JPS61153808A - 垂直磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents
垂直磁気ヘツド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS61153808A JPS61153808A JP27877784A JP27877784A JPS61153808A JP S61153808 A JPS61153808 A JP S61153808A JP 27877784 A JP27877784 A JP 27877784A JP 27877784 A JP27877784 A JP 27877784A JP S61153808 A JPS61153808 A JP S61153808A
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- Japan
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- thin film
- wear
- magnetic
- main
- magnetic pole
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、記録媒体を垂直方向に磁化して記録・再生を
行なうための垂直磁気ヘッドに関する。
行なうための垂直磁気ヘッドに関する。
従来技術
近来、記録媒体を垂直方向に磁化して記録・再生を′行
なうようにした垂直磁気記録再生方式の研究・開発が推
進されている。このような記録再生方式の利点は、高密
度記録特性に優れている点にあり、これにより、ＳＮ比
の向上や記録・再生の長時間化等がもたらされる。
なうようにした垂直磁気記録再生方式の研究・開発が推
進されている。このような記録再生方式の利点は、高密
度記録特性に優れている点にあり、これにより、ＳＮ比
の向上や記録・再生の長時間化等がもたらされる。
一方、垂直磁気記録再生方式に用いる磁気ヘッドの一例
として第７図及び第８図に示すようなものが存する。こ
れは、高透磁率磁性体ｌと非磁性体２とを一体的に接合
して形成した接合体３を一対設け、主磁極４をサンドイ
ッチ状に挟んで２つの接合体３を対称型に接着したもの
である。この接着は接着剤により行ない、従って２つの
接合体３間には接着層５が形成される。又、主磁極４は
パーマロイ、センダスト、 Ｃｏ −Ｚ ｒ −Ｎ ｂ
等の高透磁率磁性材を一方の接合体３に薄膜形成したも
のである。そして、一体化された接合体３の周囲に巻線
６を巻回すれば垂直磁気へラド７として用いることがで
きる。
として第７図及び第８図に示すようなものが存する。こ
れは、高透磁率磁性体ｌと非磁性体２とを一体的に接合
して形成した接合体３を一対設け、主磁極４をサンドイ
ッチ状に挟んで２つの接合体３を対称型に接着したもの
である。この接着は接着剤により行ない、従って２つの
接合体３間には接着層５が形成される。又、主磁極４は
パーマロイ、センダスト、 Ｃｏ −Ｚ ｒ −Ｎ ｂ
等の高透磁率磁性材を一方の接合体３に薄膜形成したも
のである。そして、一体化された接合体３の周囲に巻線
６を巻回すれば垂直磁気へラド７として用いることがで
きる。
発明が解決しようとする問題点
しかして、垂直磁気ヘッド６の使用時には、記録媒体８
の記録面９に垂直磁気ヘッド７の先端部１０が当接し、
この先端部ｌＯ上を記録面９が摺動するものである。と
ころが、その際、非磁性体２と接着層５との境界部Ｂよ
りチッピングが生じてしまい、このときの破片が主磁極
４に損傷を与える可能性が高い、又、記録面９の摺動に
より非磁性体２及び接着層５が磨耗してしまい、従って
主謀ｐｉ４も磨耗してしまう。
の記録面９に垂直磁気ヘッド７の先端部１０が当接し、
この先端部ｌＯ上を記録面９が摺動するものである。と
ころが、その際、非磁性体２と接着層５との境界部Ｂよ
りチッピングが生じてしまい、このときの破片が主磁極
４に損傷を与える可能性が高い、又、記録面９の摺動に
より非磁性体２及び接着層５が磨耗してしまい、従って
主謀ｐｉ４も磨耗してしまう。
以上のように、垂直磁気ヘッド７の使用時に主磁極４が
損傷を受けるとともに磨耗してしまうという欠点を有す
る。特に、主磁極４が損傷を受けることにより記録・再
生効率が劣化し、主磁極４、 が磨耗することによりヘ
ッド本体の短命化を招くものであり、ともに大きな欠点
であるといえる。
損傷を受けるとともに磨耗してしまうという欠点を有す
る。特に、主磁極４が損傷を受けることにより記録・再
生効率が劣化し、主磁極４、 が磨耗することによりヘ
ッド本体の短命化を招くものであり、ともに大きな欠点
であるといえる。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので。
主磁極を損傷及び磨耗から保護することができる垂直磁
気ヘッドを得ることを目的とする。
気ヘッドを得ることを目的とする。
問題点を解決するための手段
本発明は、一体的龜接合された高透磁率磁性体及び非磁
性体よりなる一対の接合体間に主磁極を形成したものに
おいて、主磁極の周囲に耐磨耗性薄膜を形成した。
性体よりなる一対の接合体間に主磁極を形成したものに
おいて、主磁極の周囲に耐磨耗性薄膜を形成した。
作用
しかして、記録・再生時には、記録媒体の記録面に主磁
極とともに耐磨耗性薄膜が当接し、これらの主磁極及び
耐磨耗性薄膜上を記録面が摺動する。
極とともに耐磨耗性薄膜が当接し、これらの主磁極及び
耐磨耗性薄膜上を記録面が摺動する。
この際、耐磨耗性薄膜は耐磨耗性に優れているので、記
録面が摺動したとしても磨耗度は°きわめて低く、又、
チッピングが生ずることもない、したがって、主磁極を
損傷及び磨耗から保護することができる。
録面が摺動したとしても磨耗度は°きわめて低く、又、
チッピングが生ずることもない、したがって、主磁極を
損傷及び磨耗から保護することができる。
発明の実施例
本発明の第一の実施例を第１図ないし第４図に基づいて
説明する。まず、全体の概略としては。
説明する。まず、全体の概略としては。
ヘッド本体２０に巻線２１が巻回されて垂直磁気ヘッド
２２が構成されている。そして、前記ヘッド本体２０は
、一対の接合体２３間に主磁極２４が形成され、この主
磁極２４の周囲に耐磨耗性薄１Ｉ５Ｉ２５が形成された
ものである。
２２が構成されている。そして、前記ヘッド本体２０は
、一対の接合体２３間に主磁極２４が形成され、この主
磁極２４の周囲に耐磨耗性薄１Ｉ５Ｉ２５が形成された
ものである。
ここで、前記接合体２３は、高透磁率磁性体２６と非磁
性体２７とが一体的に接合されてなる。
性体２７とが一体的に接合されてなる。
高透磁率磁性体２６はフェライト、パーマロイ。
センダスト等よりなり、非磁性体２７は非磁性フェライ
ト、セラミックス、結晶硝子等よりなる。
ト、セラミックス、結晶硝子等よりなる。
そして、一方の前記接合体２３の高透磁率磁性体２６及
び非磁性体２７に共通した一面が平面研磨されて薄膜形
成面２８となり、この薄膜形成面２８に薄膜層２９が着
膜されている。この薄膜層２９は、一対の前記耐磨耗性
薄膜２５により前記主磁極２４をサンドイッチ状に挟ん
だもので、これらの耐磨耗性薄ｌｌＩ２５と主謀１１２
４とが前記薄膜形成面２８に順次着膜されて積層形成さ
れたものである。ここで、前記耐磨耗性薄１１９ｊ２５
は、５１３Ｎ４．カーボン、Ｍｏ５ｚ、ＢＮ等の耐磨耗
性及び自己潤滑性を有する材料を真空蒸着、スパッタ、
ＣＶＯ等の方法で膜状形成したものである。
び非磁性体２７に共通した一面が平面研磨されて薄膜形
成面２８となり、この薄膜形成面２８に薄膜層２９が着
膜されている。この薄膜層２９は、一対の前記耐磨耗性
薄膜２５により前記主磁極２４をサンドイッチ状に挟ん
だもので、これらの耐磨耗性薄ｌｌＩ２５と主謀１１２
４とが前記薄膜形成面２８に順次着膜されて積層形成さ
れたものである。ここで、前記耐磨耗性薄１１９ｊ２５
は、５１３Ｎ４．カーボン、Ｍｏ５ｚ、ＢＮ等の耐磨耗
性及び自己潤滑性を有する材料を真空蒸着、スパッタ、
ＣＶＯ等の方法で膜状形成したものである。
一方、前記主磁極２４は、パーマロイ、センダス）−、
Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ等の高透磁率磁性材料を真空蒸着、ス
パッタ、ＣＶＤ等の方法で膜状形成したものである６そ
して、このようにして形成された前記薄膜層２９を挟み
、一対の前記接合体２３が接着剤３０で対称型に接着さ
れることで前記へット本体２０が構成される。
Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ等の高透磁率磁性材料を真空蒸着、ス
パッタ、ＣＶＤ等の方法で膜状形成したものである６そ
して、このようにして形成された前記薄膜層２９を挟み
、一対の前記接合体２３が接着剤３０で対称型に接着さ
れることで前記へット本体２０が構成される。
ついで、前記高透磁率磁性体２６には所定位置に巻線溝
３１が形成されており、前記巻線２１はその巻線溝３１
内に巻回されている。
３１が形成されており、前記巻線２１はその巻線溝３１
内に巻回されている。
このような構成において、記録・再生時には記録媒体３
２の記録面３３に垂直磁気ヘッド２２を当接させ、記録
面３３を摺動させる。このとき。
２の記録面３３に垂直磁気ヘッド２２を当接させ、記録
面３３を摺動させる。このとき。
記録時には巻線２１に信号を与えることにより主磁極２
４から垂直方向に磁束を発生させる。一方、再生時には
記録面３３における信号が１磁ｊ＠ ２４を磁化し、こ
のとき生ずる磁束を巻１９２１が受けるものである。
４から垂直方向に磁束を発生させる。一方、再生時には
記録面３３における信号が１磁ｊ＠ ２４を磁化し、こ
のとき生ずる磁束を巻１９２１が受けるものである。
一方、記録面３３の摺動は、垂直磁気ヘッド２２の主磁
極２４及び耐磨耗性薄膜２５上において行なわれるにの
際、耐磨耗性薄ｒＩ！４２５は耐磨耗性に優れているの
で、記録面３１の摺動に対する磨耗度はきわめて低い。
極２４及び耐磨耗性薄膜２５上において行なわれるにの
際、耐磨耗性薄ｒＩ！４２５は耐磨耗性に優れているの
で、記録面３１の摺動に対する磨耗度はきわめて低い。
同時に、チッピングが発生することもない。これにより
、周囲に存する耐磨耗性薄１ｌＩ２５により主磁極２４
の磨耗が防止され、又、チッピングにより生ずる破片が
存在し得ないので主磁極２４に損傷を与えることもない
。
、周囲に存する耐磨耗性薄１ｌＩ２５により主磁極２４
の磨耗が防止され、又、チッピングにより生ずる破片が
存在し得ないので主磁極２４に損傷を与えることもない
。
したがって、主磁極２４は損傷及び磨耗から保護される
。特に、損傷からの保護は記録・再生効率の恒常性に寄
与し、磨耗からの保護は垂直磁気ヘッド２２の長寿命化
に寄与する。
。特に、損傷からの保護は記録・再生効率の恒常性に寄
与し、磨耗からの保護は垂直磁気ヘッド２２の長寿命化
に寄与する。
又、耐磨耗性薄膜２５は自己潤滑性を有するので、自ら
の磨耗を防止するのみならず、記録面３３に対する損傷
も防止し得る。
の磨耗を防止するのみならず、記録面３３に対する損傷
も防止し得る。
なお、実施にあたっては、第４図に示すように。
巻線２１の巻回位置を１磁ｔ！ｉ２４の先端側に近接さ
せてもよく、この場合には記録・再生効率を向上させる
ことができる。
せてもよく、この場合には記録・再生効率を向上させる
ことができる。
本発明の第二の実施例を第５図及び第６図に基づいて説
明する。第一の実施例と同一部分は同一符号で示し、説
明も省略する１本実施例は、一方の接合体２３が有する
薄膜形成面２８において。
明する。第一の実施例と同一部分は同一符号で示し、説
明も省略する１本実施例は、一方の接合体２３が有する
薄膜形成面２８において。
その上方にのみ耐磨耗性薄膜２５を着膜し、この耐磨耗
性薄膜２５が着膜されない薄膜形成面２８の高透磁率磁
性体２６部分に直接的に主磁極２４後端を着膜した。そ
して、耐磨耗性薄膜２５の後端部Ｅに傾斜を付け、耐磨
耗性薄膜２５と薄膜形成面２８との段差をなめらかに形
成した。
性薄膜２５が着膜されない薄膜形成面２８の高透磁率磁
性体２６部分に直接的に主磁極２４後端を着膜した。そ
して、耐磨耗性薄膜２５の後端部Ｅに傾斜を付け、耐磨
耗性薄膜２５と薄膜形成面２８との段差をなめらかに形
成した。
このような構成において、主磁極２４の後端は高透磁率
磁性体２６に直接的に接触しているので。
磁性体２６に直接的に接触しているので。
磁気特性が向上し、より高効率な記録・再生特性が得ら
れる。この場合において、耐磨耗性薄膜２５の後端部Ｅ
には傾斜が付けられているので、この上に着膜される主
磁極２４の形状がなめらかになり、主磁極２４の膜切れ
や特性劣化が防止される。したがって、装置の信頼性が
確保される。
れる。この場合において、耐磨耗性薄膜２５の後端部Ｅ
には傾斜が付けられているので、この上に着膜される主
磁極２４の形状がなめらかになり、主磁極２４の膜切れ
や特性劣化が防止される。したがって、装置の信頼性が
確保される。
発明の効果
本発明は１以上のように、一対の接合体間に形成された
主磁極の周囲に耐磨耗性薄膜を形成したので、主磁極先
端上を記録媒体の記録面が摺動したとしても主磁極自体
の磨耗やその周囲からのチッピングが生じず、主磁極が
損傷及び磨耗から保護され、したがって、初期性能が劣
化せずその性能が長年にわたって維持され、又、主磁極
の後端を接合体の高透磁率磁性体に直接的に着膜して互
いに接触させた場合には、磁気特性が向上して高効率な
記録・再生特性が得られる等の効果を有する。
主磁極の周囲に耐磨耗性薄膜を形成したので、主磁極先
端上を記録媒体の記録面が摺動したとしても主磁極自体
の磨耗やその周囲からのチッピングが生じず、主磁極が
損傷及び磨耗から保護され、したがって、初期性能が劣
化せずその性能が長年にわたって維持され、又、主磁極
の後端を接合体の高透磁率磁性体に直接的に着膜して互
いに接触させた場合には、磁気特性が向上して高効率な
記録・再生特性が得られる等の効果を有する。
第１図は本発明の第一の実施例を示す全体の斜視図５第
２図は耐磨耗性薄膜を切欠して示す分解斜視図、第３図
は正面図、第４図は変形例を示す全体の斜視図、第５図
は本発明の第二の実施例を示す分解斜視図、第６図は縦
断正面図、第７図は従来の一例を示す全体の斜視図、第
８図はその正面図である６ ２３・・・接合体、２４・・・主磁極、２５・・・耐磨
耗性薄膜、２Ｇ・・・高透磁率磁性体、２７・・・非磁
性体。
２図は耐磨耗性薄膜を切欠して示す分解斜視図、第３図
は正面図、第４図は変形例を示す全体の斜視図、第５図
は本発明の第二の実施例を示す分解斜視図、第６図は縦
断正面図、第７図は従来の一例を示す全体の斜視図、第
８図はその正面図である６ ２３・・・接合体、２４・・・主磁極、２５・・・耐磨
耗性薄膜、２Ｇ・・・高透磁率磁性体、２７・・・非磁
性体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一体的に接合された高透磁率磁性体及び非磁性体よ
りなる一対の接合体間に主磁極を形成したものにおいて
、前記主磁極の周囲に耐磨耗性薄膜を形成したことを特
徴とする垂直磁気ヘッド。 ２、一体的に接合された高透磁率磁性体及び非磁性体よ
りなる一対の接合体を設け、これらの接合体の一方の前
記高透磁率磁性体及び前記非磁性体の共通の一面に薄膜
形成面を形成し、この薄膜形成面に耐磨耗性薄膜と主磁
極と耐磨耗性薄膜とを順次着膜して少なくとも三層が積
層された薄膜層を形成し、この薄膜層を挟んで前記接合
体に他方の前記接合体を対称型に接着したことを特徴と
する垂直磁気ヘッドの製造方法。 ３、耐磨耗性薄膜を自己潤滑性材料の薄膜により形成し
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記
載の垂直磁気ヘッド及びその製造方法。 ４、一体的に接合された高透磁率磁性体及び非磁性体よ
りなる一対の接合体間に主磁極を形成したものにおいて
、前記主磁極の先端周辺だけを覆う耐磨耗性薄膜を設け
、その主磁極の後端は前記高透磁率磁性体に接触させた
ことを特徴とする垂直磁気ヘッド。 ５、主磁極の後端側における耐磨耗性薄膜の端部に傾斜
を付け、その耐磨耗性薄膜と接合体との段差部分をなだ
らかに形成したことを特徴とする特許請求の範囲第４項
記載の垂直磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27877784A JPS61153808A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 垂直磁気ヘツド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27877784A JPS61153808A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 垂直磁気ヘツド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153808A true JPS61153808A (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=17602030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27877784A Pending JPS61153808A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 垂直磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153808A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04116536U (ja) * | 1991-03-30 | 1992-10-19 | ミサワホーム株式会社 | プレキヤスト土間 |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP27877784A patent/JPS61153808A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04116536U (ja) * | 1991-03-30 | 1992-10-19 | ミサワホーム株式会社 | プレキヤスト土間 |
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