JPS61160846A - 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置 - Google Patents
縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置Info
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- JPS61160846A JPS61160846A JP60001781A JP178185A JPS61160846A JP S61160846 A JPS61160846 A JP S61160846A JP 60001781 A JP60001781 A JP 60001781A JP 178185 A JP178185 A JP 178185A JP S61160846 A JPS61160846 A JP S61160846A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0055—Erasing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1398—Means for shaping the cross-section of the beam, e.g. into circular or elliptical cross-section
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置、
特に、書換えが可能で高密度記録、再生ができるような
情報記録媒体への情報信号の記録、再生時に用いられる
ような縦横比の大きな断面形状の光点を形成させること
ができるようにした縦横比の大きな断面形状の光点の形
成装置に関する。
特に、書換えが可能で高密度記録、再生ができるような
情報記録媒体への情報信号の記録、再生時に用いられる
ような縦横比の大きな断面形状の光点を形成させること
ができるようにした縦横比の大きな断面形状の光点の形
成装置に関する。
（従来の技術）
近年来、各種の技術分野において、高密度記録再生の要
求が高まるのにつれて１色々な形式の記録媒体による高
密度記録再生が試みられるようになったが、その中の一
つとして、電磁波や電界、電流の印加、加熱などによっ
て非晶質状態から結晶状態への相変化、または結晶状態
から非晶質状態への相変化が生じるような材料（例えば
Ｔ ｅ Ｏｘ 。
求が高まるのにつれて１色々な形式の記録媒体による高
密度記録再生が試みられるようになったが、その中の一
つとして、電磁波や電界、電流の印加、加熱などによっ
て非晶質状態から結晶状態への相変化、または結晶状態
から非晶質状態への相変化が生じるような材料（例えば
Ｔ ｅ Ｏｘ 。
Ｑｅ、Ｓｎ ）の薄膜を、真空蒸着法またはスパッタリ
ング法の適用によって成膜してなる記録層を基板上に備
えさせてなる情報記録媒体（例えば、テレビジョン学会
誌ＶＯＬ、３８．ＮＯ，３，第１１頁乃至第１５頁参照
・・・以下、前記の文献という）を用い、前記した情報
記録媒体の記録層に基板を通して情報信号によって強度
変調されているレーザ光の微小なスポットを投射し、記
録媒体の記録層に対して前記のレーザ光の熱により情報
信号に応じた相変化を起こさせて記録媒体の記録層に情
報信号を記録し、また、前記のように情報信号に応じた
相変化によって情報信号が記録されている状態の記ｓｉ
Ｍに、一定の強さのレーザ光のスポットを当てて、前記
した記録媒体の記録層に相変化の状態として記録されて
いる情報信号を、記録層の面からの反射光を光電変換す
ることによって再生するようにした情報信号の光学的な
記録再生方式が、書換えの可能性もあるということもあ
って注目されている。
ング法の適用によって成膜してなる記録層を基板上に備
えさせてなる情報記録媒体（例えば、テレビジョン学会
誌ＶＯＬ、３８．ＮＯ，３，第１１頁乃至第１５頁参照
・・・以下、前記の文献という）を用い、前記した情報
記録媒体の記録層に基板を通して情報信号によって強度
変調されているレーザ光の微小なスポットを投射し、記
録媒体の記録層に対して前記のレーザ光の熱により情報
信号に応じた相変化を起こさせて記録媒体の記録層に情
報信号を記録し、また、前記のように情報信号に応じた
相変化によって情報信号が記録されている状態の記ｓｉ
Ｍに、一定の強さのレーザ光のスポットを当てて、前記
した記録媒体の記録層に相変化の状態として記録されて
いる情報信号を、記録層の面からの反射光を光電変換す
ることによって再生するようにした情報信号の光学的な
記録再生方式が、書換えの可能性もあるということもあ
って注目されている。
（発明が解決しようとする問題点）
さて、前記したように電磁波や電界、電流の印加、加熱
などによって非晶質状態から結晶状態への相変化、また
は結晶状態から非晶質状態への相変化が生じるような材
料（例えば、 Ｔ ｅ ＯＸ ｚ Ｇ ６ ｔＳｎ）の
薄膜を、真空蒸着法またはスパッタリング法の適用によ
って成膜してなる記録層を基板上に備えさせてなる情報
記録媒体は、前記の文献によれば、それの結晶状態の部
分に断面形状が円形のレーザ光ビームを短時間照射する
ことにより、その部分を光の反射率の高い結晶状態から
光の反射率の低い非晶質の状態に転移し、また、非晶質
の部分を前記した断面形状が円形のレーザ光ビームによ
る照射時間よりも長い時間にわたって照射できるように
、１！ｌ長い断面形状のレーザ光ビームで照射した場合
には、その部分が光の反射率の低い非晶質の状態から光
の反射率の高い結晶状態に転移するが、前記のように記
録層に断面形状が円形のレーザ光ビームで短時間だけ照
射するときに記録層が結晶状態から非晶質の状態へ転移
するのは、記録層が急加熱、急冷却されることによるた
めであり、また、前記のように記録層に断面形状が釉長
いレーザ光ビームで長い時間照射するときに記録層が非
晶質の状態から結晶状態へ転移するのは、記録層が徐加
熱、徐冷部（アニール）されることによるためであると
説明されている。
などによって非晶質状態から結晶状態への相変化、また
は結晶状態から非晶質状態への相変化が生じるような材
料（例えば、 Ｔ ｅ ＯＸ ｚ Ｇ ６ ｔＳｎ）の
薄膜を、真空蒸着法またはスパッタリング法の適用によ
って成膜してなる記録層を基板上に備えさせてなる情報
記録媒体は、前記の文献によれば、それの結晶状態の部
分に断面形状が円形のレーザ光ビームを短時間照射する
ことにより、その部分を光の反射率の高い結晶状態から
光の反射率の低い非晶質の状態に転移し、また、非晶質
の部分を前記した断面形状が円形のレーザ光ビームによ
る照射時間よりも長い時間にわたって照射できるように
、１！ｌ長い断面形状のレーザ光ビームで照射した場合
には、その部分が光の反射率の低い非晶質の状態から光
の反射率の高い結晶状態に転移するが、前記のように記
録層に断面形状が円形のレーザ光ビームで短時間だけ照
射するときに記録層が結晶状態から非晶質の状態へ転移
するのは、記録層が急加熱、急冷却されることによるた
めであり、また、前記のように記録層に断面形状が釉長
いレーザ光ビームで長い時間照射するときに記録層が非
晶質の状態から結晶状態へ転移するのは、記録層が徐加
熱、徐冷部（アニール）されることによるためであると
説明されている。
そして、前記したように電磁波や電界、電流の印加、加
熱などによって非晶質状態から結晶状態への相変化、ま
たは結晶状態から非晶質状態への相変化が生じるような
材料（例えば、ＴｅＯｘ、Ｇｅ。
熱などによって非晶質状態から結晶状態への相変化、ま
たは結晶状態から非晶質状態への相変化が生じるような
材料（例えば、ＴｅＯｘ、Ｇｅ。
Ｓｎ）の薄膜を、真空蒸着法またはスパッタリング法の
適用によって成膜してなる記Ｓ層を基板上に備えさせて
なる情報記録媒体により、書換え自在に情報信号の記録
再生を行なうようにする場合には１例えば、最初に記録
層の全面を結晶状態にしておき、その記録層に情報信号
によって強度変調されている断面形状が円形のレーザ光
ビームを照射して記録層が急加熱、急冷却されるように
して、記録層を結晶状態から非晶質の状態へ転移させて
情報信号の記録を行ない１次に、前記のように情報信号
が記録されている記録層に別の情報信号を書換える場合
には、記８Ｍに断面形状が細長いレーザ光ビームを照射
して、記録層を徐加熱。
適用によって成膜してなる記Ｓ層を基板上に備えさせて
なる情報記録媒体により、書換え自在に情報信号の記録
再生を行なうようにする場合には１例えば、最初に記録
層の全面を結晶状態にしておき、その記録層に情報信号
によって強度変調されている断面形状が円形のレーザ光
ビームを照射して記録層が急加熱、急冷却されるように
して、記録層を結晶状態から非晶質の状態へ転移させて
情報信号の記録を行ない１次に、前記のように情報信号
が記録されている記録層に別の情報信号を書換える場合
には、記８Ｍに断面形状が細長いレーザ光ビームを照射
して、記録層を徐加熱。
徐冷部し、記＠暦における非晶質の状態の部分を結晶状
態へ転移させるようにして記録済みの部分を消去した後
に、記録層に新らたな情報信号によって強度変調されて
いる断面形状が円形のレーザ光ビームの照射により記録
層が急加熱、急冷却されるようにし、記録層を結晶状態
から非晶質の状態へ転移させて新らたな情報信号の記録
が行なわれるようにすればよい。
態へ転移させるようにして記録済みの部分を消去した後
に、記録層に新らたな情報信号によって強度変調されて
いる断面形状が円形のレーザ光ビームの照射により記録
層が急加熱、急冷却されるようにし、記録層を結晶状態
から非晶質の状態へ転移させて新らたな情報信号の記録
が行なわれるようにすればよい。
前記のように既記緑部分の消去を行なうのには、縦横比
の大きな断面形状の光点が必要とされるのであり、その
ような光点を得るためには断面形状の細長いレーザ光ビ
ームが用いられるのである。
の大きな断面形状の光点が必要とされるのであり、その
ような光点を得るためには断面形状の細長いレーザ光ビ
ームが用いられるのである。
ところで、半導体レーザから放射されるレーザ光は、発
光点からの拡がり角が垂直方向と水平方向とについて異
なっているので、半導体レーザから放射された光をコリ
メートレンズによって平行光にした場合には、断面の縦
横比が通常１対３程度の光が得られるのであり、従来か
ら前記のような細長い断面の光を集光レンズによって集
光して、話録媒体面上に縦横比が１対５乃至１対２０程
度において任意の断面形状を有する光点が得られるよう
にしていた。
光点からの拡がり角が垂直方向と水平方向とについて異
なっているので、半導体レーザから放射された光をコリ
メートレンズによって平行光にした場合には、断面の縦
横比が通常１対３程度の光が得られるのであり、従来か
ら前記のような細長い断面の光を集光レンズによって集
光して、話録媒体面上に縦横比が１対５乃至１対２０程
度において任意の断面形状を有する光点が得られるよう
にしていた。
第４図の（ａ）〜（ｄ）は、従来試みられていたレーザ
光ビームによる縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置の代表的な構成例を示したものであり、まず、第４図
の（ａ）に示されている縦横比の大きな断面形状の光点
の形成装置においては、半導体レーザ１から放射された
レーザ光ビームを、コリメートレンズ２によって平行光
にしてから、形状補正用の三角プリズム６により縦横比
の太きなレーザ光ビームとし、それを集光レンズ４によ
って集光して、記録媒体５の面上に所要な楕円形断面の
光点が得られるようにしている。
光ビームによる縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置の代表的な構成例を示したものであり、まず、第４図
の（ａ）に示されている縦横比の大きな断面形状の光点
の形成装置においては、半導体レーザ１から放射された
レーザ光ビームを、コリメートレンズ２によって平行光
にしてから、形状補正用の三角プリズム６により縦横比
の太きなレーザ光ビームとし、それを集光レンズ４によ
って集光して、記録媒体５の面上に所要な楕円形断面の
光点が得られるようにしている。
また、第４図の（ｂ）に示されている縦横比の大きな断
面形状の光点の形成装置においては、半導体レーザ１か
ら放射されたレーザ光ビームをコリメートレンズ２によ
って平行光にしてから、スリット板７のスリット７ａに
よって細長い断面形状のレーザ光ビームとし、それを集
光レンズ４によって集光して、記録媒体５の面上に所要
な縦横比の大きな断面形状の光点が得られるようにして
いる。
面形状の光点の形成装置においては、半導体レーザ１か
ら放射されたレーザ光ビームをコリメートレンズ２によ
って平行光にしてから、スリット板７のスリット７ａに
よって細長い断面形状のレーザ光ビームとし、それを集
光レンズ４によって集光して、記録媒体５の面上に所要
な縦横比の大きな断面形状の光点が得られるようにして
いる。
さらに、第４図の（ｃ）に示されている縦横比の大きな
断面形状の光点の形成装置においては、半導体レーザ１
から放射されたレーザ光ビームを円筒軸の方向が互に直
交している２つの円筒レンズ８．９に順次に通過させて
、Ｈ長い断面形状のレーザ光ビームとし、それを集光レ
ンズ４によって集光して、記録媒体５の面上に所要な縦
横比の大きな断面形状の光点が得られるようにしている
。
断面形状の光点の形成装置においては、半導体レーザ１
から放射されたレーザ光ビームを円筒軸の方向が互に直
交している２つの円筒レンズ８．９に順次に通過させて
、Ｈ長い断面形状のレーザ光ビームとし、それを集光レ
ンズ４によって集光して、記録媒体５の面上に所要な縦
横比の大きな断面形状の光点が得られるようにしている
。
さらにまた、第４図の（ｄ）に示されている縦横比の大
きな断面形状の光点の形成装置においては。
きな断面形状の光点の形成装置においては。
半導体レーザ１から放射されたレーザ光ビームをコリメ
ートレンズ２によって平行光にしてから。
ートレンズ２によって平行光にしてから。
音響光学的光変調器１０によって細長い断面形状のレー
ザ光ビームとし、それを集光レンズ４によって集光して
、記録媒体５の面上に所要な縦横比の大きな断面形状の
光点が得られるようにしている。
ザ光ビームとし、それを集光レンズ４によって集光して
、記録媒体５の面上に所要な縦横比の大きな断面形状の
光点が得られるようにしている。
しかしながら、前記した第４図の（ａ）〜（ｄ）にそれ
ぞれ示されている縦横比の大きな断面形状の光点の形成
装置には、それぞれ次のような欠点がある。
ぞれ示されている縦横比の大きな断面形状の光点の形成
装置には、それぞれ次のような欠点がある。
すなわち、第４図の（ａ）に示されている縦横比の大き
な断面形状の光点の形成装置においては、形状補正用の
三角プリズム６を用いているために、光学系の光軸が曲
がっているものになっているから１機構の設計が複雑で
あるとともに、光点の断面の縦横比を変更するために異
なる頂角を有する形状補正用の三角プリズム６に変更し
た場合には。
な断面形状の光点の形成装置においては、形状補正用の
三角プリズム６を用いているために、光学系の光軸が曲
がっているものになっているから１機構の設計が複雑で
あるとともに、光点の断面の縦横比を変更するために異
なる頂角を有する形状補正用の三角プリズム６に変更し
た場合には。
形状補正用の三角プリズム６に入射させるレーザ光ビー
ムの光路も変更することが必要とされるために、調整が
難かしく、さらに、形状補正用の三角プリズム６に入射
されるレーザ光ビームの入射角が臨界角によって制限さ
れることから、縦横比の非常に大きな断面形状の光点を
形成させることができないという欠点がある。
ムの光路も変更することが必要とされるために、調整が
難かしく、さらに、形状補正用の三角プリズム６に入射
されるレーザ光ビームの入射角が臨界角によって制限さ
れることから、縦横比の非常に大きな断面形状の光点を
形成させることができないという欠点がある。
また、第４図の（ｂ）に示されている縦横比の大きな断
面形状の光点の形成装置においては、スリット７ａによ
って入射されるレーザ光ビームの大部分が捨てられてし
まうので、レーザ光源として非常に大出力のものが使用
されない限り実用にならないという欠点があり、さらに
、第４図の（ｃ）に示されている縦横比の大きな断面形
状の光点の形成装置には、光学系のＷＲ整が非常に困難
であるという欠点があり、さらにまた、第４図の（ｄ）
に示されている縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置では、高価な音響光学的光変調器１０の使用が必要に
されるという欠点がある。
面形状の光点の形成装置においては、スリット７ａによ
って入射されるレーザ光ビームの大部分が捨てられてし
まうので、レーザ光源として非常に大出力のものが使用
されない限り実用にならないという欠点があり、さらに
、第４図の（ｃ）に示されている縦横比の大きな断面形
状の光点の形成装置には、光学系のＷＲ整が非常に困難
であるという欠点があり、さらにまた、第４図の（ｄ）
に示されている縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置では、高価な音響光学的光変調器１０の使用が必要に
されるという欠点がある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、レーザ光源と記録媒体との間に設けられる光
学系が１円筒レンズと集光レンズとを含んでいて、予め
定められた一方の方向については記録媒体面に焦点を結
び、また、前記した予め定められた一方の方向に対して
直交する方向については焦点が結ばないようなものとし
て構成されていることを特徴とする縦横比の大きな断面
形状の光点の形成装置を提供するものである。
学系が１円筒レンズと集光レンズとを含んでいて、予め
定められた一方の方向については記録媒体面に焦点を結
び、また、前記した予め定められた一方の方向に対して
直交する方向については焦点が結ばないようなものとし
て構成されていることを特徴とする縦横比の大きな断面
形状の光点の形成装置を提供するものである。
（実施例）
以下、本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置の具体的な内容について、添付図面を参照しながら詳
細に説明する。
置の具体的な内容について、添付図面を参照しながら詳
細に説明する。
第１図は５本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形
成装置の一実施例の概略構成を示す斜視図であり、第２
図は第１図示の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置における光学系の説明図、第３図は本発明の縦横比の
大きな断面形状の光点の形成装置の他の実施例の概略構
成を示す斜視図である。
成装置の一実施例の概略構成を示す斜視図であり、第２
図は第１図示の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装
置における光学系の説明図、第３図は本発明の縦横比の
大きな断面形状の光点の形成装置の他の実施例の概略構
成を示す斜視図である。
第１図乃至第３図の（ａ’）〜（ｄ）において、１は半
導体レーザ、３は円筒レンズ、４は集光レンズであり、
また、第１図と第２図及び第３図の（ａ）ならびに第３
１！ｆの（ｄ）における２はコリメートレンズである。
導体レーザ、３は円筒レンズ、４は集光レンズであり、
また、第１図と第２図及び第３図の（ａ）ならびに第３
１！ｆの（ｄ）における２はコリメートレンズである。
第１図において、半導体レーザ１から放射されたレーザ
光ビームは、コリメートレンズ２によって平行光になさ
れてから円筒レンズ３に入射される。前記した円筒レン
ズ３は、それに入射されたレーザ光ビームは１円筒レン
ズ３の円筒軸の方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方向）
に関しては。
光ビームは、コリメートレンズ２によって平行光になさ
れてから円筒レンズ３に入射される。前記した円筒レン
ズ３は、それに入射されたレーザ光ビームは１円筒レン
ズ３の円筒軸の方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方向）
に関しては。
第２図の（ｂ）、（ｄ）における３、４の区間に示され
ているように集束作用を行なわず、また、前記した円筒
レンズ３の円筒軸の方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方
向）と直交する方向（第１図中におけるＹ−Ｙの方向）
に関しては、第２図の（ａ）。
ているように集束作用を行なわず、また、前記した円筒
レンズ３の円筒軸の方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方
向）と直交する方向（第１図中におけるＹ−Ｙの方向）
に関しては、第２図の（ａ）。
（Ｃ）における３、４の区間に示されているように集束
作用を行なう。
作用を行なう。
前記した第１図示のように円筒レンズ３と集光レンズ４
とを含んで構成されている光学系において、前記のよう
に円筒レンズ３によって特定の方向（第１図中における
Ｙ−Ｙ方向）についてだけ集束作用を受けた状態で円筒
レンズ３から出射したレーザ光が集光される面は、第２
図に示されているＡ、Ｂのように２つ存在している。
とを含んで構成されている光学系において、前記のよう
に円筒レンズ３によって特定の方向（第１図中における
Ｙ−Ｙ方向）についてだけ集束作用を受けた状態で円筒
レンズ３から出射したレーザ光が集光される面は、第２
図に示されているＡ、Ｂのように２つ存在している。
すなわち１円筒レンズ３によって集束作用が行なわれな
かった方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方向）のレーザ
光ビームは、集光レンズ４の集束作用だけによって第２
図の（ｂ）、（ｄ）に示されているように面Ｂに集光し
、また、円筒レンズ３によって集束された方向（第１図
中におけるＹ−Ｙの方向）のレーザ光ビームは、第２図
の（ａ）、（Ｃ）に示されているように円筒レンズ３と
集光レンズ４との双方の集束作用によって面Ａに集光す
る。
かった方向（第１図中におけるＸ−Ｘの方向）のレーザ
光ビームは、集光レンズ４の集束作用だけによって第２
図の（ｂ）、（ｄ）に示されているように面Ｂに集光し
、また、円筒レンズ３によって集束された方向（第１図
中におけるＹ−Ｙの方向）のレーザ光ビームは、第２図
の（ａ）、（Ｃ）に示されているように円筒レンズ３と
集光レンズ４との双方の集束作用によって面Ａに集光す
る。
したがって、記録媒体５の面を前記した２つの面Ａ、Ｈ
の内の一方の面１例えば面Ａ（またはＢ）におけば、そ
の面Ａ（またはＢ）に集光するＹ−Ｙ方向（またはＸ−
Ｘ方向）の光に直交しているＸ−Ｘ方向（またはＹ−Ｙ
方向）の光は、ディフォーカスの状態になされる。
の内の一方の面１例えば面Ａ（またはＢ）におけば、そ
の面Ａ（またはＢ）に集光するＹ−Ｙ方向（またはＸ−
Ｘ方向）の光に直交しているＸ−Ｘ方向（またはＹ−Ｙ
方向）の光は、ディフォーカスの状態になされる。
第２図の（ａ）、（ｂ）は、Ｂ面に記録媒体５が位置さ
れている状態に光学系の位置が自動制御されるように１
本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置が構
成されている場合を示し、また。
れている状態に光学系の位置が自動制御されるように１
本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置が構
成されている場合を示し、また。
第２図の（ｃ）、（ｄ）は、Ａ面に記録媒体５が位置さ
れている状態に光学系の位置が自動制御されるように、
本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置が構
成されている場合を示している。
れている状態に光学系の位置が自動制御されるように、
本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置が構
成されている場合を示している。
そして、本発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成
装置においては、第２図の（Ｃ）、（ｄ）に示されてい
るように、記録媒体５が前記したＡ面に位置するような
状態で実施されても、あるいは。
装置においては、第２図の（Ｃ）、（ｄ）に示されてい
るように、記録媒体５が前記したＡ面に位置するような
状態で実施されても、あるいは。
第２図の（ａ）、（ｂ）に示されているように、記録−
媒体５が前記したＢ面に位置した状態で実施されてもよ
いのであるが、第２図の（ａ）、（ｂ）に示されている
ように、記録媒体５が前記したＢ面に位置されるような
状態で実施された方が、光点の合焦位置の決定のための
調整が簡単に行なわれうるという利点が得られる他、円
筒レンズ３を任意の位置に設定できるという利点が得ら
れる。
媒体５が前記したＢ面に位置した状態で実施されてもよ
いのであるが、第２図の（ａ）、（ｂ）に示されている
ように、記録媒体５が前記したＢ面に位置されるような
状態で実施された方が、光点の合焦位置の決定のための
調整が簡単に行なわれうるという利点が得られる他、円
筒レンズ３を任意の位置に設定できるという利点が得ら
れる。
さて、前記したように本発明の縦横比の大きな断面形状
の光点の形成装置は、レーザ光源１例えば半導体レーザ
１と記録媒体５との間に設けられる光学系が、円筒レン
ズ３と集光レンズ４とを含んでいて、予め定められた一
方の方向については記録媒体５の面に焦点を結び、また
、前記した予め定められた一方の左向に対して直交する
方向については焦点が結ばないようなものとして構成さ
せたものであるが、前記した光学系によって記録媒体５
の面に焦点を結ぶように集光されるレーザ光における断
面の方向は、断面における長い方の方向となるように設
定されているから、記録媒体５の面に形成される光点の
断面形状は、記録媒体５の面に焦点を結ぶ予め定められ
た一方の方向については極めて小さな寸法を有しており
、また、記録媒体５の面に焦点を結ばない前記した予め
定められた一方の方向に対して直交する方向については
大きな寸法を有している如き断面形状を示すものになる
。
の光点の形成装置は、レーザ光源１例えば半導体レーザ
１と記録媒体５との間に設けられる光学系が、円筒レン
ズ３と集光レンズ４とを含んでいて、予め定められた一
方の方向については記録媒体５の面に焦点を結び、また
、前記した予め定められた一方の左向に対して直交する
方向については焦点が結ばないようなものとして構成さ
せたものであるが、前記した光学系によって記録媒体５
の面に焦点を結ぶように集光されるレーザ光における断
面の方向は、断面における長い方の方向となるように設
定されているから、記録媒体５の面に形成される光点の
断面形状は、記録媒体５の面に焦点を結ぶ予め定められ
た一方の方向については極めて小さな寸法を有しており
、また、記録媒体５の面に焦点を結ばない前記した予め
定められた一方の方向に対して直交する方向については
大きな寸法を有している如き断面形状を示すものになる
。
そして、前記した記録媒体５に形成される縦横比の大き
な断面形状の光点における縦横比は、光学系中に使用さ
れる円筒レンズ３として、焦点距離の異なるものを使用
することによって任意に変化させることができる。
な断面形状の光点における縦横比は、光学系中に使用さ
れる円筒レンズ３として、焦点距離の異なるものを使用
することによって任意に変化させることができる。
このように構成されている本発明の縦横比の大きな断面
形状の光点の形成装置によれば、記録媒体５の面に形成
される縦横比の大きな断面形状の光点として、それの縦
横比が例えば１対１００以上というように極めて大きな
ものも容易に形成させることができるのである。
形状の光点の形成装置によれば、記録媒体５の面に形成
される縦横比の大きな断面形状の光点として、それの縦
横比が例えば１対１００以上というように極めて大きな
ものも容易に形成させることができるのである。
第３図の（ａ）〜（ｄ）は１本発明の縦横比の大きな断
面形状の光点の形成装置の他の構成態様の実施例を示す
斜視図であって、第３図の（、）に示す実施例は、半導
体レーザ１から放射されたレーザ光を円筒レンズ３→コ
リメートレンズ２→集光レンズ４を介して記録媒体５の
面に縦横比の大きな断面形状の光点を形成させるように
したものであり、また、第３図の（ｂ）に示す実施例は
、半導体レーザ１から放射されたレーザ光を円筒レンズ
３→集光レンズ４を介して記録媒体５の面に、縦横比の
大きな断面形状の光点を形成させるようにしたものであ
り、さらに、３図の（ｃ）に示す実施例は、半導体レー
ザ１から放射されたレーザ光を集光レンズ４→円筒レン
ズ３を介して記録媒体５の面に、縦横比の大きな断面形
状の光点を形成させるようにしたものであり、さらにま
た３図の（ｄ）に示す実施例は、半導体レーザ１から放
射されたレーザ光をコリメートレンズ２→集光レンズ４
→円筒レンズ３を介して記録媒体５の面に、縦横比の大
きな断面形状の光点１形成させるようにしたものである
。
面形状の光点の形成装置の他の構成態様の実施例を示す
斜視図であって、第３図の（、）に示す実施例は、半導
体レーザ１から放射されたレーザ光を円筒レンズ３→コ
リメートレンズ２→集光レンズ４を介して記録媒体５の
面に縦横比の大きな断面形状の光点を形成させるように
したものであり、また、第３図の（ｂ）に示す実施例は
、半導体レーザ１から放射されたレーザ光を円筒レンズ
３→集光レンズ４を介して記録媒体５の面に、縦横比の
大きな断面形状の光点を形成させるようにしたものであ
り、さらに、３図の（ｃ）に示す実施例は、半導体レー
ザ１から放射されたレーザ光を集光レンズ４→円筒レン
ズ３を介して記録媒体５の面に、縦横比の大きな断面形
状の光点を形成させるようにしたものであり、さらにま
た３図の（ｄ）に示す実施例は、半導体レーザ１から放
射されたレーザ光をコリメートレンズ２→集光レンズ４
→円筒レンズ３を介して記録媒体５の面に、縦横比の大
きな断面形状の光点１形成させるようにしたものである
。
なお、３図の（Ｃ）、（ｄ）に示す実施例に示されてい
るような構成として縦１比の大きな断面形状の光点の形
成装置を実施するに当っては、集光レンズ４と円筒レン
ズ３とが一体化されて前記両レンズの機能を有する如き
複合レンズを使用することが望ましい。
るような構成として縦１比の大きな断面形状の光点の形
成装置を実施するに当っては、集光レンズ４と円筒レン
ズ３とが一体化されて前記両レンズの機能を有する如き
複合レンズを使用することが望ましい。
また、これまでに説明した実施例においては、光学系中
に使用されている円筒レンズが凸レンズ型式のものであ
るとされているが１円筒レンズとして凹レンズ型式のも
のが使用されてもよいのである。さらに、これま−でに
説明した実施例においては、光学系中に使用されている
円筒レンズが一個の場合であるが１本発明の縦横比の大
きな断面形状の光点の形成装置の実施に当っては、光学
系中に複数個の円筒レンズをそれらの円筒軸が平行にし
て使用している状態のものとして実施してもよいのであ
る。
に使用されている円筒レンズが凸レンズ型式のものであ
るとされているが１円筒レンズとして凹レンズ型式のも
のが使用されてもよいのである。さらに、これま−でに
説明した実施例においては、光学系中に使用されている
円筒レンズが一個の場合であるが１本発明の縦横比の大
きな断面形状の光点の形成装置の実施に当っては、光学
系中に複数個の円筒レンズをそれらの円筒軸が平行にし
て使用している状態のものとして実施してもよいのであ
る。
（効果）
以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置は、レー
ザ光源と記録媒体との間に設けられる光学系が１円筒レ
ンズと集光レンズとを含んでいて、予め定められた一方
の方向については記録媒体面に焦点を結び、また、前記
した予め定められた一方の方向に対して直交する方向に
ついては焦点が結ばないようなものとして構成されてい
るものであって、この本発明の縦横比の木きな断面形状
の光点の形成装置においては、光学系の光軸が直線的で
あるために装置の機構部の構成が単純であり、また、光
学系中にはスリットが用いられてはいないから、レーザ
光に損失が生じることがなく、さらに、記録媒体面上に
形成させる縦横比の大きな断面形状の光点における縦横
比は、光学系中で使用される円筒レンズとして焦点距離
の異なるものを使用することにより容易に変えることが
でき、さらにまた、本発明の縦横比の大きな断面形状の
光点の形成装置においては縦横比の大きな断面形状の光
点の形成も容易であるなどの諸利点が得られる他１本発
明°の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置を、第
２図の（ａ）、（ｂ）に示されているように円筒レンズ
３において集束されなかった光が集光レンズ４で集光さ
れる所に記録媒体５の面がおかれるようにして実施され
た場合には、光学系中に使用される円筒レンズ３の設置
位置が任意となされるから設計の自由度が大きいという
利点が得られる。
明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置は、レー
ザ光源と記録媒体との間に設けられる光学系が１円筒レ
ンズと集光レンズとを含んでいて、予め定められた一方
の方向については記録媒体面に焦点を結び、また、前記
した予め定められた一方の方向に対して直交する方向に
ついては焦点が結ばないようなものとして構成されてい
るものであって、この本発明の縦横比の木きな断面形状
の光点の形成装置においては、光学系の光軸が直線的で
あるために装置の機構部の構成が単純であり、また、光
学系中にはスリットが用いられてはいないから、レーザ
光に損失が生じることがなく、さらに、記録媒体面上に
形成させる縦横比の大きな断面形状の光点における縦横
比は、光学系中で使用される円筒レンズとして焦点距離
の異なるものを使用することにより容易に変えることが
でき、さらにまた、本発明の縦横比の大きな断面形状の
光点の形成装置においては縦横比の大きな断面形状の光
点の形成も容易であるなどの諸利点が得られる他１本発
明°の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置を、第
２図の（ａ）、（ｂ）に示されているように円筒レンズ
３において集束されなかった光が集光レンズ４で集光さ
れる所に記録媒体５の面がおかれるようにして実施され
た場合には、光学系中に使用される円筒レンズ３の設置
位置が任意となされるから設計の自由度が大きいという
利点が得られる。
第１図及び第３図は本発明の縦横比の大きな断面形状の
光点の形成装置の各員なる実施例の斜視図、第２図は本
発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置におけ
る光学系の構成を説明するだめの図、第４図は従来例を
示す斜視図である。 ■・・・半導体レーザ、２・・・コリメートレンズ、３
．８．９・・・円筒レンズ、４・・・集光レンズ。 ５・・・記録媒体、６・・・形状補正用三角プリズム。 ７・・・スリット板−７ａ・・・スリット、 １０・・
・音響効果光変調器、 ｊ １ 図 へ 鳥 ２ 図 （α） 、￥１ ３ 図 手続補正書（自発） 昭和６０年１０月１ｚ日 昭和６０年特許願第１７８１号 ２、発明の名称 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置３、補正をす
る者 事件との関係 特 許 出願人 化 所 神奈川県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地
名称（４３２） 日本ビクター株式会社４、代理人 ファクシミリ０３ （４７２） ２２５７番５、補正命
令の日付 （自発） 昭和 年 月 日（発送日 昭和 年 月 日）６、補
正の対象 拓 ２図
光点の形成装置の各員なる実施例の斜視図、第２図は本
発明の縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置におけ
る光学系の構成を説明するだめの図、第４図は従来例を
示す斜視図である。 ■・・・半導体レーザ、２・・・コリメートレンズ、３
．８．９・・・円筒レンズ、４・・・集光レンズ。 ５・・・記録媒体、６・・・形状補正用三角プリズム。 ７・・・スリット板−７ａ・・・スリット、 １０・・
・音響効果光変調器、 ｊ １ 図 へ 鳥 ２ 図 （α） 、￥１ ３ 図 手続補正書（自発） 昭和６０年１０月１ｚ日 昭和６０年特許願第１７８１号 ２、発明の名称 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置３、補正をす
る者 事件との関係 特 許 出願人 化 所 神奈川県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地
名称（４３２） 日本ビクター株式会社４、代理人 ファクシミリ０３ （４７２） ２２５７番５、補正命
令の日付 （自発） 昭和 年 月 日（発送日 昭和 年 月 日）６、補
正の対象 拓 ２図
Claims (1)
- レーザ光源と記録媒体との間に設けられる光学系が、円
筒レンズと集光レンズとを含んでいて、予め定められた
一方の方向については記録媒体面に焦点を結び、また、
前記した予め定められた一方の方向に対して直交する方
向については焦点が結ばないようなものとして構成され
ていることを特徴とする縦横比の大きな断面形状の光点
の形成装置
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60001781A JPS61160846A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置 |
| EP86100183A EP0187664A3 (en) | 1985-01-09 | 1986-01-08 | Optical arrangement for forming an elongated laser beam spot on erasable optical disks |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60001781A JPS61160846A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61160846A true JPS61160846A (ja) | 1986-07-21 |
Family
ID=11511114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60001781A Pending JPS61160846A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | 縦横比の大きな断面形状の光点の形成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0187664A3 (ja) |
| JP (1) | JPS61160846A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023510398A (ja) * | 2020-03-17 | 2023-03-13 | 深▲せん▼市聯贏激光股▲ふん▼有限公司 | レーザー装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5875160A (en) * | 1996-12-14 | 1999-02-23 | Ricoh Company, Ltd. | Method and device for initializing optical recording medium of phase change type, and optical recording medium |
| US7804752B2 (en) | 2007-02-05 | 2010-09-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Focal offset recording system and method |
| TWI418762B (zh) | 2010-03-29 | 2013-12-11 | Univ Nat Taiwan | 低同調干涉光學成像裝置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5858734B2 (ja) * | 1975-09-25 | 1983-12-27 | 松下電器産業株式会社 | コウガクテキキロクサイセイソウチ |
| US4272651A (en) * | 1978-04-28 | 1981-06-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical system having diode laser light source |
| JPS5958638A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Nec Corp | 光学的記録再生用光ヘツド |
| JPS5968844A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的可逆記録再生装置 |
-
1985
- 1985-01-09 JP JP60001781A patent/JPS61160846A/ja active Pending
-
1986
- 1986-01-08 EP EP86100183A patent/EP0187664A3/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023510398A (ja) * | 2020-03-17 | 2023-03-13 | 深▲せん▼市聯贏激光股▲ふん▼有限公司 | レーザー装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0187664A3 (en) | 1988-02-24 |
| EP0187664A2 (en) | 1986-07-16 |
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