されている
クラブｏ ン（ｃｌａｖｕｌｏｎｅ） １％ Ｍｓ ｍ
及、 び■に導くことができる化合物ですることが知ら
れている（Ｙ、Ｙａｍａｄａ ａｔ ａｌ、、Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、 、２５ 、３６２１ （１
９８４） ）。
ン誘導体は新しいタイプの制癌剤として注目されている
クラブｏ ン（ｃｌａｖｕｌｏｎｅ） １％ Ｍｓ ｍ
及、 び■に導くことができる化合物ですることが知ら
れている（Ｙ、Ｙａｍａｄａ ａｔ ａｌ、、Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、 、２５ 、３６２１ （１
９８４） ）。
Ａｃ
ｃｌａｖｕｊｏｎｅ Ｉ
ｃｌａｖｕｌｏｎｅ ｌ
Ａｃ
ｃｌａｖｕｌｏｎｅ ｌ［
Ａｃ
ｃｌａｖｕｌｏｎｅ ｆｆ
（Ｃ１ａｖｕｌａｒｉａ ｖｉｒｉｄｓ Ｑｕｏｙ ａ
ｎｄ Ｇａｉｍａｒｄ）から単離構造決定された化合物
で６シ、り２プａン１、ｌ及び■は白血病培養細胞Ｌｔ
２１ｏに対してｉｎ ｖｉｔｒｏで、またエールリッヒ
腹水癌に対してｉｎ ｖｉｖｏでプレオマイシンに匹敵
する強さの抗腫瘍活性が認められている〔福島雅典他、
日本癌学会４２回総会講演要旨集（名古屋）、ｐ２４３
（１９８３））。
ｎｄ Ｇａｉｍａｒｄ）から単離構造決定された化合物
で６シ、り２プａン１、ｌ及び■は白血病培養細胞Ｌｔ
２１ｏに対してｉｎ ｖｉｔｒｏで、またエールリッヒ
腹水癌に対してｉｎ ｖｉｖｏでプレオマイシンに匹敵
する強さの抗腫瘍活性が認められている〔福島雅典他、
日本癌学会４２回総会講演要旨集（名古屋）、ｐ２４３
（１９８３））。
以上述べ九如くり２プロンは極めて興味るる生物活性を
有することから、これら一連の化合物群やそれらの誘導
体の詳細な生物活性の検討が新しい制癌剤の開発に重要
な課題となっている。従来のグロスタグクンジンと同様
、り２プロンも天然からの′供給が充分でなく、大量生
産れ化学合成に頼らなければならない。 ゛
′これまでに前記式（１）で表わされるヒドロ午シー
シクロベンテノン誘導体を製造する方法としては、（イ
）゛４−ヒトｇ中′シー２−ククｉペンナノンを用いる
方法（Ｙ、Ｙａｍａｄａ、ｅｔ ａｌ、、Ｔｅｊｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、、７ｊｊ、３６２１（１９８４
））及び（ロ）シクロペンタジェンを用いる方法（Ｂ、
Ｊ、Ｃｏｒｅｙ、ｅｔ ａｌ、。
有することから、これら一連の化合物群やそれらの誘導
体の詳細な生物活性の検討が新しい制癌剤の開発に重要
な課題となっている。従来のグロスタグクンジンと同様
、り２プロンも天然からの′供給が充分でなく、大量生
産れ化学合成に頼らなければならない。 ゛
′これまでに前記式（１）で表わされるヒドロ午シー
シクロベンテノン誘導体を製造する方法としては、（イ
）゛４−ヒトｇ中′シー２−ククｉペンナノンを用いる
方法（Ｙ、Ｙａｍａｄａ、ｅｔ ａｌ、、Ｔｅｊｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、、７ｊｊ、３６２１（１９８４
））及び（ロ）シクロペンタジェンを用いる方法（Ｂ、
Ｊ、Ｃｏｒｅｙ、ｅｔ ａｌ、。
Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 ８ｏｃ、、１０６，３３８４（
１９８４））が知られている。
１９８４））が知られている。
しかしながら、ヒ）の方法は工程数が長く大量合成を目
的とした場合には不適当でるる。又、（ロ）の方法は短
工租でクラブロンの大量合成に適しているが、り２プロ
ンの制癌活性を増大させる可能性がらる５員環上への＾
ロゲン原子導入や他の官能基の導入には適していない（
５貰環上への官能基導入とそれらの構造活性相関の議論
、京都グロスタグクンジン会議、Ｎｏｖ、２５．１９８
４．Ｐｒｏｇｒａｍ＆ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ、ｐｐＨ４
）。
的とした場合には不適当でるる。又、（ロ）の方法は短
工租でクラブロンの大量合成に適しているが、り２プロ
ンの制癌活性を増大させる可能性がらる５員環上への＾
ロゲン原子導入や他の官能基の導入には適していない（
５貰環上への官能基導入とそれらの構造活性相関の議論
、京都グロスタグクンジン会議、Ｎｏｖ、２５．１９８
４．Ｐｒｏｇｒａｍ＆ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ、ｐｐＨ４
）。
本発明者等はこの化学合成を容易にすべく鋭意検討を進
めた結果、本発明の化合物がクラブロン及びその類縁体
の大量合成に極めて重畳な化合物でらることを見出し本
発明を兜成し喪。
めた結果、本発明の化合物がクラブロン及びその類縁体
の大量合成に極めて重畳な化合物でらることを見出し本
発明を兜成し喪。
〔発明の概！り゛
本発明の前記一般式（１）で表わされるシフ四ペンタン
誘導体社以下の反応式に従い製造することが÷きる。
誘導体社以下の反応式に従い製造することが÷きる。
Ｈｏ
スートジメチルシリルエーテルを〆テルグチクムの存在
下シス−１−プロモー２−オクテンと反応させることに
よシ前記式（２）で表わされる２−ヒドロキシ−２−（
シス−２−オクテニル）シクロペンタノンを製造するも
のでろる。
下シス−１−プロモー２−オクテンと反応させることに
よシ前記式（２）で表わされる２−ヒドロキシ−２−（
シス−２−オクテニル）シクロペンタノンを製造するも
のでろる。
本工程の原料でらるエンジオール−ビス−トリメチルグ
リルエーテルは文献既知の方法（８ｙｎｔｈｅｓｉ＠、
３４１ （１９７６）あるいはＴｅｔｒａｈｅ−ｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ、、２７５１，２７５５（１９７７）参照
〕によシ容易に製造することができる化合物でるる。ま
た、シス−ｌ−プロモー２−オクテンは工業的に容易に
入手可能な化合物である。
リルエーテルは文献既知の方法（８ｙｎｔｈｅｓｉ＠、
３４１ （１９７６）あるいはＴｅｔｒａｈｅ−ｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ、、２７５１，２７５５（１９７７）参照
〕によシ容易に製造することができる化合物でるる。ま
た、シス−ｌ−プロモー２−オクテンは工業的に容易に
入手可能な化合物である。
本工程はメチルリデクムの存在下に行うことが必要でる
〉、通常は前記式１）で表わされるエンジオール−ビス
−トリメチルシリルエーテルに対し１．５〜５尚量使用
するものでるる。
〉、通常は前記式１）で表わされるエンジオール−ビス
−トリメチルシリルエーテルに対し１．５〜５尚量使用
するものでるる。
本工程は溶媒中で行うことが望ましく、例えばジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
メト争りエタンの如きエーテル系溶媒を好適に使用する
ことができる。
エーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
メト争りエタンの如きエーテル系溶媒を好適に使用する
ことができる。
反応は一７８υ〜５０℃で円滑に進行するものでめるＯ
〔第二工程〕
本工程は前記第一工程で得られる式（２）で表わされる
２−ヒト０４シー２−（シス−２−オクテニル）シクロ
ペンタノンを塩基の存在下、トリメチルクリルトリフル
オロメタンスルホネートと反応させることにより前記一
般式Ｃｌ−１）で表わされる保護されたエノールエーテ
ルを製造するものでろるＯ 本工程は塩基の存在下に行うことが必要でるる。
２−ヒト０４シー２−（シス−２−オクテニル）シクロ
ペンタノンを塩基の存在下、トリメチルクリルトリフル
オロメタンスルホネートと反応させることにより前記一
般式Ｃｌ−１）で表わされる保護されたエノールエーテ
ルを製造するものでろるＯ 本工程は塩基の存在下に行うことが必要でるる。
塩基としては例えばトリエチルアミン、２．６−ルチジ
ンなどを使用することができる。
ンなどを使用することができる。
反応を行うにろたりては溶媒中で行うことが望ましく、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素の如き
ハロゲン系溶媒を好適に使用することができる。
例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素の如き
ハロゲン系溶媒を好適に使用することができる。
反応は一り０℃〜５０゛０で円滑に進行する。
（第ミニ程〕
本工程社前記第二工程で得られる一般式（Ｉ−１＋）で
表わ嘔れる保護され九二ノールエーテルをパクジウム触
媒の存在下二／ンに変換し、前記一般式（１−ｂ）で表
わされるａ、／−不飽和ケトン体を製造するものでめる
。
表わ嘔れる保護され九二ノールエーテルをパクジウム触
媒の存在下二／ンに変換し、前記一般式（１−ｂ）で表
わされるａ、／−不飽和ケトン体を製造するものでめる
。
本工程はパ２ジクム化合物の存在下に行うことが必要で
ろシ、例えばＰ ｄ （ＯＡ ｃ ）２、ＰｄＣ１２（
ＰｈＣＪ’ｌ入、宰士口喝８Ｐａｉ１２等の２価のバク
ジウム化合物を好適に使用することができる。
ろシ、例えばＰ ｄ （ＯＡ ｃ ）２、ＰｄＣ１２（
ＰｈＣＪ’ｌ入、宰士口喝８Ｐａｉ１２等の２価のバク
ジウム化合物を好適に使用することができる。
反応を行うにめ九って社爵媒中で行うことが望ましく、
アセトニトリルやベンゼンを好適に使用することができ
る。
アセトニトリルやベンゼンを好適に使用することができ
る。
反応は一り０℃〜５０″０で円滑に進行する＠伺、本工
程で得られる前記一般式（１−ｂ）で表わされるα、β
−不飽和不飽和体１フ メチルシリル基の場合は弱酸、例えば酢酸−水で処理す
ることＫよシ几が水素原子を有する化合物に変換するこ
とができる。更に塩化メチレン中を一ブチルジメチルシ
リルトリフルオロメタンスルホネート、２．６−ルチジ
ンと反応させることＫよシ几がｔ−ブチルジメチルシリ
ル基を有する化合物に変換することも容易である。
程で得られる前記一般式（１−ｂ）で表わされるα、β
−不飽和不飽和体１フ メチルシリル基の場合は弱酸、例えば酢酸−水で処理す
ることＫよシ几が水素原子を有する化合物に変換するこ
とができる。更に塩化メチレン中を一ブチルジメチルシ
リルトリフルオロメタンスルホネート、２．６−ルチジ
ンと反応させることＫよシ几がｔ−ブチルジメチルシリ
ル基を有する化合物に変換することも容易である。
本工程は前記第三工程で得られる前記一般式（１−ｂ）
で表わされるα．／ー不飽和不飽和ケト還体することに
よ）、前記一般式（１−Ｃ）で表わされるアリルアルコ
ール体を製造するものでるる。
で表わされるα．／ー不飽和不飽和ケト還体することに
よ）、前記一般式（１−Ｃ）で表わされるアリルアルコ
ール体を製造するものでるる。
本工程の還元は還元剤を用いて行うものでｓｂ、例えば
水素化ナトリウムホウ素、ジイソブチルアルミニウムヒ
ドリドなどを用いることができる。
水素化ナトリウムホウ素、ジイソブチルアルミニウムヒ
ドリドなどを用いることができる。
尚、水素化ナトリウムホウ素を使用する場合にはセリク
ムハロゲン化物、例えば三塩化七すクムなどを存在させ
ることＫよシ更に効率よく反応を行なわせることができ
る。
ムハロゲン化物、例えば三塩化七すクムなどを存在させ
ることＫよシ更に効率よく反応を行なわせることができ
る。
本工程を行うに６たっては溶媒の使用が望ましく、例え
ば水素化ナトリウムホウ素を用いる時は、メタノール、
エタノールなどのアルコール系溶媒を、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリドを用いる時は、トルエン、塩化メチ
レンなどを使用することができる。
ば水素化ナトリウムホウ素を用いる時は、メタノール、
エタノールなどのアルコール系溶媒を、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリドを用いる時は、トルエン、塩化メチ
レンなどを使用することができる。
反応温度は一り８℃〜室温を還元剤に応じて選択するこ
とができる。
とができる。
以下、実施例及び参考例によυ本発明を更に詳細に説明
する。
する。
参考例１
冊
１、２−ビス（トリメチルシリルオ牛シ）−７クロペン
テン（１．９１ ｇ 、 ７．８５ｍｍｏｌｅ）を無水
ＤＭＦｉ（２０ｄ）Ｋ溶解し、アルゴン雰囲気下、−２
０“ＯＫてメチルリチウム（１．２Ｍ，エーテル溶液，
１４．３ｍ。
テン（１．９１ ｇ 、 ７．８５ｍｍｏｌｅ）を無水
ＤＭＦｉ（２０ｄ）Ｋ溶解し、アルゴン雰囲気下、−２
０“ＯＫてメチルリチウム（１．２Ｍ，エーテル溶液，
１４．３ｍ。
１ ７、２ｍｍｏｌｅ）を滴下し九ｏ −２０℃で３０
分間攪拌した後、減圧下、−２０℃〜−１５℃でＤＭＥ
を留去し、系内を再びアルゴンで置換し、出任Ａ（１８
戯）及びＴＨＦ（６ｍ）を加えた。反応液を一４０℃〜
−３０℃に冷却し、攪拌下１ープロモー２−（Ｚｌ−オ
クテン（１．５０ｇ， ７．８５ｍｍｏｌｅ）を３時間
を要して滴下した。滴下終了後−２０℃〜−３０℃で゛
２時間攪拌し、ゆっくりとーｌＯ℃まで昇温した。反応
液に１０％の塩酸を含む飽和食塩水を加えて反応得られ
る残渣をシリカゲルカ２ムクロマトグ２フィー（へ争サ
ン／エーテル：］／２）によＪ）ｆｌｌＬ２−ヒドロキ
シ−２−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンタノン０．
６３３ｇ（３８％）を得たＯＮＭＲδ（ｐｐｍ）；５．
１５ 〜５．５８（２Ｈ）、２．６５（１）１。
分間攪拌した後、減圧下、−２０℃〜−１５℃でＤＭＥ
を留去し、系内を再びアルゴンで置換し、出任Ａ（１８
戯）及びＴＨＦ（６ｍ）を加えた。反応液を一４０℃〜
−３０℃に冷却し、攪拌下１ープロモー２−（Ｚｌ−オ
クテン（１．５０ｇ， ７．８５ｍｍｏｌｅ）を３時間
を要して滴下した。滴下終了後−２０℃〜−３０℃で゛
２時間攪拌し、ゆっくりとーｌＯ℃まで昇温した。反応
液に１０％の塩酸を含む飽和食塩水を加えて反応得られ
る残渣をシリカゲルカ２ムクロマトグ２フィー（へ争サ
ン／エーテル：］／２）によＪ）ｆｌｌＬ２−ヒドロキ
シ−２−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンタノン０．
６３３ｇ（３８％）を得たＯＮＭＲδ（ｐｐｍ）；５．
１５ 〜５．５８（２Ｈ）、２．６５（１）１。
畠）、２．２０〜２．４５（４）１）、１．７５〜２．
２６（６Ｈ）、１．２０〜１．５０・（６Ｈ）、０，９
Ｌ）（３１−１。
２６（６Ｈ）、１．２０〜１．５０・（６Ｈ）、０，９
Ｌ）（３１−１。
Ｓ）。
Ｉ馳 ；３４５０，１７４０。
Ｍ８ ｒｎ／ｈ 、 ％ ； ２ ｌＯ （２ ） ＊
１９ ３ （４ ） ＊ １２ ５（１１）、１０Ｇ
（１００）。
１９ ３ （４ ） ＊ １２ ５（１１）、１０Ｇ
（１００）。
実施例１
２−ヒドロ中クー２−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペ
ンタノン（ｔ）、６９０ｇ，３．２９画ｍ１Ｃ）を無水
塩化メチレン（ｓｍ）Ｋｊｌ解し、アルゴン雰囲気下、
２、６−Ａ＃？ジン（１．８ａｊ）及びトリメチルクリ
ルトリフルオロメタンスルホネート（２．ＯＮｔ，１０
．３ｍｍｏ ｌ ｅ ）を加えた。室温にて１５分間攪
拌した後、飽和食塩水を加え、ヘキサンで抽出した。へ
争サン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒及びル
チジンを留去し２，３−ビス（トリメチルシリルオキシ
）−３−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン１．１
５ｇ（９８チ）を得大。
ンタノン（ｔ）、６９０ｇ，３．２９画ｍ１Ｃ）を無水
塩化メチレン（ｓｍ）Ｋｊｌ解し、アルゴン雰囲気下、
２、６−Ａ＃？ジン（１．８ａｊ）及びトリメチルクリ
ルトリフルオロメタンスルホネート（２．ＯＮｔ，１０
．３ｍｍｏ ｌ ｅ ）を加えた。室温にて１５分間攪
拌した後、飽和食塩水を加え、ヘキサンで抽出した。へ
争サン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒及びル
チジンを留去し２，３−ビス（トリメチルシリルオキシ
）−３−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン１．１
５ｇ（９８チ）を得大。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ）；４，９５〜５．５５（２）（）、
４．５０（ＩＨ）、１．７０〜２．４０（８Ｈ）、１．
（１（Ｊ〜１．５０（６Ｈ）、０．９０（３Ｈ，ｔ）、
０．１５（９Ｈ，ｓ）。
４．５０（ＩＨ）、１．７０〜２．４０（８Ｈ）、１．
（１（Ｊ〜１．５０（６Ｈ）、０．９０（３Ｈ，ｔ）、
０．１５（９Ｈ，ｓ）。
０、ＬｌＯ（９Ｈ，ｓ）。
Ｉｌ（、α ；１７１０，１６４２゜
＋
ＭＳ ｍ／ｚ−、％；３３９（Ｍ −１５）（２）、２
４５（Ｉｔ））、２４４（２５）、２４３（１０υ）、
１５５（２Ｌｌ）、７３．（６６）。
４５（Ｉｔ））、２４４（２５）、２４３（１０υ）、
１５５（２Ｌｌ）、７３．（６６）。
実施例２
う８１υ ン８ｉ０２．３−ビス
（トリメチルシリルオ牟り〕−３−（２−Ｚ−オクテニ
ル）シクロペンテン（１，Ｌ１９ｇ・３・０８ ｍｍｏ
ｌ ｅ ）を脱気し良アセトニトリル（２０−）に溶
解し、アルゴン雰囲気下、酢酸パ２ジウＡ （０，６９
１ｇ、 ３．０８ｍｍｏｌｅ）を加え、室温で３時間撹
拌し大。更Ｋｈｍバクジクム（０，Ｉ Ｌ） Ｏｇ 。
（トリメチルシリルオ牟り〕−３−（２−Ｚ−オクテニ
ル）シクロペンテン（１，Ｌ１９ｇ・３・０８ ｍｍｏ
ｌ ｅ ）を脱気し良アセトニトリル（２０−）に溶
解し、アルゴン雰囲気下、酢酸パ２ジウＡ （０，６９
１ｇ、 ３．０８ｍｍｏｌｅ）を加え、室温で３時間撹
拌し大。更Ｋｈｍバクジクム（０，Ｉ Ｌ） Ｏｇ 。
０．４４５ａｕｎｏｌａ）を加え３時間攪拌した後、フ
ロリジルを用いて濾過した。濾液を濃縮してシリカゲル
カクムクロマトグクフイー（ヘキサン／エーテル： １
０／ｌ ）によシ精製し、５−トリメチルシリルオキシ
−５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテン−
１−オン０．５５５ｇ（６４９６）を得た。
ロリジルを用いて濾過した。濾液を濃縮してシリカゲル
カクムクロマトグクフイー（ヘキサン／エーテル： １
０／ｌ ）によシ精製し、５−トリメチルシリルオキシ
−５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテン−
１−オン０．５５５ｇ（６４９６）を得た。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ） ； ７，５７ （Ｉｎ、 ｔＸｄ
、 Ｊ＝＝６．６Ｈｚ 。
、 Ｊ＝＝６．６Ｈｚ 。
３．０Ｈｚ ） 、 ６．１５ （１）ｉ、 ｔｘｄ、
Ｊ＝６．６）ｆｚ 。
Ｊ＝６．６）ｆｚ 。
２、（ｌＨｚ ） 、 ５．１０〜５．７０（２Ｈ）、
２．６Ｕ〜２．８０（２１（） 、 ２．２υ〜２．５
０（２）Ｉ）、１．８４１〜２．Ｉ Ｌｌ（２）１）
、 １．１υ〜１．４５（６１−１）。
２．６Ｕ〜２．８０（２１（） 、 ２．２υ〜２．５
０（２）Ｉ）、１．８４１〜２．Ｉ Ｌｌ（２）１）
、 １．１υ〜１．４５（６１−１）。
０．８６（３Ｈ，ｔ）、０．Ｌ）９（９ｋＬ、ｓ）。
ＩｋＬ ａａ ；１７２５，１５９０゜＋
ＭＳ ｍ／ｚ、％；２８ｔ）（Ｍ ）（５）、２６５（
３）。
３）。
１７Ｌｌ（２６）、１６９（１０ｏ）、１５４（１２）
。
。
９１（３４）、７５（］７）、７３（９５）。
実施例３
５−トリメチルシリルオキシー５−（２−Ｚ−オクテニ
ル）−２−シクロペンテン−１−オン０．３００ｇ（１
，０７ｍｍｏｌｅ）を酢ｇｌｌ／ＴＨＦ／水（８７８／
ｌ）の混合溶液（３威）に浴解し、室温で一夜攪拌し友
。反応液を減圧下留去後、残渣に飽和炭酸水素ナトリフ
＾水溶液を加え、エーテルで抽出した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒を留去すると、５−ヒトｃ１千クー
５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−７クロベンナンー１
−オン（２２３１１ｇ）が定量的に４られた。
ル）−２−シクロペンテン−１−オン０．３００ｇ（１
，０７ｍｍｏｌｅ）を酢ｇｌｌ／ＴＨＦ／水（８７８／
ｌ）の混合溶液（３威）に浴解し、室温で一夜攪拌し友
。反応液を減圧下留去後、残渣に飽和炭酸水素ナトリフ
＾水溶液を加え、エーテルで抽出した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒を留去すると、５−ヒトｃ１千クー
５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−７クロベンナンー１
−オン（２２３１１ｇ）が定量的に４られた。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ）；７．５６（ＩＨ，ｔｘａ、Ｊ＝５
．５Ｈｚ 、 ３．０Ｈｚ ） 、 ６．１３ （ＩＨ
，ｔｘｄ、 Ｊ＝６．５ｋｌｚ 、 ３．０Ｈｚ ）
、 ５．１０〜５．７Ｌ） （２Ｈ） 。
．５Ｈｚ 、 ３．０Ｈｚ ） 、 ６．１３ （ＩＨ
，ｔｘｄ、 Ｊ＝６．５ｋｌｚ 、 ３．０Ｈｚ ）
、 ５．１０〜５．７Ｌ） （２Ｈ） 。
２．６０〜２．８０（２Ｈ）、２．２０〜２．５０（２
Ｈ）。
Ｈ）。
１．８０〜２．１０ （２）１） 、 １．１０，１．
４５ （７ｆ（） 。
４５ （７ｆ（） 。
０．８６（３Ｈ，ｔ）。
ＩＲ１；３４５０，１７２５，１５９０゜ＭＳｒｒＶｚ
、％；２０８，１９０゜ 実施例４ ５−ヒドロキシ−５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−７
クロペンテンー１−オン（２１３８ｍｇ、ｉｎ−ｍｏｌ
ｅ）ｔアルゴン、気流下、塩化メチレン（４−）ニ溶解
し、ｔ−プテルジメチルクリルトリフルオロメタンスに
ホネート（５２９１１９，２ｍｍｏｌｅ）、２゜６−（
′テジン（３７５１ｋｇ、 ３．５ｍｍｏ ｌ ｅ ）
を加え、０℃゛ から室温で２．５時間攪拌した。反
応を飽和塩化アンモニウム水溶液で停止させ、エーテル
で抽出した。エーテル層は無水硫酸マグネシウムで乾燥
し−た。溶媒を留去後、□シリカゲルカラムクロットゲ
ラフィーで精製し、５−ｔ−プチルージメチルシリルオ
千シー５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテ
ン−ｌ−オン（３０９ｍｇ）を９６％の収率で得九。
、％；２０８，１９０゜ 実施例４ ５−ヒドロキシ−５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−７
クロペンテンー１−オン（２１３８ｍｇ、ｉｎ−ｍｏｌ
ｅ）ｔアルゴン、気流下、塩化メチレン（４−）ニ溶解
し、ｔ−プテルジメチルクリルトリフルオロメタンスに
ホネート（５２９１１９，２ｍｍｏｌｅ）、２゜６−（
′テジン（３７５１ｋｇ、 ３．５ｍｍｏ ｌ ｅ ）
を加え、０℃゛ から室温で２．５時間攪拌した。反
応を飽和塩化アンモニウム水溶液で停止させ、エーテル
で抽出した。エーテル層は無水硫酸マグネシウムで乾燥
し−た。溶媒を留去後、□シリカゲルカラムクロットゲ
ラフィーで精製し、５−ｔ−プチルージメチルシリルオ
千シー５−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテ
ン−ｌ−オン（３０９ｍｇ）を９６％の収率で得九。
ＮＭ几δ（ｐｐｍ）；７，５７（ＩＨ，ｔｘｄ、Ｊ＝６
．６［ｚ。
．６［ｚ。
３、ＧＨｚ ） 、 ６．１５ （ＩＨ，ｔｘｄ、 Ｊ
＝６．６Ｈｚ 。
＝６．６Ｈｚ 。
２．０Ｈｚ ） 、 ５．１０〜５．７１３ （２ｍ
） 、 ２．６υ〜２．８０（２Ｈ）、２．２０〜２，
５１３（２１−１） 、 １，８１３〜２．１０（２Ｈ
）、１．１０〜１．４５（６Ｈ）、０．９０（１２Ｈ，
、ｓ ａｎｄ ｔ）、０．０４（６ｎ、ｓ）。
） 、 ２．６υ〜２．８０（２Ｈ）、２．２０〜２，
５１３（２１−１） 、 １，８１３〜２．１０（２Ｈ
）、１．１０〜１．４５（６Ｈ）、０．９０（１２Ｈ，
、ｓ ａｎｄ ｔ）、０．０４（６ｎ、ｓ）。
ＩＨ傷 ；１７２５，１５９０゜
Ｍ８ ＷＺ、 ％ ； ３２２ｅ ２６５ 一実施例５
５−トリメチルシリルオ中シー５−（２−Ｚ−オクテニ
ル）−２−７クロペンテンー１−、ｔン（０，４Ｌ）ｌ
Ｊｇ、 １．４３ｍｍｏｌｅ）をメタノール（４１Ｌｔ
：Ｉｃ溶解し、アルゴン雰囲気下、塩化第一セリクム７
水塩（０，８５２ｇ、２．２９ｍｍｏｌｅ）及び水素化
ホウ素ナトリウム（０，０８６ｇ、 ２．２９ｍｍｏｌ
ｅ）を加え、０−０で１０分間攪拌した。反応液を無水
硫酸マグネシウムを用いて濾過し、濾液を水、飽和食塩
水で洗りた後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去すると、３−ヒトＩ：午シー４−トリメチル７リ
ルオｓ？−ｙ−４−（２’−Ｚ−オクテニル）シクロペ
ンテン（ｏ、４１０ｇ）が立体異性体の混合物としてほ
ぼ定量的に得られたＯ ＮＭＲδ（ｐｐｍ） ；５，６５〜６．０５（２Ｈ）
、 ５．４Ｕ〜５．６５ （２Ｈ） 、 ４．５’０〜
４．６５ （０，９Ｈ） 、 ４．１１３〜４．３５（
０，１）１） 、 ２，２Ｌ）−２，７０（４ｄ） 。
ル）−２−７クロペンテンー１−、ｔン（０，４Ｌ）ｌ
Ｊｇ、 １．４３ｍｍｏｌｅ）をメタノール（４１Ｌｔ
：Ｉｃ溶解し、アルゴン雰囲気下、塩化第一セリクム７
水塩（０，８５２ｇ、２．２９ｍｍｏｌｅ）及び水素化
ホウ素ナトリウム（０，０８６ｇ、 ２．２９ｍｍｏｌ
ｅ）を加え、０−０で１０分間攪拌した。反応液を無水
硫酸マグネシウムを用いて濾過し、濾液を水、飽和食塩
水で洗りた後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去すると、３−ヒトＩ：午シー４−トリメチル７リ
ルオｓ？−ｙ−４−（２’−Ｚ−オクテニル）シクロペ
ンテン（ｏ、４１０ｇ）が立体異性体の混合物としてほ
ぼ定量的に得られたＯ ＮＭＲδ（ｐｐｍ） ；５，６５〜６．０５（２Ｈ）
、 ５．４Ｕ〜５．６５ （２Ｈ） 、 ４．５’０〜
４．６５ （０，９Ｈ） 、 ４．１１３〜４．３５（
０，１）１） 、 ２，２Ｌ）−２，７０（４ｄ） 。
１．８５〜２．２０ （２Ｈ） 、 １．６０〜ｚｌｚ
ｏ （ＩＨ） 。
ｏ （ＩＨ） 。
１．１０−１．６０（６Ｈ）、０．９０（３）１．ｔ）
。
。
Ｉ九菌 ；３４２５゜
十
Ｍ８ ｍ／ｚ、％；２８２（Ｍ ）（３）、２６７（Ｍ
−１５）（２）、１７２（１４）、１７１（９４）。
−１５）（２）、１７２（１４）、１７１（９４）。
１５５（２８）、１０３（１４）’、８１（３４）。
７５（３２）、７３（ＩＬ）ｔ））。
参考例２
３−ヒドロキシ−４−トリメテルシリルオ中シー４−（
２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン（０，４１０ｇ、
約１．４３ｍｍｏｌｅ） （立体異性体の混合物）をア
ルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（１２ｍ７）に溶解
し、無水ピリジン（１，１１ｉｕ）及びメタンスルホン
酸無水物（０，５０４ｇ 、 ２．８９ｍｍｏ凰Ｃ）を
加えて０℃で３０分攪拌した。反応液を無水硫酸マグネ
シウムを充填した力２ムを通過させ、無水アセトンで流
出した。流出液に２〜３Ｎの水を加え室温で３０分攪拌
し九後、飽和炭酸水素ナトリウム水靜液を加えて４時間
攪拌して、メタンスルホン酸無水物を分解した。反応液
をエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得られた残渣をクリカグルカラムクロ
マトグラフイー、（ヘキサン／エーテル／トリエチルア
ミン： ２００／１００／３）にょシ精製し、３−トリ
メチルクリルオ中シー３−（２−Ｚ−オクテニル）−５
−とドロ午シククロベンテン０．３１８ｇ（７９チ）を
立体異性体の混合物として得た。
２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン（０，４１０ｇ、
約１．４３ｍｍｏｌｅ） （立体異性体の混合物）をア
ルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（１２ｍ７）に溶解
し、無水ピリジン（１，１１ｉｕ）及びメタンスルホン
酸無水物（０，５０４ｇ 、 ２．８９ｍｍｏ凰Ｃ）を
加えて０℃で３０分攪拌した。反応液を無水硫酸マグネ
シウムを充填した力２ムを通過させ、無水アセトンで流
出した。流出液に２〜３Ｎの水を加え室温で３０分攪拌
し九後、飽和炭酸水素ナトリウム水靜液を加えて４時間
攪拌して、メタンスルホン酸無水物を分解した。反応液
をエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得られた残渣をクリカグルカラムクロ
マトグラフイー、（ヘキサン／エーテル／トリエチルア
ミン： ２００／１００／３）にょシ精製し、３−トリ
メチルクリルオ中シー３−（２−Ｚ−オクテニル）−５
−とドロ午シククロベンテン０．３１８ｇ（７９チ）を
立体異性体の混合物として得た。
ＮＭＲｄ（ｐｐｍ）；５．８８（２Ｈ）、５−１５〜５
．６５（２Ｍ）、４．７ｓ〜５．Ｌｌ Ｏ（０，Ｍ ）
、 ４．４５−５．７ｔｌ（Ｌｌ、５Ｈ）、ｔ）、８
７（３Ｈ，ｔ）、０．０５（４・５Ｈ，ｓ）、０．１２
（４，５Ｈ，ｉ）。
．６５（２Ｍ）、４．７ｓ〜５．Ｌｌ Ｏ（０，Ｍ ）
、 ４．４５−５．７ｔｌ（Ｌｌ、５Ｈ）、ｔ）、８
７（３Ｈ，ｔ）、０．０５（４・５Ｈ，ｓ）、０．１２
（４，５Ｈ，ｉ）。
ＩＬＬ備 ； ３３５０ 。
＋
ＭＳ ｍ／ｚ、％；２６７（Ｍ −１５）（＜１）、
２６５＋ （Ｍ −１７）（（１）、１７２（１４）、１７１（１
０υ）、１４３（１４）、８１（１２）、７５（２１）
、７３（６１）。
２６５＋ （Ｍ −１７）（（１）、１７２（１４）、１７１（１
０υ）、１４３（１４）、８１（１２）、７５（２１）
、７３（６１）。
実施例６
５−ｔ−ブナルジメテルシリルオキ７−５−（２−Ｚ−
オクテニル）−２−７クロペンテンー１−オン（０，２
３２ｇ、 ０．７２ｍｍｏｌｅ）をメタノール（２ｄ）
にｍ解し、アルゴン雰囲気下、塩化第１セリウム７水塩
（０，４２６ｇ、ｌ、１５ｍｍｏｌｅ）及び水素化ホウ
素ナトリクｂ （０，Ｌ）４３ｇ、 １．１５ｍｍｏｌ
ｅ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。反応液を無水硫
酸マグネ７クムを用いて濾過し、濾液を水、飽和賞塩水
で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去すると、３−ヒドロキシ−４−を−ブチルジメチル
クリルオキシ−４−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペン
テン（０，２３３ｇ）：Ａ１体異性体の混合物としてほ
ぼ定量的に得られた。
オクテニル）−２−７クロペンテンー１−オン（０，２
３２ｇ、 ０．７２ｍｍｏｌｅ）をメタノール（２ｄ）
にｍ解し、アルゴン雰囲気下、塩化第１セリウム７水塩
（０，４２６ｇ、ｌ、１５ｍｍｏｌｅ）及び水素化ホウ
素ナトリクｂ （０，Ｌ）４３ｇ、 １．１５ｍｍｏｌ
ｅ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。反応液を無水硫
酸マグネ７クムを用いて濾過し、濾液を水、飽和賞塩水
で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去すると、３−ヒドロキシ−４−を−ブチルジメチル
クリルオキシ−４−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペン
テン（０，２３３ｇ）：Ａ１体異性体の混合物としてほ
ぼ定量的に得られた。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ）；ｓ、ｓｓ〜６．υ５（２Ｈ）、５
．４０〜５．６５（２Ｈ）、４．５０〜４．６５（０，
８Ｈ）。
．４０〜５．６５（２Ｈ）、４．５０〜４．６５（０，
８Ｈ）。
４．１０〜４．３５ （ｔ）、２）１ ） 、 ２．２
Ｕ〜２．７Ｌ）（４Ｈ）。
Ｕ〜２．７Ｌ）（４Ｈ）。
１．８５〜２−２Ｌｌ（２１−１）、１．６ｔ）〜２．
．＜Ｌ）（ＩＨ）。
．＜Ｌ）（ＩＨ）。
１．１０〜１．６０ （６Ｈ） 、 ０．９０ （１２
Ｈ，ｔａｎｄ ｓ） 、 ０．０２（６Ｈ，ｓ ） 。
Ｈ，ｔａｎｄ ｓ） 、 ０．０２（６Ｈ，ｓ ） 。
ＩＲａｍ ：３４２５゜
ＭＳ ｍ／ｚ、％；３３４，２６７゜参考例３
３−ヒドロキク−４−１−ブチルジメチルクリルオキシ
−４−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン（Ｌｌ、
２３３ ｇ 、約０．７２ｍｍｏｌｅ） （立体異性体
の混合物）をアルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（６
Ｉ１１１）に溶解し、無水ピリジン（０，５６ａ／！及
びメタンスルホン酸無水物（０，２５２ｇ、 １．４５
ｍｍｏｌｅ）を加えて０℃で３０分間攪拌した。反応液
を無水硫酸マグネシウムを充填した力２ムを通過させ、
無水アセトンで流出した。流出液Ｋｌ〜１．５１１１１
４の水を加え室温で３０分攪拌し九後、飽和員酸水素ナ
トリウム水ｇｉｔ−カロえて４時間攪拌して、メタンス
ルホン酸無水物を分解した。反応液をエーテルで抽出し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
−４−（２−Ｚ−オクテニル）シクロペンテン（Ｌｌ、
２３３ ｇ 、約０．７２ｍｍｏｌｅ） （立体異性体
の混合物）をアルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（６
Ｉ１１１）に溶解し、無水ピリジン（０，５６ａ／！及
びメタンスルホン酸無水物（０，２５２ｇ、 １．４５
ｍｍｏｌｅ）を加えて０℃で３０分間攪拌した。反応液
を無水硫酸マグネシウムを充填した力２ムを通過させ、
無水アセトンで流出した。流出液Ｋｌ〜１．５１１１１
４の水を加え室温で３０分攪拌し九後、飽和員酸水素ナ
トリウム水ｇｉｔ−カロえて４時間攪拌して、メタンス
ルホン酸無水物を分解した。反応液をエーテルで抽出し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカクムクロマ
トグ２フィーにより精製し、３−１−ブチルジメチルシ
リルオキクー３（２−Ｚ−オクテニル）−５−ヒドロキ
シフクロペンテン（０，１８２ｇ。
トグ２フィーにより精製し、３−１−ブチルジメチルシ
リルオキクー３（２−Ｚ−オクテニル）−５−ヒドロキ
シフクロペンテン（０，１８２ｇ。
７８チ）を立体異性体の混合物として得た。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ）；５，８７（２Ｈ）、５．１５〜５
．６５（２ｌ−１） 、 ４，７４．、−５．Ｌｌ Ｏ
（ｔ）、５ｌ−ｆ） 、 ４．４５〜５．６５（０，５
Ｈ）、０．９０（９Ｈ，ｓ ａｎｄ ｔ）。
．６５（２ｌ−１） 、 ４，７４．、−５．Ｌｌ Ｏ
（ｔ）、５ｌ−ｆ） 、 ４．４５〜５．６５（０，５
Ｈ）、０．９０（９Ｈ，ｓ ａｎｄ ｔ）。
０．０２（６Ｈ，ｓ）。
Ｉ几α ；３３５Ｌ）。
ＭＳ ｍ／ｚ、％；３２４，３＋３６，２６７゜参考例
４ プ皇Ｕ
二；８１０３−トリメチルクリルオキシ−３−（
２−Ｚ−オクテニル）−５−ヒトａ＋シーククロペンテ
ン（９，Ｏｍｇ、 Ｌ）、Ｌ） ３２ｍｍｏ ｌ ｅ
）をアルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（０，５ｍｇ
） Ｋ溶解し、コリンズ試薬（８（ｂｙ、 Ｌ）、３１
５ｍｍｏｌｅ）を加えて室温で２０分間直しく憧拌した
う反応液を７リカゲルを用いて濾過し、溶媒を留去して
４−トリメチルシリルオキクー４−（２−Ｚ−オクテニ
ル）−２−７クロペンテンー１−オン８．９ａｐ（１０
０ｑｋ）を得た。
４ プ皇Ｕ
二；８１０３−トリメチルクリルオキシ−３−（
２−Ｚ−オクテニル）−５−ヒトａ＋シーククロペンテ
ン（９，Ｏｍｇ、 Ｌ）、Ｌ） ３２ｍｍｏ ｌ ｅ
）をアルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン（０，５ｍｇ
） Ｋ溶解し、コリンズ試薬（８（ｂｙ、 Ｌ）、３１
５ｍｍｏｌｅ）を加えて室温で２０分間直しく憧拌した
う反応液を７リカゲルを用いて濾過し、溶媒を留去して
４−トリメチルシリルオキクー４−（２−Ｚ−オクテニ
ル）−２−７クロペンテンー１−オン８．９ａｐ（１０
０ｑｋ）を得た。
Ｎ１ｖｉＲＪ（ｐｐｍ）；７．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６
．０Ｈｚ）。
．０Ｈｚ）。
６．１１ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝６．ＧＨｚ ） 、
５，２Ｌｌ〜５．７０（２Ｈ）、２．３５〜２．５５
（４皇ｉ）、１．８０〜２．２０（２）１）、１．１３
５〜１．５Ｌ）（６）１）、０．８６（３Ｈ，ｔ ）
、 ０．０９ （，９Ｈ，ｓ ） 。
５，２Ｌｌ〜５．７０（２Ｈ）、２．３５〜２．５５
（４皇ｉ）、１．８０〜２．２０（２）１）、１．１３
５〜１．５Ｌ）（６）１）、０．８６（３Ｈ，ｔ ）
、 ０．０９ （，９Ｈ，ｓ ） 。
工几傷 ；１７３１）、１５９Ｌ）。
＋ 十
Ｍ８ ｍ／ｚ、９Ｇ；２７９（Ｍ −１）（８）、２６
５（Ｍ−１５）（３）、１７Ｌ）（１５）、１６９（１
００）。
５（Ｍ−１５）（３）、１７Ｌ）（１５）、１６９（１
００）。
１６７（１８）、１４９（４６）、７５（２０）。
７３（８９）。
参考例５
４−トリメチルクリルオキクー４−（２−Ｚ−オクテニ
ル）−２−７クロペンテンー１−オン（８，９ｍｇ、
０．ＩＪ ３２ｍｍｏｌ ｅ）を酢酸／ＴＨＦ／水（８
／８／ｌ）の混合溶液（２−）にｍ解し、寥温で一便攪
拌した。反応液に飽和炭酸水素すｌラム水溶液を加えエ
ーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾−し溶媒
を留去し、４−ヒドロ争シー４−（２−Ｚ−オクテニル
）−２−７クロペンテンー１−オン６．５ダ（９８チ）
を得た。
ル）−２−７クロペンテンー１−オン（８，９ｍｇ、
０．ＩＪ ３２ｍｍｏｌ ｅ）を酢酸／ＴＨＦ／水（８
／８／ｌ）の混合溶液（２−）にｍ解し、寥温で一便攪
拌した。反応液に飽和炭酸水素すｌラム水溶液を加えエ
ーテルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾−し溶媒
を留去し、４−ヒドロ争シー４−（２−Ｚ−オクテニル
）−２−７クロペンテンー１−オン６．５ダ（９８チ）
を得た。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ） ； ７．４１（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ
＝６．υＨｚ）。
＝６．υＨｚ）。
６．１３（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝６．Ｌ）Ｈｚ ） 、
５．２０〜５．９０（２Ｈ）、２．４０〜２．６０（４
Ｈ）、１．９０〜２．２０（３Ｈ）、１．Ｌ）５〜１．
５０（６）Ｉ）、０．８６（３Ｈ。
５．２０〜５．９０（２Ｈ）、２．４０〜２．６０（４
Ｈ）、１．９０〜２．２０（３Ｈ）、１．Ｌ）５〜１．
５０（６）Ｉ）、０．８６（３Ｈ。
ｔ）。
ｌＲｍ ；３４５０，１７２Ｌ）、１６８０（ｓｈｏ
ｕｌｄｅｒ）。
ｕｌｄｅｒ）。
１５９０゜
＋
Ｍ８ ！ＩＩ／ｚ、％；２０９（Ｍ ＋１）（１）、１
１２（２４）。
１２（２４）。
９８（ｌυ０）、９７（６７）。
本化合物は、山田らによプク２プロンへ既に変換されて
いる（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、２旦。
いる（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ、、２旦。
３６２１（１９８４））。
参考例６
３−１−プチルジメテルクリルオ中クー３−（２−Ｚ−
オクテニル）−５−１ドロ中クシクロペンテン（１６２
Ｈｚｇ、 ０．５ｍｍｏｌ ｅ ）をアルゴン雰囲気下
、無水塩化メチレン（クー）に８％し、コリンズ試４１
（１，２７ｇ 、 ５ｍｍｏｌｅ）を加えて室温で２０
分間激しく攪拌した。反応液をクリカグルを用いて様過
し、溶媒を留去して４−１−プチルジメテルオ中シー４
−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテン−１−
オｙ（１８１ｍｇ、１００％）を得た。
オクテニル）−５−１ドロ中クシクロペンテン（１６２
Ｈｚｇ、 ０．５ｍｍｏｌ ｅ ）をアルゴン雰囲気下
、無水塩化メチレン（クー）に８％し、コリンズ試４１
（１，２７ｇ 、 ５ｍｍｏｌｅ）を加えて室温で２０
分間激しく攪拌した。反応液をクリカグルを用いて様過
し、溶媒を留去して４−１−プチルジメテルオ中シー４
−（２−Ｚ−オクテニル）−２−シクロペンテン−１−
オｙ（１８１ｍｇ、１００％）を得た。
ＮＭＲδ（ｐｐｍ）；７．４１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６．０
Ｈｚ）。
Ｈｚ）。
６．１１ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝６．０Ｈｚ ） 、
５．２ ｕ〜＆７０（２Ｈ）、２．３５〜２．５５（４
Ｈ）、ｌ、８０〜２．２０（２Ｍ）、 ｌ、０５〜１．
５ｕ（ｓＨ）、Ｕ、９０（９Ｈ。
５．２ ｕ〜＆７０（２Ｈ）、２．３５〜２．５５（４
Ｈ）、ｌ、８０〜２．２０（２Ｍ）、 ｌ、０５〜１．
５ｕ（ｓＨ）、Ｕ、９０（９Ｈ。
ａ ａｎｄ ｔ） 、 Ｕ、０２（６Ｍ、 ｓ ） 。
Ｉ几ａｍ ；１７３０，１５９０゜
Ｍ８ ｍ／ｚ −Ｔｏ ； Ａ ２２ ｅ ｊ ｂ ５
一本化合物は既にＣｏｒｅｙらｋよ’り（Ｊ、Ａｍ、Ｃ
ｈｅｍ。
一本化合物は既にＣｏｒｅｙらｋよ’り（Ｊ、Ａｍ、Ｃ
ｈｅｍ。
８０Ｃ，、ＬＬ！Ｌ、３３８４（１９８４））ククプａ
７１１ｉ変換されている。
７１１ｉ変換されている。
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるシクロペンタン誘導体（式中、Ｘは−ＣＨ
＿２−ＣＨ＝Ｃ（ＯＲ＾１）−、▲数式、化学式、表等
があります▼又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−で表わ
される基であり、Ｒは水素原子又は水酸基の保護基であ
り、Ｒ＾１は水酸基の保護基である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60020923A JPS61180734A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | シクロペンタン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60020923A JPS61180734A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | シクロペンタン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180734A true JPS61180734A (ja) | 1986-08-13 |
Family
ID=12040739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60020923A Pending JPS61180734A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | シクロペンタン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180734A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5541631A (en) * | 1990-09-22 | 1996-07-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink cartridge including projection for preventing erroneous loading |
-
1985
- 1985-02-07 JP JP60020923A patent/JPS61180734A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5541631A (en) * | 1990-09-22 | 1996-07-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink cartridge including projection for preventing erroneous loading |
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