JPS61141438A - 非銀塩画像形成材料 - Google Patents

非銀塩画像形成材料

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JPS61141438A
JPS61141438A JP59263994A JP26399484A JPS61141438A JP S61141438 A JPS61141438 A JP S61141438A JP 59263994 A JP59263994 A JP 59263994A JP 26399484 A JP26399484 A JP 26399484A JP S61141438 A JPS61141438 A JP S61141438A
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守谷 武雄
Toshio Yamagata
山縣 敏雄
Kentaro Osawa
大沢 健太郎
Toshimichi Katsuoka
勝岡 利通
Yasunori Sugiyama
靖典 杉山
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、非銀塩画像形成材料に係り、詳しくは写真製
版工程に用いられる見当精度の高い非銀塩感光材料レリ
ーフ型密着反転リスフィルムに関する。
(従来の技術およびその問題点) 従来から、写真製版工程では、ハロゲン化銀感光材料に
よる密着反転リスフィルムが用いられているが、省銀、
簡便な現像処理、コストダウン等の要求に応じて各種の
非銀塩感光材料密着反転リスフィルムが提案されている
たとえば、特開昭52−89916号公報には。
透明フィルム支持体上に皮膜形成性かつ溶媒可溶性の高
分子物質中にカーボンブラックを分散してなるマスク層
を設け、さらにその上にフォトレジスト層を積層してな
る画像形成材料が開示され。
その画像形成材料は、密着露光後、@像あるいは現像・
エツチングの処理で露光部を残存させ、かつ未露光部を
溶出させることにより、透明フィルム支持体上にフォト
レジスト層及びマスク層よりなるレリーフ型の反転画像
を形成し、写真製版工程で密着反転リスフィルムとして
使用できるとされている。
ところで、写真製版工程における集版作業では。
版下の指定事項にしたがい、原稿の文字・イラスト・写
真などを「のせ文字」・「白ぬき文字j・「太らせ文字
」・「写真の切り抜き合成」・r毛抜台わせ」等の技法
を用いてl歓のフィルムに仕上げており、たとえばr毛
抜台わせ」技法においては。
異なる数種類の写真や、写真と文字などを、その合せ目
に重なり、あるいは白抜きが出ないように合成する必要
があり、その許容巾はr毛抜台せ」と称せられるように
髪の毛1本以内、すなわち0.1mm以内である。すな
わち、写真Aのネガフィルムと写真Bのネガフィルムを
1枚のフィルム上に多重焼付する時、写真Aのネガフィ
ルムのマスクフィルムと写真Bのネガフィルムのマスク
フィルムの重なりあるいは白抜きは0.1ma以内の許
容巾となり、写真Bのネガフィルムのマスクフィルムが
写真Aのネガフィルムのマスクフィルムの写真処理法に
よる反転マスクフィルムである場合、この反転マスクフ
ィルム作製用の画像形成材料は反転による見当のずれが
0.1mm以上あってはならない。
しかし、前記したようなレリーフ型の反転画像形成材料
は、上記した反転マスクフィルム作製でしばしば0.1
1以上の見当のずれが生じるという問題があった。
特に1作業性の要求からできるだけ短い真空吸引時間で
反転焼付されることの多い明室型真空吸引密着反転プリ
ンターを用い、かつ、前記したようなレリーフ型の反転
画像形成材料から作製され、     ;画像部が少な
く、非画像部が多くて透明フィルム支持体表面が画像面
の大部分を占める原稿フィルムより第3の反転フィルム
に反転焼付される時、原稿フィルムと第3の反転フィル
ムの間にエアポケットを生じたり2両者の間の表面易滑
性が悪いことなどにより見当のずれが生じることが多か
った。
これは、前記したようなレリーフ型の反転画像形成材料
が、前記した特開昭52−89916号公報に記載のよ
うにマスク層・基材フィルム間の中間層は高分子溶液を
塗布してなり、マスク層と基材フィルムとの接着効果を
与えるだけの目的で設けられたものであり1表面のマッ
ト性がなく、゛現像あるいは、現像・エツチングによっ
て、非画像部に全く平滑な支持体表面を露出するのみで
あり、基材表面に表面易滑性及び真空吸引適性を与えた
ものでないことが原因と考えられる。
(従来の技術を解決するための手段) 本発明者等は、レリーフ型の反転画像形成材料における
上記の問題を解消する目的で検討を重ねた結果、支持体
の片面または両面にマット層を設け、波長域が少なくと
も330nn+から600nmにおいて全光線透過率が
60%以上であり、かつ中心線平均あらさが0.10μ
以上0.60μ未満であるマットフィルム支持体のマッ
ト層上にマスク層及びフォトレジスト層を順次設けるこ
とにより上記の問題を解消できる知見を得、本発明を完
成するに至った。
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の画像形成材料に使用する支持体としてぼ1寸法
安定性にすぐれ、波長域が少なくとも330nmから6
0on−において全光線透過率が60%以上である透明
フィルム支持体であり、その例としてポリエチレンテレ
フタレートフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリス
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスルホ
ンフィルムなどのプラスチックフィルムをあげることが
でき、中でも厚さ50μから200μのポリエチレンテ
レフタレートフィルムが特に好ましい。これらのプラス
チックフィルムは、後記するマット層との接着を改善す
るために必要に応じて下引層を設けたり。
放電処理が施されていてもよい。
次に上記支持体上に積層される各層を支持体側より順次
説明する。
(1)マット層 マット層は、塗布膜厚0.1μから20μが好ましく、
さらに好ましくは0.5μから5μであり、前記プラス
チックフィルムの片面あるいは両面に設けられる。この
片面あるいは両面にマット層が設けられたフィルムは、
いずれも、波長域が少なくとも330r+mか6600
nn+において全光線透過率が60%以上あり、かつ中
心線平均あらさが0.lOμ以上0.60μ未満である
必要があり、上記波長域において全光線透過率が60%
未満では、本発明の画像形成材料より2枚以上のマスク
フィルムを作成し、それらを重ねて第3の反転フィルム
に焼付ける時、非画像部の焼付光透過性が悪く、焼付時
間を必要以上にかけることになり、前記した写真製版工
程の集版作業において特に「白ぬき文字」適性の低下な
ど反転画像の鮮鋭度の低下をもたらす。
また、中心線平均あらさが0.10μ未満では表面易滑
性及び真空吸引適性について実質的に透明フィルムと変
らず本発明の目的は達成されない。さらに、中心線平均
あらさが0.60μ以上であると、表面易滑性及び真空
吸引適性が改善されるものの、反転画像の非画像部の地
力ブリの発生や反転画像の鮮鋭度の低下をもたらす。
マット層は、バインダーの有機溶剤溶液にマット剤を適
当な分散手段、たとえば、ボールミル、サンドグライン
ダー、アトライター、ロールミル、高速インペラー分散
機などを用いて分散液とし前記プラスチックフィルム上
に塗布乾燥して形成すればよい。
本発明の画像形成材料のマット層に用いることのできる
マット剤の例としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム
、二酸化ケイ素などの粒子径5μ以下の体質顔料微粉末
、及びベンゾグアナミン樹脂の粒子径3μ以丁の真球状
粒子1粒子径5μ以下のライススターチなどの無色高分
子粒子などを挙げることができる。また1本発明の画像
形成材料      ]のマット層に用いることのでき
るバインダーとしでは、フォトレジスト層現像液及びマ
スク層エツチング液に非可溶性あるいは難膨潤性である
ものが好ましい。すなわち、このような性質を有するバ
インダーは塩基性物質、酸性物質、中性塩、水に相溶可
能な低級アルコールに分類される物質群より選ばれる単
独あるいは2種以上の混合物質の水溶液に非可溶性ある
いは難膨潤性であり、かつ炭化水素系、ハロゲン化炭化
水素系、アルコール系、エーテル系、アセタール系、ケ
トン系、エステル系、多価アルコール及びその誘導体系
、脂肪酸系、フェノール系、窒素化合物系などの有機溶
剤、たとえば、ヘキサン、トルエン、キシレン。
四塩化炭素、トリクロロエタン、ブタノール、インプロ
パツール、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、
酢酸エチル、メチルセロソルブ、エーテルなどの単独あ
るいは2種以上の混合物により溶解可能な高分子化合物
であり、その例としては、ニトロセルロース、酢酪酸セ
ルロース、酸プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース
、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニリデ
ン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニ
トリル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、線状
飽和ポリエステル、変性エーテル型ポリエステルなどが
挙げられる。
これらは単独あるいは2種以上を混合して用いることが
できる。
上記の体質顔料あるいは無色高分子微粒子とフォトレジ
スト層現像液及びマスク層エツチング液に非可溶性ある
いは難膨潤性である高分子バインダーとからなるマット
層はケミカルマット層と称される。
(2)マスク層 マスク層は、塗布膜厚が通常0.5〜20μ、好ましく
は1〜10μであり、さらに好ましくは1反転作業にお
いて画線の細りが生ずる原因となるマスク層のサイドエ
ッチを防ぐためにできるだけ薄膜であることが必要で1
反転作業に必要な焼付画像濃度、たとえば、近紫外線濃
度及びオルソ濃度が少なくとも2.5以上あれば、2〜
5μである。マスク層は、木あるいは有機溶剤に可溶な
皮膜形成性バインダーの溶液に黒色顔料を適当な分散手
段。
たとえば、ボールミル、サンドグラインター、アトライ
ター、ロールミル、高速インペラー分散機などを用いて
分散液とし前記マットフィル15上に塗布・乾燥して設
けるのが良い。
この分散液に使用されろ水あるいは有機溶剤は。
前記マット層を溶解したり、著しく膨潤させないことが
必要で、前記マント層のバインダー組成に応じて、炭化
水素系、ハロゲン化炭化水素系、アルコール系、エーテ
ル系、アセタール系、ケトン系、エステル系、多価アル
コール及びその誘導体系、脂肪酸系、フェノール系、窒
素化合物系などの有機溶剤より単独あるいは2種以上を
混合して適宜用いることができる。
このマスク層に用いることのできる黒色顔料の例として
は、カーボンブラック、カーボングラファイト、フタロ
シアニン系顔料、黒鉛粉、黒化銀粉。
ニッケル粉、酸化鉄粉、チタンブラックなどが挙げられ
、添加重最当りのカバーリングパワーが大きいカーボン
ブラックが特に好ましい。
マスク層における黒色顔料の含有量は後述する皮膜形成
性ポリマーに対して10〜500重量%、好ましくは6
0〜300重量%であり、前記したように十分な焼付画
像濃度を得て、できるだけ薄膜にマスク層を形成するよ
うに、成膜性能が低ドしない範囲で黒色顔料をできるだ
け多く皮膜形成性ポリマーに含むことが望ましい。
このマスク層に用いることのできる皮膜形成性ポリマー
の例としては、フォトレジスト層現像液及びマスク層エ
ツチング液の組成により、フォトレジスト層現像液ある
いはマスク層エツチング液により溶解あるいは膨潤可能
である次の各群の高分子化合物より選択される高分子化
合物が挙げられ、これらは単独あるいは2種以上を混合
して用いられる。
(A)・・・・水溶性樹脂             
     ;ゼラチン、アルギン酸ソーダ、メチルセル
ロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメ
チルエーテル、ビニルメチルエーテル−無水マレイン酸
共重合体、ポリエチレンオキシド、ポリアクリル酸ソー
ダ、ポリアクリル、 酸エステル部分ケン化物、ポリア
クリルアミド。
アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体な
ど。
(B)・・・・アルカリ可溶性樹脂 アクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体、メタクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル−アクリロニトリル−メタク
リル酸メチル−メタクリル酸共重合体、スチレン−無水
マレイン酸共重合体部分エステル化物、ポリビニル−P
−ヒドロキシベンザール、ノボラック型フェノール樹脂
など。
(C)・・・・酸可溶性樹脂 メタクリル酸ジメチルアミノエチル−メタクリル酸メチ
ル共重合体など。
(3) フォトレジスト層 フォトレジスト層は、感光性の皮膜形成物質よすなり、
紫外線光、可視光などの露光により、塩基性物質、酸性
物質、中性塩、水に相溶可能な低級アルコールより選択
される単独あるいは2種以上の混合物の水溶液よりなる
現像液に対して溶解性、膨潤性などが変化し、露光部分
のみがマスク層上に残留することができ、残留部分が、
上記と同じ物質群より選択される単独あるいは2種以上
の混合物の水溶液よりなるエツチング液に対して不溶で
ある性質を有すれば、後述する従来公知の種々のフォト
レジストを使用することができる。
フォトレジスト層の好ましい膜厚は0,5〜10μであ
り、さらに好ましくは、写真製版工程で普及している反
転プリンターで能率よく反転焼付可能な感度(500m
J/ r:rl以下、好ましくは100mJ/c+d以
下)と現像・エツチング処理におけるレジスト性能を得
るように1〜5μである。
フォトレジスト層は、後述する従来公知の各種のフォト
レジストを、マスク層を溶解したり、著しく膨潤しない
水あるいは有機溶剤を用いて塗布液とし、前記マスク層
上に塗布・乾燥して設けられる。
また、フォトレジスト層塗布液にマット層に用いたマッ
ト剤を添加することができ、さらに必要によっては、フ
ォトレジスト層にマット剤を含むオーバーコート層をさ
らに積層することもできる。
以下に本発明において好ましく用いられるフォトレジス
トを列挙する。
(A)ジアゾ樹脂と水溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹
脂とを組合せたフォトレジスト ジアゾ樹脂と水溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹脂を組
み合せたフォトレジストとしては、P−ジアゾジフェニ
ルアミンパラホルムアルデヒド縮合物に代表されるジア
ゾ樹脂とゼラチン、ポリビニルアルコール キシエチルセルロース、ビニルメチルエーテル−無水マ
レイン酸共重合体,アクリルアミド−ジアセトンアクリ
ルアミド共重合体などの水溶性樹脂を組合せたフォトレ
ジストあるいは上記ジアゾ樹脂を有機溶剤可溶型にした
ものにメタクリル酸2−ヒドロキシエチル−アクリロニ
トリル−メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体な
どのアルカリ可溶性樹脂とを組合せたフォトレジストか
あげられる。
CB)アジド基を感光基とするフォトレジストアジド基
を感光基とするフォトレジストは、ポリアジド安息香酸
ビニル、ポリアジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレ
ン、ポリビニルアジドベンザルアセタール、ポリビニル
アジドナフチルアセタール、アジドベンツアルデヒド−
フェノール樹脂、アジドジフェニルアミンホルマリン縮
合−重。
合体などをあげられる。
さらに、アジド感光剤とポリマーを混合して得られるア
オトレジスト,たとえば.4.4’−ジアジドスチルベ
ン−2.2′−ジスルホン酸アニリド、4−アジド−1
−フェニルアミノベンゼン−2−スルホン酸アニリド、
あるいは4−4’−’2 7 ′F h Jb″1 ′
’t h & / f i y ’)’M 7”/−J
LI     。
樹脂を混合してなるフォトレジスト、特開昭59−37
540公報実施例1及び同実施例3に記載の4,4′−
ジアジドカルコンあるいは2、6ージ(4′−アジドベ
ンザル)−シクロヘキサノンとポリビニルブチラール樹
脂を混合してなるフォトレジストがあけられる。
(C)アクリロイル基を感光基とするフォトレジスト アクリロイル基を有する千ツマ−を10〜40重量%、
光重合開始剤を1〜20重量%,現像液に溶解あるいは
膨潤可能な皮膜形成性ポリマーを10〜80重量%,お
よび増感剤,熱重合防止剤などの他の添加剤を10重量
%以下含有し,これらが相溶されてなるフォトレジスト
があげられる。
上記アクリロイル基を有するモノマーは,付加重合可能
な不飽和上ツマ−であり,具体的には。
多官能アクリレート、たとえば、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコール200ジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エス
テルネオペンチルグリコールジアクリレート、ビス(ア
クリロキシエトキシ)ビスフェノールA,ビス(アクリ
ロキシポリエトキシ)ビスフェノールA、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリ
レートなどが望ましく、他に。
フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、メトキシエチノσアクリレ
ート、N.N−ジメチルアミノエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、2−メトキシエトキシエチルアクリ
レート、2−エトキシエトキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート、テト
ラヒドロフルフリ−ルアクリレートなどの単官能アクリ
レートを前記の多官能アクリレートと併用することもで
きる。
全重合開始剤には,アセトフェノン、P−ジメチルアセ
トフェノン、ベンゾフェノン、1)、P−ジクロロベン
ゾフェノン、ミヒラーケトン(4−4′−ビスジメチル
アミノベンゾフェノン)、べンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−プロピ
ルエーテル。
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインn−ブチル
エーテル、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオ
キサンソン、アゾビスイソブチルニ、 トリル、ベンゾ
インパーオキサイド、2.4,5−トリフェニルイミダ
ゾール2量体などが使用できる。
現像液に溶解あるいは膨潤可能な皮膜形成性ポリマーは
、現像液が水単独よりなる場合、ポリビニルアルコール
、ポリアクリル酸、アクリルアミド−ジアセトンアクリ
ルアミド共重合体などが使用でき、現像液がアルカリ性
水溶液よりなる場合は、アクリル酸−メタクリル酸エス
テル共重合体。
スチレン−無水マレイン酸共重合体部分エステル化物、
ノボラック型フェノール樹脂などが使用できる。また、
現像液が、酸性水溶液よりなる場合は、メタクリル酸ジ
メチルアミノエチル−メタクリル酸メチル共重合体など
が使用できる。増感剤としてミヒラーケトン、チアジン
色素などを、そして熱重合防止剤としてヒドロキノンな
どを使用することができる。さらに望ましくは、必要に
応じ上記の組成物に主鎖、鎖末端、側鎖に光重合性の不
飽和基を有するポリマーまたはオリゴマーを相溶して使
用することができる。
(実施例) 以下本発明を実施例により具体的に説明するが。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1 マット層組成 線状飽和ポリエステル樹脂       10重量部(
東洋紡績製バイロン200) 二酸化ケイ素微粉末          1重量部(富
士デヒイソン化学製サイロイド978)トルエン   
            33重量部″″″”f)Ll
’j″h ”’**@     i酢酸エチル    
          33重量部上記組成物をボールミ
ルで6時間分散し、マット層塗布液とした。この塗布液
を、厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片面にワイヤーバーを用いて塗布し、90℃の温風
で1分間乾燥し、塗布膜厚が約1.5μの片面マットフ
ィルムを得た。この片面マットフィルムの全光線透過率
は、 330n+sにおいて62%、 400rusに
おいて81%。
500nmにおいて85%、600ru++において8
6%であった。
また、この片面マットフィルムのマット層の中心線平均
あらさば+ 0.41μであった。
次いで、下記組成物をボールミルで72時間分散し、マ
スク層塗布液とした。この塗布液を上記マット層の上に
ワイヤーバーを用いて塗布し、90℃の温風で1分30
秒間乾燥し、塗布膜厚が約1.5μのマスク層をマット
層上に形成させた。
マスク層組成 メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体   5
重量部(メタルグリル酸メチル30モル%、メタクリル
酸2−ヒドロキシエチル40モル%、メタクリロニトリ
ル27モル%、メタクリル酸3モル%、からなる共重合
体)カーボンブラック            5重量
部(三菱化成工業製MA−100) メチルセロソルブ            90重量部
シリコーン系界面活性剤        0.2重量部
(ダウ−ml−ニング社製FS−XB−2725)さら
に、下記組成物よりなるフォトレジスト層塗布液を上記
マスク層の上にワイヤーバーを用いて塗布し、90℃の
温風で1分間乾燥し、塗布膜厚が約1μのフォトレジス
ト層をマスク層上に形成させた。
′フォトレジスト層組成 ブチラール樹脂              5重量部
(積水化学工業製、エスレックBL−3)4.4′−ジ
アジドカルコン       0.5重量部トルエン 
               38重量部メチルエチ
ルケトン           45重量部酢酸ブチル
               22重量部以上により
本発明の画像形成材料を得た。
実施例2 マット層組成 線状飽和ポリエステル樹脂        10重量部
(東洋紡績製バイロン200) ベンゾグアナミン樹脂微粒子       1重量部(
日本触媒化学工業IIFP100B)トルエン    
            33重量部メチルエチルケト
ン           33重量部酢酸エチル   
            33重量部上記組成物をボー
ルミルで、48時間分散し。
マット層塗布液とした。この塗布液を用いて実施例1と
同様にして塗布膜厚が約1.5 pの片面マットフィル
ムを得た。この片面マットフィルムの全光線透過率は、
 33Onmにおいて61%、 400no+において
80%、500rvにおいて85%−60On−におい
て86%であ゛った。また、この片面マットフィルムの
マット層の中心線平均あらさは0.25μであった。
次いで、実施例1と同じマスク層を★施例1と同様にし
てマット層上に形成させた。さらに、下記組成物よりな
るフォトレジスト層塗布液を実施例1と同様にして、塗
布膜厚が約1.5μのフォトレジスト層をマスク層上に
形成させた。
フォトレジスト層組成 アクリル酸・メタクリル酸エステル共重合体溶液  2
0重量部(方路化学工業製、Nに−3) トリメチロールプロパントリアクリレート  6重量部
ベンゾフェノン             0.8重量
部ミヒラーケトン             0.4重
量部ハイドロキノン             0.0
2重量部トルエン                7
5重量部酢酸ブチル                
50重量部そして、下記組成物よりなるオーバコート層
を塗布膜厚約0.5μでフォトレジスト層上に形成させ
た。
ポリビニルアルコール        7 3重電部(
日本合成化学工業製、ゴーセノールNH−20)蒸留水
                 90重量部イソプ
ロピルアルコール          6重量部シリコ
ーン系界面活性剤        0.05重量部(ダ
ウコーニング社製、PS−XB−2725)以上により
本発明の画像形成材料を得た。
実施例3 マット層組成 塩化ビニリデン・塩化ビニル共重合体溶液 25重量部
(呉羽化学工業製りレハロンSO^) 二酸化ケイ素微粉末            1重量部
       1(富士デヒイソン化学製サイロイド9
78)酢酸エチル               51
重量部トルエン                 3
3重量部上記組成物をボールミルで、6時間分散し、マ
ット層塗布液とした。この塗布液を用いて実施例1と同
様にして塗布膜厚が約1.5μの片面マットフィルムを
得た。この片面マットフィルムの全光線透過率は、33
Onmにおいて62%、 40Onmにおいて80%、
50Onmにおいて85%、 60Onmにおいて86
%であった。
また、この片面マットフィルムのマット層の中心線平均
あらさば0.43μであった。
次いで、下記組成物をボールミルで72時間分散し、マ
スク層塗布液とした。この塗布液を実施例1と同様にし
てマット層上に塗布乾燥してマスク層を形成させた。
マスク層組成 アクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体溶液  2
0重置部(方路化学工業製、 5R−102) カーボンブラック             5重量部
(三菱化成工業製、H^−100) 蒸留水                 75重量部
シリコーン系界面活性剤         0.2重量
部(ダウ・コーニング社製、 FS−XB−2725)
さらに、実施例2と同じフォトレジスト層及びオーバー
コート層を実施例と同様にしてマスク層上に形成させた
6以上により本発明の画像形成材料を得た。
比較例 実施例1〜3で用いたと同じ厚さ100μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いて、実施例3において
マット層を設けることを除いて、他ば実施例3と同様に
して比較例の画像形成材料を得た。なおこの100μの
ポリエチレンテレフタレートフィルムの全光線透過率は
、 330n■において65%、400n+*において
84%、50Onmにおいて87%、600n■におい
て88%であった。また、このフィルムの中心線平均あ
らさば0.04μであった。
実施例1〜3及び比較例で得た画像形成材料の写真製版
工程における反転焼付見当精度を次の方法により比較し
た。
0、In+mの細線で5cm間隔の方眼を描いた。縦6
1clI、横82cmのスクライブベースフィルムを原
稿にして、実施例1〜3及び比較例で得た画像形成材料
を明室型真空吸引密着反転プリンター(きもと11KV
P−Gl[[)で露光量100ieJ/cjにてレジス
ターピンを用いて反転焼付し、下記の現像処理方法にて
反転ポジフィルムを得た。
現像処理方法 実施例1 アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム8%水溶液(
花王石鹸製ペレックスNBL4倍水希釈液ンを30℃に
加温して現像液とした。この現像液に2分間節l!浸漬
し、後水道水流水で水洗しながら、脱脂綿でこすりII
tfliシ、水滴をぬぐった後40℃の温風で30分間
乾燥した。
実施例2,3、及び比較例 無水炭酸ナトリウム0.01%水溶液を30℃に加温し
て現像液とした。この現像液に30秒間静電浸漬し、後
実施例1と同様に水洗こすり現像及び乾燥を行った。
次に、得られた各反転ポジフィルムを原稿にして、各々
の原稿と同一の画像形成材料に上記と同様にして反転焼
付、現像処理を行い再反転焼付によるネガフィルムを得
た。
以上にして得た実施例1〜3及び比較例について同一の
画像形成材料によるポジフィルムとネガフィルムの方眼
寸法をガラススケールを用いて測定し、ポジフィルムの
5cm方眼の個々について各々が反転焼付された5c■
方眼が0 、05m■以上の伸縮があった場合不良方眼
とした。192個の方眼中。
不良方眼が30個未満の場合、見当精度良好とし、90
個以上の場合、見当精度不良とした。
結果は、実施例1及び3で得た画像形成材料は見当精度
良好であり、比較例で得た画像形成材料は見当精度不良
であった6また。実施例2で得た画像形成材料は見当精
度について良好・不良の境界域を示した。
(発明の効果) 以上詳述したように本発明によれば写真製版工程におけ
る集版作業で[のせ文字J [太らせ文字」「写真の切
り抜き合成」 「毛抜き合せ」等の技法に使用され得る
反転見当精度の高い非銀塩感光材     )料レリー
フ型密着反転リスフィルムが提供された。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、支持体の片面または両面にマット層を設け、波長域
    が少なくとも330nmから600nmにおいて、全光
    線透過率が60%以上あり、かつ中心線平均あらさが0
    .10μ以上0.60μ未満であるマットフィルム支持
    体のマット層上にマスク層を設け、さらにその上にフォ
    トレジスト層を積層してなることを特徴とする非銀塩両
    像形成材料。 2、マットフィルムが、体質顔料あるいは無色高分子微
    粒子と、フォトレジスト層現像液およびマスク層エッチ
    ング液に非可溶性あるいは難膨潤性である高分子バイン
    ダーとからなるケミカルマット層を透明フィルム支持体
    の片面あるいは両面に設けたものである特許請求の範囲
    第1項記載の非銀塩画像形成材料。 3、マスク層が、フォトレジスト層現像液あるいはマス
    ク層エッチング液に可溶性あるいは膨潤性である高分子
    バインダー中に分散された黒色顔料層よりなる特許請求
    の範囲第1項記載の非銀塩画像形成材料。 4、黒色顔料がカーボンブラックを主成分とする特許請
    求の範囲第3項記載の非銀塩画像形成材料。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6370841A (ja) * 1986-09-12 1988-03-31 Kimoto & Co Ltd 非銀塩画像形成材料

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