JPS61153816A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

薄膜磁気ヘツド

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JPS61153816A
JPS61153816A JP60287566A JP28756685A JPS61153816A JP S61153816 A JPS61153816 A JP S61153816A JP 60287566 A JP60287566 A JP 60287566A JP 28756685 A JP28756685 A JP 28756685A JP S61153816 A JPS61153816 A JP S61153816A
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JP
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magnetic
head
substrate
magnetic head
write
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JP60287566A
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English (en)
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ハインリツヒ、デイーパース
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Siemens AG
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Siemens AG
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/1278Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は垂直磁化される記録媒体に対する薄膜構成の
磁気ヘッドに関するものである。
〔従来の技術〕
この種の磁気ヘッドは非磁性基板上(二設けられたリン
グヘッド類似形状の磁気導体を備え、その二つの磁極片
の記録媒体に向った末端部はヘッドの連動方向において
特定の狭いギャップ幅をもって前後に配置され、両磁極
片のギャップ幅(二比べて大きな間隔を保つ【並行する
部分が書込み・読出し巻線のターンを収容する中間室を
画定する。
この種の磁気ヘッドの一例は欧州特許第0012912
AI  号明細書に記載されている。
情報を蓄積するための垂直磁化の原理はよく知られてい
る(例えば「アイ、イー、イー、トランデクジョン、オ
ン、マグネティックス(IEEgTransactio
ns on Magnetics ) J 、MAG−
16,41,1980年1月、p、71〜76)。この
記録方式に対しては磁気ディスク、フレキシブル・ディ
スク(フロッピーディスク)又は磁気テープの形の記録
媒体が必要である。この記憶媒体は磁気異方性材料特に
CoCr合金を含む特定の厚さの磁化可能記憶層を備え
その磁化容易軸は媒体表面5二垂直である。特別な磁気
ヘッドを使用しその一つのトラックに沿って個々の情報
がセル又はブロックと呼ばれている小区域において記憶
層の対応する磁化によりピットとして書き込まれる。こ
れらのビットは波長とも呼ばれているドラックの長さ方
向の拡がりを持つ。この拡がりは長手方向(水平方向)
!a化方式の場合に消磁によって与えられる限界よりも
著しく小さい。従って垂直磁化方式によれば記録媒体の
情報密度を増大させることができる。
長手磁化(;使用されている書込み・読出し磁気ヘッド
はそのまま垂直磁化に使用することはできない。このヘ
ッドは通常リングヘッド類似の形態であって垂直磁化の
場合に所望される磁気抵抗の低いできるだけ閉結された
回路(=よって磁束を導くことは可能であるが、ビット
密度が高くそれ(二応じてリングヘッドのギャップ幅が
小さいとき充分強力な垂直方向の書込み磁界を作ること
は困難である。
これらの点を考えて垂直磁化方式に対して特別の書込み
・読出し磁気ヘッドの開発が開始された。
前述の欧州特許明細書に記載されているような垂直磁化
に適した磁気ヘッドは、磁束を導くため非磁性基板上に
設けられたリングヘッド類似形状の磁気導体を伽えてい
る。この磁気導体は磁性材料から成り二つのMi権片を
備え、記録媒体に向った磁極片末端部はヘッドの連動方
向(二おいてギャップ幅とも呼ばれている小さい間隔を
保って前後に配置される。末端部区域に続く磁極片区域
では磁極片が広い相互間隔を保って平行し、その間に広
い中間室が形成され、書込み・続出し巻線のターンがこ
の室(=収められる。書込み機能と読出し機能の双方に
対して磁気導体のリングヘッド類似の形態が充分利用さ
れている。
上記の磁気ヘッドの各部は薄膜技術(二より平面基板上
にとりつけられている。この薄膜技術は書込み・読出し
ヘッド(二対して広く使用されているものである。(例
えば[精密技術と測定技術(Feinwerktech
nik und Meβtechnik ) J  8
8゜IL2.1980年3月、53へ59ページ、また
は゛[シーメンス、ツアイトンユリフト(Siemen
sZeitschrift ) 52、罵7.1978
年、434へ437ベージ)。
この技術(−よる薄膜磁気ヘッドの製作に際しては平面
基板の表面(二磁性材料例えばNiFe合金の層と絶縁
材料例えば8i0.又はラックの層と導電材料例えば銅
の層を多数交互(二重ねて設ける。例えば書込み・読出
し巻線の扁平な巻線ターン配置を可能にするためのこれ
らの層の形態は、最初にラック層を設け、マスクを通し
て照射し化学処理により構造化するフォトリソグラフィ
過程によって作られる。このようにして作られた構造は
純化学エツチング又はプラズマエツチング(二より金属
層又は絶縁層に移される。これらの層は順次に重ねられ
構造化されるから、ヘッドの形状に応じて全体の厚さは
10乃至20μmあるいはそれ以上となる。層の数が増
すにつれて構造化が不精確になるが、この場合最下の構
造化層に対する最後のマスクに対する位置合せ精度が低
下する。順次に使用されるマスクをそれぞれ最初(;作
られる最下の構造に対して位置合せする場合にも位置合
せ許容誤差と投像条件の変化があるから事情は同じであ
る。特l二投像精度が高くμ島領域の微細構造の投像が
可能であることにより広く使用されているハードコンタ
クト法(マスクを基板表面のラック層(二直接接触させ
て行なうエツチング法)の場合この現象が顕著である(
例えばAC88ymposium!3eries 2)
9 ” Introduction to Micro
lit−hography″、  Washingto
n 、  1983参照)。
前記の欧州特許明細書の磁気ヘッドを製作する場合、最
後の工程段即ち基板から遠い外側磁極片の構造化が特に
困難である。この磁極片は例えば幅が5乃至50μ溝の
末端部に重くもので約102m以上の高さに作られその
構造化に必要なマスクは常にその最高点に乗せられるか
らこの重要な個所ζ:おいて不鮮明な構造誤差が起り再
現性が悪くなり不良品が多くなる。
別の問題は基板側の磁極片が書込み・読出し尖端となっ
ている末端部(=至るまで数μ喝厚さの磁性材料層で補
強され磁気導体の磁気抵抗を低下させ磁気ヘッド全体と
しての効率を高めるようC:なっていることから生ずる
。公知の磁気ヘッドではこの磁気補強層は磁極片尖端の
できるだけ近くまで拡1fておくのが有利であると考え
られていた。
しかしこれによって磁気補強層の前方の縁端と外側の磁
極片の間で磁束線が短絡されて杏込み・読出し尖端とな
っている末端部を通して導かれなくなる危険が生ずる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
この発明の目的は冒頭(二挙げた磁気ヘッドを改良して
再現性の良い製作が可能となII、許されない構造誤差
が充分防止されるよう(ニすることである。更に書込み
と読出しの両機能において高い効率が確保されるよう(
−することもこの発明の目的である。
〔問題点を解決するための手段〕
これらの目的は特許請求の範囲第xlJi+=特徴とし
て挙げた構造とすることによって達成される。
この発明による磁気ヘッドではそれを構成する層が平面
基板上に重ね合わされずにヘッドの大部分が基板のくぼ
み(−埋め込まれ、書込み・読出し機能(二必要な磁極
末端部は直接基板表面に接している。この構成は特に基
板から遠い磁極片の末端部の微細構造化(二対して不利
な背の高い〜ラド構成を少くともある程度まで避けるこ
とができ、それC;よづて両末端部を高精度でラック塗
装し高分解能のマスキング過程により構造化することが
できるという利点がある。更に基板(:接する下側の磁
極片の磁気補強f@を二基く磁束の短絡の危険は磁極片
の磁気補強層がこの磁極片の外側面に置かれることによ
って避けられる。この場合磁極片と補強層が共同で磁気
導体を構成する。
磁気ヘッドの種々の実施形態は特許請求の範囲第2項以
下(二重されている。
〔実施例〕
この発明の実施例の断面の概略を示す図面についてこの
発明を更(;詳細に説明する。
図面に一部分だけを示した書込み・読出し磁気ヘッドは
垂・直磁化に使用される公知のリングヘッド類似の薄膜
積層磁気ヘッドを基本にするものである(例えば前述の
欧州特許明細書または欧州特許第0071489.A2
明細書)。全体が2とじて示されているヘッドは飛白1
体と呼ばれている素子の前面又は背面を形成する基板3
にとりつけられている。このヘッドは垂直方向に磁化さ
れる記録媒体Mに対して例えば0.2μ鴫の高度を保っ
て移動する。一般に記録媒体の方がヘッドの下で移動し
、ヘッドに対する記録媒体の相対的連動方向は矢印Vで
示されている。
磁気ヘッドlは軟磁性材料から成る磁束嚮導体1を含む
。この磁性材料の磁化容易方向は常に磁束清導方向に少
くとも近似的に垂直でなければならない。磁気導体1は
二つの磁極片!と1から構成され、これらの磁極片の記
録媒体に対向する末端部8と9は少くとも近似的(:紀
妙媒体面シ;垂直であり、この部分ζ;磁極P、又はP
、が作られる。これらの末端部の間(二はエアギャップ
11が形成されるが、その長手即ち連動方向マの幅v#
i1μ亀以下特に0.5μ鶏以下とするのが有利である
0ヘツド3の中央区域12では両方の磁極片旦と1の間
の間隔がエアギャップの幅Wに比べて拡げられている。
そのためこの区域において基板3に口形のくぼみ13が
作られ、磁極片ヱの一部分7aがこのくぼみの底面の上
(二拡がっている。これ(−よって基板3に接するFI
H掻片ヱはその末端部9に続く磁極片部分7aが基板か
ら遠い直線形の磁極片!から大きな間隔Sを保って平行
する。記録媒体MC対して反対の側では磁極片りが区域
12の外で磁掻片旦との結合区域14に移り磁気ヘッド
2にリングヘッド類似の形態を与える。
磁橋片旦と1は更に回置喀二重すよ・うに末端部8又は
9の区域に至るまで磁性材料から成る補強層15又は1
6を備える。これらは磁気導体1の外側面を形成するよ
う(=するのが有利である。
続出し・書込み両用の垂直磁化式磁気ヘッドlは更(二
条層構造の扁平巻線18を備え、そのターンは磁極片旦
とlの中央区域12の間に形成された中間室19内に収
められている。薄膜磁気ヘッドlは書込み機能C;対す
る大きな電流負荷に備えなければならないから、それに
対応して充分な冷却が必要となる。そのためにはヘッド
を基板3に埋め込みヘッドと基板の間に大きな接触面を
作ることが有効である。基板材料としてはAI、O,層
を備えAI、O,を3G%含むTICが使用される。
この材料はそのT飯C成分(:よって導電性であるから
基板3には絶縁分離用のAl、O,層を付加しなければ
ならない。TiCの代昏月二AlNを基板材料として使
用することも有利である。この材料は高い熱伝導率を示
すのに加えて電気絶縁性で・ある。
磁気ヘラ・ド、lの製作に際してはまず基板3の所定個
所にマスクを使用するイオンビーム照射又は反応性イオ
ンエツチングによってくぼみ13を作ろ。続いて補強用
の磁性層例えばNiFe1i16を蒸着又はスパッタリ
ングじより2乃至3μ簿の厚さに形成させる。その際く
ばみ13の外の基板表面に析出した材料は例えば機械的
の研磨により除去する。これには斜めイオン照射が有利
である。
これについては例えば「表面のイオン衝撃変調(ton
 Bombardment、Modification
 of 8urfa−ass ) J glserie
r出版、1984年、372゜373.383ページに
記載されている。このイオン照射の方向は図(;破線H
で近似的に重されている。イオン照射C;際して磁極片
部分9と区域12の間の移行部においてほぼ垂直(二人
射するイオンは外側磁性層16の一部を除去して短縮又
は傾斜させるのに対して反対側の部分14と12の間の
移行部では基板縁端f二よる遮蔽効果(二よりこのよう
な除去作用は生じない。続いて磁極片lの本体を形成す
る磁性層2)を約1μmの厚さに形成させる。この層は
磁性層・絶縁層・磁性層のチンドイッテ構造とする。部
分9と区域12の間の移行部では磁性層16の上記の傾
斜成形により磁性層2)が直接斜めの基板表面に接する
。従って上記の傾斜成形I:より磁性層2)と23の間
の間隔が急速に増大し磁極片末端部8と9の区域で磁束
の流れを増強する。以後の工程段は書込み・読出し巻線
五8のターンの形成であり、いくつかの段階に分けて絶
縁ラック、銅、絶縁ラックの1層構造が作られる。その
際最外側ラック層がくぼみの外側の基板表面4に析出し
た磁極片1の層2)の部分と面を合わせるようじすると
有利である。続いて両磁極月旦とlの間の絶縁分離の外
特(ニエアギャノプ11を埋めるための薄い絶縁1lI
22を設ける。この層にはsio、又はAI、O,が使
用される。
最後に上の磁権片互が厚さ約1 pmの磁性層・絶縁層
・磁性層重層と厚さ約3乃至4μ鴫゛の補強層から成る
チンドイツを層23の形に作られる。以後の工程は完全
な磁気ヘッドにするための公知工程段である。しかし図
面にはこの発明の磁気ヘッドの構成に必要な絶縁分離層
はギャップ層22を除いて示されていない。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明(二よる磁気ヘッドの断面の概略図であ
る。 3・・・基板、 1.l・・・磁極片、  7a・・・
磁極片の部分、 8,9・・・磁極片末端部、 13・
・・くぼみ、  18・・・書込み・読出し巻線。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)リングヘッド類似形状の磁気導体が非磁性基板上に
    設けられ、その二つの磁極片の記録媒体に対向する磁極
    末端部がヘッドの連動方向において特定のギャップ幅を
    保って前後に配置されギャップ幅に比べて大きな間隔を
    保って並行する磁極片部分が書込み・読出し巻線のター
    ンを収める中間室を形成する垂直磁化用の磁気ヘッドに
    おいて、基板(3)がくぼみ(13)を備え、このくぼ
    み(13)に一方の磁極片(¥6¥)から大きな間隔を
    保つ他方の磁極片(¥7¥)の部分(7a)の少くとも
    大部分と書込み・読出し巻線(18)のターンが設けら
    れていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 2)両方の磁極片(¥6¥、¥7¥)がその磁極末端部
    区域に達するまで磁気増強層(15、16)を備え、こ
    の層が磁気導体(¥5¥)の外側を形成することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッド。 3)基板(3)側にあってくぼみ(13)内に置かれて
    いる磁極片部分(7a)を含む磁極片(¥7¥)が書込
    み・読出し巻線(18)の絶縁材料内に埋込まれている
    ターンと共に少くとも近似的に平坦な外側面を形成し、
    その上に絶縁層(22)をはさんで他方の磁極片(¥6
    ¥)が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項又は第2項記載の磁気ヘッド。 4)基板(3)がAl_2O_3−TiC又はAlNか
    ら成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第
    3項のいずれか一つに記載の磁気ヘッド。 5)磁束を導く磁気導体(¥5¥)が軟磁性材料から成
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項
    のいずれか1つに記載の磁気ヘッド。 6)磁束を導く磁気導体(¥5¥)が磁束嚮導方向にほ
    ぼ垂直の磁化容易方向を示す材料から成ることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項ないし第5項のいずれか一つ
    に記載の磁気ヘッド。
JP60287566A 1984-12-21 1985-12-19 薄膜磁気ヘツド Pending JPS61153816A (ja)

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