JPS6115986A - 安定な銀の無電解めつき液 - Google Patents
安定な銀の無電解めつき液Info
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- JPS6115986A JPS6115986A JP13329684A JP13329684A JPS6115986A JP S6115986 A JPS6115986 A JP S6115986A JP 13329684 A JP13329684 A JP 13329684A JP 13329684 A JP13329684 A JP 13329684A JP S6115986 A JPS6115986 A JP S6115986A
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- plating
- bath
- silver
- plating solution
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
- C23C18/44—Coating with noble metals using reducing agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
ガラス、セラミックスなどの絶縁体に銀めっきする方法
は、硝酸銀のアンモニア性水溶液にホルマリン、グルコ
ースなどの還元剤を加えて銀を析出させる銀鏡反応とし
て昔から知られている。
は、硝酸銀のアンモニア性水溶液にホルマリン、グルコ
ースなどの還元剤を加えて銀を析出させる銀鏡反応とし
て昔から知られている。
この銀鏡反応は、被めっき物の簡単な前処理だけでも密
着性のよい銀めっきが得られるので、極めて有効である
。
着性のよい銀めっきが得られるので、極めて有効である
。
しかし、従来から使用されている浴では、建浴後直ちに
洛中で顕著な分解反応が起こるために。
洛中で顕著な分解反応が起こるために。
1〜2分でめっき反応が止まり、この高価なめつき浴も
その能力は1回で失なわれてしまう。
その能力は1回で失なわれてしまう。
本発明浴は、その様な分解反応が起らないことを特徴と
し、何回も繰返し使用可能な安定な無電解銀めっき液に
関するものである。
し、何回も繰返し使用可能な安定な無電解銀めっき液に
関するものである。
これまで、銀鏡反応を利用した無電解めっきに関する研
究は、銀の鍍着率、密着性及び反射率などめっき物に関
するものが多く、液の安定性については、以下に示す様
なものがあるのみである。
究は、銀の鍍着率、密着性及び反射率などめっき物に関
するものが多く、液の安定性については、以下に示す様
なものがあるのみである。
錯化剤としてアンモニアを用いたものについては、・コ
バルト塩や過硫酸アンモニウムなどのような無機化合物
の添加によるもの、またシアンを錯化剤としたものでは
、ホウ水素酸カリウムやヒドラジンを還元剤として用い
たもの、あるいはNi。
バルト塩や過硫酸アンモニウムなどのような無機化合物
の添加によるもの、またシアンを錯化剤としたものでは
、ホウ水素酸カリウムやヒドラジンを還元剤として用い
たもの、あるいはNi。
Cuなどの金属塩を添加したものなどがある。
以下に示すように、シアンを錯化剤とした方が銀析出の
可逆電位が卑となるので、錯イオンとしく^g(N)1
3 ] 2 ]÷+e=Ag+2NH3E’=0.37
3V vs、NHE(^g(CN)2 ]
+e=Ag+2CN −ε”=−0,30V vs、
NHEでは安定であるが、極めて毒性が強いという難点
がある。
可逆電位が卑となるので、錯イオンとしく^g(N)1
3 ] 2 ]÷+e=Ag+2NH3E’=0.37
3V vs、NHE(^g(CN)2 ]
+e=Ag+2CN −ε”=−0,30V vs、
NHEでは安定であるが、極めて毒性が強いという難点
がある。
[本発明の有効性]
本発明においては、錯化剤として主にアミン系の有機化
合物を用い、さらに、還元剤として従来から銀鏡反応に
用いられているロッセル塩、グルコース等を使用してい
るため毒性は殆どない。
合物を用い、さらに、還元剤として従来から銀鏡反応に
用いられているロッセル塩、グルコース等を使用してい
るため毒性は殆どない。
そこで1本発明の内容をさらに詳細に述べてみよう。
ガラスなどの無機材質へ、Nl、Goなどの無電解めっ
きを行なう場合、被めっき物をエツチングするほか、5
nC12とpact2による前処理、及び銀などを下地
めっきとして施すことは極めて有効であるといわれてい
る。銀鏡反応は鏡の製造を主たる目的に使用されてきた
が、この反応はガラス表面ばかりでなく、プラスチック
やセラミックスなどあらゆる絶縁体へ応用できるため1
本発明のめっき浴より得られた銀めっきを、先に述べた
他金属の無電解めっきの下地めっきとして利用するなら
極めて有効なものとなる。しかも2本発明のめっき浴は
、浴が安定でめっき物が一つの浴から何回も繰返し得ら
れるため、極めて魅力的である。
きを行なう場合、被めっき物をエツチングするほか、5
nC12とpact2による前処理、及び銀などを下地
めっきとして施すことは極めて有効であるといわれてい
る。銀鏡反応は鏡の製造を主たる目的に使用されてきた
が、この反応はガラス表面ばかりでなく、プラスチック
やセラミックスなどあらゆる絶縁体へ応用できるため1
本発明のめっき浴より得られた銀めっきを、先に述べた
他金属の無電解めっきの下地めっきとして利用するなら
極めて有効なものとなる。しかも2本発明のめっき浴は
、浴が安定でめっき物が一つの浴から何回も繰返し得ら
れるため、極めて魅力的である。
なお1本発明浴から金属など導電体物質上に無電解銀め
っきできることはいうまでもない。
っきできることはいうまでもない。
[本発明の詳細な説明]
(イ)金属塩は硝酸銀を用い、さらに、錯化剤として、
エチレンジアミン、スルファニル酸等の−NH2基を有
する有機化合物、あるいはグルタミン酸、アミノ酪酸等
の−N82基と−COOH基の2つを有するアミノ酸を
添加した浴で、極めてよい効果が見られた。
エチレンジアミン、スルファニル酸等の−NH2基を有
する有機化合物、あるいはグルタミン酸、アミノ酪酸等
の−N82基と−COOH基の2つを有するアミノ酸を
添加した浴で、極めてよい効果が見られた。
銀イオンを含む水溶液をアルカリ性にすると。
銀イオンは酸化銀となり沈殿を生じるが、上記の化合物
を添加することで、この溶液は安定な状態を保つことが
できた。特に、エチレンジアミンが有効で、(八gNO
3)/[エチレンジ”パン)=1/6において浴は安定
となり、さらに良好な銀めっきが得られた。
を添加することで、この溶液は安定な状態を保つことが
できた。特に、エチレンジアミンが有効で、(八gNO
3)/[エチレンジ”パン)=1/6において浴は安定
となり、さらに良好な銀めっきが得られた。
(ロ)還元剤には、従来から銀鏡反応に用いられてきた
。ホルマリン、グルコース等の−CH0基を有する有機
化合物、あるいはロッセル塩、グルコン酸等の−coo
H基を有するものを使用した。特に。
。ホルマリン、グルコース等の−CH0基を有する有機
化合物、あるいはロッセル塩、グルコン酸等の−coo
H基を有するものを使用した。特に。
ロッセル塩は銀を緩やかに析出させ、浴中の反応を起さ
ない安定な浴を得るのに極めて有効であった。
ない安定な浴を得るのに極めて有効であった。
(ハ)安定剤として、3.5−ジョードチロシンを代表
とするアミノ酸又はチオ硫酸ナトリウムを微量添加する
ことにより、浴をより安定に保つことができた。
とするアミノ酸又はチオ硫酸ナトリウムを微量添加する
ことにより、浴をより安定に保つことができた。
アミノ酸は錯化剤としても用いられるが、エチレンジア
ミンを錯イビ剤としたときに、アミノ酸が微量添加され
ると浴の安定性は極めて向上し1例えば、3.5−ジョ
ードチロシン9.4XlO’5mol/l添加により、
めっき浴は室温で100時間も安定な状態を保てた。
ミンを錯イビ剤としたときに、アミノ酸が微量添加され
ると浴の安定性は極めて向上し1例えば、3.5−ジョ
ードチロシン9.4XlO’5mol/l添加により、
めっき浴は室温で100時間も安定な状態を保てた。
(ニ)一般に、無電解めっき浴の安定性は、液の条件に
よっても大きく影響され、特に+ p)lと浴温を調整
することが重要である。 pl(は、還元剤の可逆電位
に影響しr PHが大きくなるとその電位は卑となる。
よっても大きく影響され、特に+ p)lと浴温を調整
することが重要である。 pl(は、還元剤の可逆電位
に影響しr PHが大きくなるとその電位は卑となる。
したがって、無電解めっきの駆動力が大きくなるため9
反応が激しく起って2分解してしまう。
反応が激しく起って2分解してしまう。
本発明における最適なpoは、8〜12であった。
浴温は反応速度に影響し、高温になると反応速度が大幅
に増大するため、被めっき物表面のみの反応だけでなく
、浴壁、浴中でも反応が起ってしまう、最適温度は、l
o〜60’Cであった。
に増大するため、被めっき物表面のみの反応だけでなく
、浴壁、浴中でも反応が起ってしまう、最適温度は、l
o〜60’Cであった。
(ホ)被めっき物の前処理として、特にガラスの場合、
1%塩化第一スズ塩酸酸性水溶液に5分間浸漬するだけ
で十分効果があった。すなわち。
1%塩化第一スズ塩酸酸性水溶液に5分間浸漬するだけ
で十分効果があった。すなわち。
めっき初期の核発生をうながし、その後、銀の自−触媒
作用により被めっ考物表面のみで銀鏡反応が起こり、め
っき浴壁や洛中での反応は全く起こらなかった。
作用により被めっ考物表面のみで銀鏡反応が起こり、め
っき浴壁や洛中での反応は全く起こらなかった。
[本発明の実施例]
本発明の効果について、実施例をあげて詳述する。
(1)各実施例に共通する操作方法をまとめて下に記す
。
。
(イ)前処理液は1%塩化第一スズ塩酸酸性水溶液とし
た。
た。
(ロ)めっき液は、還元剤、錯化剤、安定剤を含む第−
液と、硝酸銀水溶液の第二液とがらなっている。
液と、硝酸銀水溶液の第二液とがらなっている。
第−液と第二液を所定の条件で混合し、この時点をめっ
きの開始とした。
きの開始とした。
(2)実施例
m工
銀波
硝酸銀 3.5g
アンモニア水 沈殿を再溶解するまで水
”60m1 水酸化す)リウム 2.5g/60m1還元液 フ゛ビウ糖 45゜ 酒石酸 4g アルコール 10G+al $ 1000m−1 本願発明と対比させるため、一般的によく用いられてい
る上記銀鏡反応浴を用いてめっきを試みたところ、浴は
建浴後直ちに茶濁し、2分間でめっき能力を失なった。
”60m1 水酸化す)リウム 2.5g/60m1還元液 フ゛ビウ糖 45゜ 酒石酸 4g アルコール 10G+al $ 1000m−1 本願発明と対比させるため、一般的によく用いられてい
る上記銀鏡反応浴を用いてめっきを試みたところ、浴は
建浴後直ちに茶濁し、2分間でめっき能力を失なった。
llI主
第−液
ロッセル塩 2.4 X 1O−2n+ol/l p
)I tt、。
)I tt、。
エチレンジ“アミン r、txto−1室11γ−
アミノーn−酪酸5.9XlO−4静止浴第二液 硝酸銀 1.8X10−2 めっき浴は、めっき開始後、約2.5時間で濁り始めた
。
アミノーn−酪酸5.9XlO−4静止浴第二液 硝酸銀 1.8X10−2 めっき浴は、めっき開始後、約2.5時間で濁り始めた
。
被めっき物として、めっき面積19cm2の並ガラス板
を用いると、30時間で7回、繰返して密着性のよい良
好なめっきが得られた。
を用いると、30時間で7回、繰返して密着性のよい良
好なめっきが得られた。
また、この組成で、γ−アミノーn−酪酸を無添加の場
合には、約1時間後に浴が茶濁した。
合には、約1時間後に浴が茶濁した。
11五立
第−液
ロッセル塩 2.4 X 10−2mol/l p)
1 11.0エチレンジ”アミン +、+x+o−
1室温り°ルタミン酸 5.5XlO−4静止浴
第二液 硝酸銀 1.8Xlo−2 めっき浴は、めっき開始後約23時間で濁り始めた。
1 11.0エチレンジ”アミン +、+x+o−
1室温り°ルタミン酸 5.5XlO−4静止浴
第二液 硝酸銀 1.8Xlo−2 めっき浴は、めっき開始後約23時間で濁り始めた。
被めっき物として、実施例2と同様なガラス板を用いた
とき、88時間で11回良好な銀めっきが得られた。
とき、88時間で11回良好な銀めっきが得られた。
ロッセル塩濃度を変化させても、繰返し良好な銀めっき
を得ることができた。
を得ることができた。
また、エチレンジアミンを用いずグルタミン酸t、 I
X 10−1 mol/1添加でも安定な浴が得られ
た。
X 10−1 mol/1添加でも安定な浴が得られ
た。
−犬」L舊」工
第−液
グルコン酸 1. l X 10−2+nol/l
p89.1エチレンジ”アミン 1.1
X10−t 室温グルタミン酸 3
.4X10−5 静止浴第二液 硝酸銀 1.8X10−2 この浴組成において、36時間浴は安定な状態を保った
。
p89.1エチレンジ”アミン 1.1
X10−t 室温グルタミン酸 3
.4X10−5 静止浴第二液 硝酸銀 1.8X10−2 この浴組成において、36時間浴は安定な状態を保った
。
遺m
第−液
ロッセル塩 1.8 X 10−2mol/i p
)l ti、。
)l ti、。
エチレンジ’7ty 1.8 X 10
−2 30 ’C3,5−シ”ヨービチロシ
ン 4.6X10’5第二液 硝酸銀 0.3XIO−2 めっきは、緩かに攪拌した浴中で行なった。
−2 30 ’C3,5−シ”ヨービチロシ
ン 4.6X10’5第二液 硝酸銀 0.3XIO−2 めっきは、緩かに攪拌した浴中で行なった。
めっき浴は、8時間経過後も淡黄色透明を呈し。
安定な状態を保った。
30分毎にめっきを行なったが、16目良好な銀めっき
が得られた。
が得られた。
めっき初期においては、析出速度が徐々に速くなったが
、150分経過後からはほぼ一定の速度で析出するよう
になった。
、150分経過後からはほぼ一定の速度で析出するよう
になった。
この組成で、硝酸銀濃度を0.6XlO−2mol/l
’とすると約5時間後に浴が不安定となったが、ロッセ
ル塩濃度を7. l X 10−2mol/lと約4倍
に変えても浴の安定性、析出速度に殆ど変化は見られな
かった。
’とすると約5時間後に浴が不安定となったが、ロッセ
ル塩濃度を7. l X 10−2mol/lと約4倍
に変えても浴の安定性、析出速度に殆ど変化は見られな
かった。
Claims (3)
- (1)銀イオンを含む水溶液から銀を化学的に還元析出
させる無電解めっき液において、1種または2種以上の
錯化剤、安定剤を添加することによって、浴中で分解反
応を起させないようにすることを特徴とする安定な無電
解めっき液。 - (2)特許請求の範囲(1)において、錯化剤としてア
ンモニア、あるいはエチレンジアミン、スルファニル酸
等のアミノ基を有する化合物、またはグルタミン酸、ア
ミノ酪酸等のアミノ基とカルボキシル基の2つを有する
アミノ酸を用いるこを特徴とする無電解めっき液。 - (3)特許請求の範囲(1)において、安定剤として、
3,5−ジョードチロシン等のアミノ酸やヨード酢酸等
のハロゲン化カルボン酸、あるいはチオ硫酸ナトリウム
等の無機化合物を微量添加することを特徴とする無電解
めっき液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13329684A JPS6115986A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 安定な銀の無電解めつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13329684A JPS6115986A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 安定な銀の無電解めつき液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6115986A true JPS6115986A (ja) | 1986-01-24 |
Family
ID=15101335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13329684A Pending JPS6115986A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 安定な銀の無電解めつき液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6115986A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006016659A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 2液性無電解銀めっき液 |
DE102005038208A1 (de) * | 2005-08-12 | 2007-02-15 | Müller, Thomas | Herstellung von Silberschichten |
WO2008058430A1 (fr) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | Kin Kwok Daniel Chan | Solution de dépôt autocatalytique à base d'argent faiblement alcaline |
WO2016035855A1 (ja) * | 2014-09-04 | 2016-03-10 | 住友化学株式会社 | 金属系粒子集合体の製造方法 |
JP2017050400A (ja) * | 2015-09-02 | 2017-03-09 | 学校法人神奈川大学 | フレキシブル熱電変換部材の作製方法 |
JP2022506709A (ja) * | 2019-07-29 | 2022-01-17 | コリア ミンティング,セキュリティ プリンティング アンド アイディー カード オペレーティング コーポレーション | アルニコ系硬質磁性体粒子及びその製造方法 |
FR3119172A1 (fr) * | 2021-01-28 | 2022-07-29 | Swissto12 Sa | Composition stable pour dépôt catalytique d’argent |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13329684A patent/JPS6115986A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102005038208B4 (de) * | 2005-08-12 | 2009-02-26 | Müller, Thomas | Verfahren zur Herstellung von Silberschichten und seine Verwendung |
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