JPS61164270U - - Google Patents

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JPS61164270U
JPS61164270U JP4878085U JP4878085U JPS61164270U JP S61164270 U JPS61164270 U JP S61164270U JP 4878085 U JP4878085 U JP 4878085U JP 4878085 U JP4878085 U JP 4878085U JP S61164270 U JPS61164270 U JP S61164270U
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JP
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magnetic field
sputtering
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magnet
magnetic
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JP4878085U
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  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例であるマグネトロン
型スパツタ装置の概略を示す構成図である。第2
図は第1図の装置において磁界発生装置上に取り
付けられたターゲツトの一部を切り欠いた平面図
である。第3図は第2図における―視断面図
である。第4図は第3図の部分拡大図である。第
5図は従来のマグネトロン型スパツタ装置の一例
を示す部分断面図であつて、第4図に相当する図
である。第6図は本考案の他の実施例に用いられ
る電磁石の平面図である。 34:ターゲツト、38:永久磁石(磁界発生
装置)、42,44:磁極、50:永久磁石、5
8:スパツタ面、62:電磁石。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 強磁性体材料から成るターゲツトのスパツ
    タ面と反対側に設けられ、該スパツタ面に磁力線
    がトンネル状となる磁界を漏れ磁束により形成す
    る磁界発生装置を備え、該スパツタ面に高エネル
    ギーのイオンを激突させることにより前記ターゲ
    ツトを構成する物質をスパツタさせるマグネトロ
    ン型スパツタ装置において、 前記磁界発生装置の対を成す磁極間に、それら
    の磁極によつて形成される磁界の向きと逆方向の
    磁界を形成する磁石を設け、前記ターゲツト面上
    に形成される磁界の強度分布を平滑化したことを
    特徴とするマグネトロン型スパツタ装置。 (2) 前記磁石が永久磁石であり、且つその永久
    磁石が前記ターゲツトに対して接近可能に設けら
    れている実用新案登録請求の範囲第(1)項に記載
    のマグネトロン型スパツタ装置。 (3) 前記磁石が電磁石であり、且つその電磁石
    の励磁電流の大きさが調節可能とされている実用
    新案登録請求の範囲第(1)項に記載のマグネトロ
    ン型スパツタ装置。
JP4878085U 1985-04-02 1985-04-02 Pending JPS61164270U (ja)

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JP4878085U JPS61164270U (ja) 1985-04-02 1985-04-02

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JPS61164270U true JPS61164270U (ja) 1986-10-11

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