JPS61141438A - 非銀塩画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、非銀塩画像形成材料に係り、詳しくは写真製
版工程に用いられる見当精度の高い非銀塩感光材料レリ
ーフ型密着反転リスフィルムに関する。

（従来の技術およびその問題点） 従来から、写真製版工程では、ハロゲン化銀感光材料に
よる密着反転リスフィルムが用いられているが、省銀、
簡便な現像処理、コストダウン等の要求に応じて各種の
非銀塩感光材料密着反転リスフィルムが提案されている
。

たとえば、特開昭５２−８９９１６号公報には。

透明フィルム支持体上に皮膜形成性かつ溶媒可溶性の高
分子物質中にカーボンブラックを分散してなるマスク層
を設け、さらにその上にフォトレジスト層を積層してな
る画像形成材料が開示され。

その画像形成材料は、密着露光後、＠像あるいは現像・
エツチングの処理で露光部を残存させ、かつ未露光部を
溶出させることにより、透明フィルム支持体上にフォト
レジスト層及びマスク層よりなるレリーフ型の反転画像
を形成し、写真製版工程で密着反転リスフィルムとして
使用できるとされている。

ところで、写真製版工程における集版作業では。

版下の指定事項にしたがい、原稿の文字・イラスト・写
真などを「のせ文字」・「白ぬき文字ｊ・「太らせ文字
」・「写真の切り抜き合成」・ｒ毛抜台わせ」等の技法
を用いてｌ歓のフィルムに仕上げており、たとえばｒ毛
抜台わせ」技法においては。

異なる数種類の写真や、写真と文字などを、その合せ目
に重なり、あるいは白抜きが出ないように合成する必要
があり、その許容巾はｒ毛抜台せ」と称せられるように
髪の毛１本以内、すなわち０．１ｍｍ以内である。すな
わち、写真Ａのネガフィルムと写真Ｂのネガフィルムを
１枚のフィルム上に多重焼付する時、写真Ａのネガフィ
ルムのマスクフィルムと写真Ｂのネガフィルムのマスク
フィルムの重なりあるいは白抜きは０．１ｍａ以内の許
容巾となり、写真Ｂのネガフィルムのマスクフィルムが
写真Ａのネガフィルムのマスクフィルムの写真処理法に
よる反転マスクフィルムである場合、この反転マスクフ
ィルム作製用の画像形成材料は反転による見当のずれが
０．１ｍｍ以上あってはならない。

しかし、前記したようなレリーフ型の反転画像形成材料
は、上記した反転マスクフィルム作製でしばしば０．１
１以上の見当のずれが生じるという問題があった。

特に１作業性の要求からできるだけ短い真空吸引時間で
反転焼付されることの多い明室型真空吸引密着反転プリ
ンターを用い、かつ、前記したようなレリーフ型の反転
画像形成材料から作製され、　　　　　；画像部が少な
く、非画像部が多くて透明フィルム支持体表面が画像面
の大部分を占める原稿フィルムより第３の反転フィルム
に反転焼付される時、原稿フィルムと第３の反転フィル
ムの間にエアポケットを生じたり２両者の間の表面易滑
性が悪いことなどにより見当のずれが生じることが多か
った。

これは、前記したようなレリーフ型の反転画像形成材料
が、前記した特開昭５２−８９９１６号公報に記載のよ
うにマスク層・基材フィルム間の中間層は高分子溶液を
塗布してなり、マスク層と基材フィルムとの接着効果を
与えるだけの目的で設けられたものであり１表面のマッ
ト性がなく、゛現像あるいは、現像・エツチングによっ
て、非画像部に全く平滑な支持体表面を露出するのみで
あり、基材表面に表面易滑性及び真空吸引適性を与えた
ものでないことが原因と考えられる。

（従来の技術を解決するための手段） 本発明者等は、レリーフ型の反転画像形成材料における
上記の問題を解消する目的で検討を重ねた結果、支持体
の片面または両面にマット層を設け、波長域が少なくと
も３３０ｎｎ＋から６００ｎｍにおいて全光線透過率が
６０％以上であり、かつ中心線平均あらさが０．１０μ
以上０．６０μ未満であるマットフィルム支持体のマッ
ト層上にマスク層及びフォトレジスト層を順次設けるこ
とにより上記の問題を解消できる知見を得、本発明を完
成するに至った。

以下、本発明について具体的に説明する。

本発明の画像形成材料に使用する支持体としてぼ１寸法
安定性にすぐれ、波長域が少なくとも３３０ｎｍから６
０ｏｎ−において全光線透過率が６０％以上である透明
フィルム支持体であり、その例としてポリエチレンテレ
フタレートフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリス
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスルホ
ンフィルムなどのプラスチックフィルムをあげることが
でき、中でも厚さ５０μから２００μのポリエチレンテ
レフタレートフィルムが特に好ましい。これらのプラス
チックフィルムは、後記するマット層との接着を改善す
るために必要に応じて下引層を設けたり。

放電処理が施されていてもよい。

次に上記支持体上に積層される各層を支持体側より順次
説明する。

（１）マット層 マット層は、塗布膜厚０．１μから２０μが好ましく、
さらに好ましくは０．５μから５μであり、前記プラス
チックフィルムの片面あるいは両面に設けられる。この
片面あるいは両面にマット層が設けられたフィルムは、
いずれも、波長域が少なくとも３３０ｒ＋ｍか６６００
ｎｎ＋において全光線透過率が６０％以上あり、かつ中
心線平均あらさが０．ｌＯμ以上０．６０μ未満である
必要があり、上記波長域において全光線透過率が６０％
未満では、本発明の画像形成材料より２枚以上のマスク
フィルムを作成し、それらを重ねて第３の反転フィルム
に焼付ける時、非画像部の焼付光透過性が悪く、焼付時
間を必要以上にかけることになり、前記した写真製版工
程の集版作業において特に「白ぬき文字」適性の低下な
ど反転画像の鮮鋭度の低下をもたらす。

また、中心線平均あらさが０．１０μ未満では表面易滑
性及び真空吸引適性について実質的に透明フィルムと変
らず本発明の目的は達成されない。さらに、中心線平均
あらさが０．６０μ以上であると、表面易滑性及び真空
吸引適性が改善されるものの、反転画像の非画像部の地
力ブリの発生や反転画像の鮮鋭度の低下をもたらす。

マット層は、バインダーの有機溶剤溶液にマット剤を適
当な分散手段、たとえば、ボールミル、サンドグライン
ダー、アトライター、ロールミル、高速インペラー分散
機などを用いて分散液とし前記プラスチックフィルム上
に塗布乾燥して形成すればよい。

本発明の画像形成材料のマット層に用いることのできる
マット剤の例としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム
、二酸化ケイ素などの粒子径５μ以下の体質顔料微粉末
、及びベンゾグアナミン樹脂の粒子径３μ以丁の真球状
粒子１粒子径５μ以下のライススターチなどの無色高分
子粒子などを挙げることができる。また１本発明の画像
形成材料　　　　　　］のマット層に用いることのでき
るバインダーとしでは、フォトレジスト層現像液及びマ
スク層エツチング液に非可溶性あるいは難膨潤性である
ものが好ましい。すなわち、このような性質を有するバ
インダーは塩基性物質、酸性物質、中性塩、水に相溶可
能な低級アルコールに分類される物質群より選ばれる単
独あるいは２種以上の混合物質の水溶液に非可溶性ある
いは難膨潤性であり、かつ炭化水素系、ハロゲン化炭化
水素系、アルコール系、エーテル系、アセタール系、ケ
トン系、エステル系、多価アルコール及びその誘導体系
、脂肪酸系、フェノール系、窒素化合物系などの有機溶
剤、たとえば、ヘキサン、トルエン、キシレン。

四塩化炭素、トリクロロエタン、ブタノール、インプロ
パツール、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、
酢酸エチル、メチルセロソルブ、エーテルなどの単独あ
るいは２種以上の混合物により溶解可能な高分子化合物
であり、その例としては、ニトロセルロース、酢酪酸セ
ルロース、酸プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース
、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニリデ
ン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニ
トリル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、線状
飽和ポリエステル、変性エーテル型ポリエステルなどが
挙げられる。

これらは単独あるいは２種以上を混合して用いることが
できる。

上記の体質顔料あるいは無色高分子微粒子とフォトレジ
スト層現像液及びマスク層エツチング液に非可溶性ある
いは難膨潤性である高分子バインダーとからなるマット
層はケミカルマット層と称される。

（２）マスク層 マスク層は、塗布膜厚が通常０．５〜２０μ、好ましく
は１〜１０μであり、さらに好ましくは１反転作業にお
いて画線の細りが生ずる原因となるマスク層のサイドエ
ッチを防ぐためにできるだけ薄膜であることが必要で１
反転作業に必要な焼付画像濃度、たとえば、近紫外線濃
度及びオルソ濃度が少なくとも２．５以上あれば、２〜
５μである。マスク層は、木あるいは有機溶剤に可溶な
皮膜形成性バインダーの溶液に黒色顔料を適当な分散手
段。

たとえば、ボールミル、サンドグラインター、アトライ
ター、ロールミル、高速インペラー分散機などを用いて
分散液とし前記マットフィル１５上に塗布・乾燥して設
けるのが良い。

この分散液に使用されろ水あるいは有機溶剤は。

前記マット層を溶解したり、著しく膨潤させないことが
必要で、前記マント層のバインダー組成に応じて、炭化
水素系、ハロゲン化炭化水素系、アルコール系、エーテ
ル系、アセタール系、ケトン系、エステル系、多価アル
コール及びその誘導体系、脂肪酸系、フェノール系、窒
素化合物系などの有機溶剤より単独あるいは２種以上を
混合して適宜用いることができる。

このマスク層に用いることのできる黒色顔料の例として
は、カーボンブラック、カーボングラファイト、フタロ
シアニン系顔料、黒鉛粉、黒化銀粉。

ニッケル粉、酸化鉄粉、チタンブラックなどが挙げられ
、添加重最当りのカバーリングパワーが大きいカーボン
ブラックが特に好ましい。

マスク層における黒色顔料の含有量は後述する皮膜形成
性ポリマーに対して１０〜５００重量％、好ましくは６
０〜３００重量％であり、前記したように十分な焼付画
像濃度を得て、できるだけ薄膜にマスク層を形成するよ
うに、成膜性能が低ドしない範囲で黒色顔料をできるだ
け多く皮膜形成性ポリマーに含むことが望ましい。

このマスク層に用いることのできる皮膜形成性ポリマー
の例としては、フォトレジスト層現像液及びマスク層エ
ツチング液の組成により、フォトレジスト層現像液ある
いはマスク層エツチング液により溶解あるいは膨潤可能
である次の各群の高分子化合物より選択される高分子化
合物が挙げられ、これらは単独あるいは２種以上を混合
して用いられる。

（Ａ）・・・・水溶性樹脂　　　　　　　　　　　　　
　　　　　；ゼラチン、アルギン酸ソーダ、メチルセル
ロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメ
チルエーテル、ビニルメチルエーテル−無水マレイン酸
共重合体、ポリエチレンオキシド、ポリアクリル酸ソー
ダ、ポリアクリル、　酸エステル部分ケン化物、ポリア
クリルアミド。

アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体な
ど。

（Ｂ）・・・・アルカリ可溶性樹脂 アクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体、メタクリ
ル酸２−ヒドロキシエチル−アクリロニトリル−メタク
リル酸メチル−メタクリル酸共重合体、スチレン−無水
マレイン酸共重合体部分エステル化物、ポリビニル−Ｐ
−ヒドロキシベンザール、ノボラック型フェノール樹脂
など。

（Ｃ）・・・・酸可溶性樹脂 メタクリル酸ジメチルアミノエチル−メタクリル酸メチ
ル共重合体など。

（３）　フォトレジスト層 フォトレジスト層は、感光性の皮膜形成物質よすなり、
紫外線光、可視光などの露光により、塩基性物質、酸性
物質、中性塩、水に相溶可能な低級アルコールより選択
される単独あるいは２種以上の混合物の水溶液よりなる
現像液に対して溶解性、膨潤性などが変化し、露光部分
のみがマスク層上に残留することができ、残留部分が、
上記と同じ物質群より選択される単独あるいは２種以上
の混合物の水溶液よりなるエツチング液に対して不溶で
ある性質を有すれば、後述する従来公知の種々のフォト
レジストを使用することができる。

フォトレジスト層の好ましい膜厚は０，５〜１０μであ
り、さらに好ましくは、写真製版工程で普及している反
転プリンターで能率よく反転焼付可能な感度（５００ｍ
Ｊ／　ｒ：ｒｌ以下、好ましくは１００ｍＪ／ｃ＋ｄ以
下）と現像・エツチング処理におけるレジスト性能を得
るように１〜５μである。

フォトレジスト層は、後述する従来公知の各種のフォト
レジストを、マスク層を溶解したり、著しく膨潤しない
水あるいは有機溶剤を用いて塗布液とし、前記マスク層
上に塗布・乾燥して設けられる。

また、フォトレジスト層塗布液にマット層に用いたマッ
ト剤を添加することができ、さらに必要によっては、フ
ォトレジスト層にマット剤を含むオーバーコート層をさ
らに積層することもできる。

以下に本発明において好ましく用いられるフォトレジス
トを列挙する。

（Ａ）ジアゾ樹脂と水溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹
脂とを組合せたフォトレジスト ジアゾ樹脂と水溶性樹脂またはアルカリ可溶性樹脂を組
み合せたフォトレジストとしては、Ｐ−ジアゾジフェニ
ルアミンパラホルムアルデヒド縮合物に代表されるジア
ゾ樹脂とゼラチン、ポリビニルアルコール キシエチルセルロース、ビニルメチルエーテル−無水マ
レイン酸共重合体，アクリルアミド−ジアセトンアクリ
ルアミド共重合体などの水溶性樹脂を組合せたフォトレ
ジストあるいは上記ジアゾ樹脂を有機溶剤可溶型にした
ものにメタクリル酸２−ヒドロキシエチル−アクリロニ
トリル−メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体な
どのアルカリ可溶性樹脂とを組合せたフォトレジストか
あげられる。

ＣＢ）アジド基を感光基とするフォトレジストアジド基
を感光基とするフォトレジストは、ポリアジド安息香酸
ビニル、ポリアジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレ
ン、ポリビニルアジドベンザルアセタール、ポリビニル
アジドナフチルアセタール、アジドベンツアルデヒド−
フェノール樹脂、アジドジフェニルアミンホルマリン縮
合−重。

合体などをあげられる。

さらに、アジド感光剤とポリマーを混合して得られるア
オトレジスト，たとえば．４．４’−ジアジドスチルベ
ン−２．２′−ジスルホン酸アニリド、４−アジド−１
−フェニルアミノベンゼン−２−スルホン酸アニリド、
あるいは４−４’−’２　７　′Ｆ　ｈ　Ｊｂ″１　′
’ｔ　ｈ　＆　／　ｆ　ｉ　ｙ　’）’Ｍ　７”／−Ｊ
ＬＩ　　　　　。

樹脂を混合してなるフォトレジスト、特開昭５９−３７
５４０公報実施例１及び同実施例３に記載の４，４′−
ジアジドカルコンあるいは２、６ージ（４′−アジドベ
ンザル）−シクロヘキサノンとポリビニルブチラール樹
脂を混合してなるフォトレジストがあけられる。

（Ｃ）アクリロイル基を感光基とするフォトレジスト アクリロイル基を有する千ツマ−を１０〜４０重量％、
光重合開始剤を１〜２０重量％，現像液に溶解あるいは
膨潤可能な皮膜形成性ポリマーを１０〜８０重量％，お
よび増感剤，熱重合防止剤などの他の添加剤を１０重量
％以下含有し，これらが相溶されてなるフォトレジスト
があげられる。

上記アクリロイル基を有するモノマーは，付加重合可能
な不飽和上ツマ−であり，具体的には。

多官能アクリレート、たとえば、１，６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコール２００ジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エス
テルネオペンチルグリコールジアクリレート、ビス（ア
クリロキシエトキシ）ビスフェノールＡ，ビス（アクリ
ロキシポリエトキシ）ビスフェノールＡ、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリ
レートなどが望ましく、他に。

フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、メトキシエチノσアクリレ
ート、Ｎ．Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、２−メトキシエトキシエチルアクリ
レート、２−エトキシエトキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート、テト
ラヒドロフルフリ−ルアクリレートなどの単官能アクリ
レートを前記の多官能アクリレートと併用することもで
きる。

全重合開始剤には，アセトフェノン、Ｐ−ジメチルアセ
トフェノン、ベンゾフェノン、１）、Ｐ−ジクロロベン
ゾフェノン、ミヒラーケトン（４−４′−ビスジメチル
アミノベンゾフェノン）、べンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピ
ルエーテル。

ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインｎ−ブチル
エーテル、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオ
キサンソン、アゾビスイソブチルニ、　トリル、ベンゾ
インパーオキサイド、２．４，５−トリフェニルイミダ
ゾール２量体などが使用できる。

現像液に溶解あるいは膨潤可能な皮膜形成性ポリマーは
、現像液が水単独よりなる場合、ポリビニルアルコール
、ポリアクリル酸、アクリルアミド−ジアセトンアクリ
ルアミド共重合体などが使用でき、現像液がアルカリ性
水溶液よりなる場合は、アクリル酸−メタクリル酸エス
テル共重合体。

スチレン−無水マレイン酸共重合体部分エステル化物、
ノボラック型フェノール樹脂などが使用できる。また、
現像液が、酸性水溶液よりなる場合は、メタクリル酸ジ
メチルアミノエチル−メタクリル酸メチル共重合体など
が使用できる。増感剤としてミヒラーケトン、チアジン
色素などを、そして熱重合防止剤としてヒドロキノンな
どを使用することができる。さらに望ましくは、必要に
応じ上記の組成物に主鎖、鎖末端、側鎖に光重合性の不
飽和基を有するポリマーまたはオリゴマーを相溶して使
用することができる。

（実施例） 以下本発明を実施例により具体的に説明するが。

本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ マット層組成 線状飽和ポリエステル樹脂　　　　　　　１０重量部（
東洋紡績製バイロン２００） 二酸化ケイ素微粉末　　　　　　　　　　１重量部（富
士デヒイソン化学製サイロイド９７８）トルエン　　　
　　　　　　　　　　　　３３重量部″″″”ｆ）Ｌｌ
’ｊ″ｈ　”’＊＊＠　　　　　ｉ酢酸エチル　　　　
　　　　　　　　　　３３重量部上記組成物をボールミ
ルで６時間分散し、マット層塗布液とした。この塗布液
を、厚さ１００μのポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片面にワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃の温風
で１分間乾燥し、塗布膜厚が約１．５μの片面マットフ
ィルムを得た。この片面マットフィルムの全光線透過率
は、　３３０ｎ＋ｓにおいて６２％、　４００ｒｕｓに
おいて８１％。

５００ｎｍにおいて８５％、６００ｒｕ＋＋において８
６％であった。

また、この片面マットフィルムのマット層の中心線平均
あらさば＋　０．４１μであった。

次いで、下記組成物をボールミルで７２時間分散し、マ
スク層塗布液とした。この塗布液を上記マット層の上に
ワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃の温風で１分３０
秒間乾燥し、塗布膜厚が約１．５μのマスク層をマット
層上に形成させた。

マスク層組成 メタクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体　　　５
重量部（メタルグリル酸メチル３０モル％、メタクリル
酸２−ヒドロキシエチル４０モル％、メタクリロニトリ
ル２７モル％、メタクリル酸３モル％、からなる共重合
体）カーボンブラック　　　　　　　　　　　　５重量
部（三菱化成工業製ＭＡ−１００） メチルセロソルブ　　　　　　　　　　　　９０重量部
シリコーン系界面活性剤　　　　　　　　０．２重量部
（ダウ−ｍｌ−ニング社製ＦＳ−ＸＢ−２７２５）さら
に、下記組成物よりなるフォトレジスト層塗布液を上記
マスク層の上にワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃の
温風で１分間乾燥し、塗布膜厚が約１μのフォトレジス
ト層をマスク層上に形成させた。

′フォトレジスト層組成 ブチラール樹脂　　　　　　　　　　　　　　５重量部
（積水化学工業製、エスレックＢＬ−３）４．４′−ジ
アジドカルコン　　　　　　　０．５重量部トルエン　
　　　　　　　　　　　　　　　３８重量部メチルエチ
ルケトン　　　　　　　　　　　４５重量部酢酸ブチル
　　　　　　　　　　　　　　　２２重量部以上により
本発明の画像形成材料を得た。

実施例２ マット層組成 線状飽和ポリエステル樹脂　　　　　　　　１０重量部
（東洋紡績製バイロン２００） ベンゾグアナミン樹脂微粒子　　　　　　　１重量部（
日本触媒化学工業ＩＩＦＰ１００Ｂ）トルエン　　　　
　　　　　　　　　　　　３３重量部メチルエチルケト
ン　　　　　　　　　　　３３重量部酢酸エチル　　　
　　　　　　　　　　　　３３重量部上記組成物をボー
ルミルで、４８時間分散し。

マット層塗布液とした。この塗布液を用いて実施例１と
同様にして塗布膜厚が約１．５　ｐの片面マットフィル
ムを得た。この片面マットフィルムの全光線透過率は、
　３３Ｏｎｍにおいて６１％、　４００ｎｏ＋において
８０％、５００ｒｖにおいて８５％−６０Ｏｎ−におい
て８６％であ゛った。また、この片面マットフィルムの
マット層の中心線平均あらさは０．２５μであった。

次いで、実施例１と同じマスク層を★施例１と同様にし
てマット層上に形成させた。さらに、下記組成物よりな
るフォトレジスト層塗布液を実施例１と同様にして、塗
布膜厚が約１．５μのフォトレジスト層をマスク層上に
形成させた。

フォトレジスト層組成 アクリル酸・メタクリル酸エステル共重合体溶液　　２
０重量部（方路化学工業製、Ｎに−３） トリメチロールプロパントリアクリレート　　６重量部
ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　　　０．８重量
部ミヒラーケトン　　　　　　　　　　　　　０．４重
量部ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　　０．０
２重量部トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　７
５重量部酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　
５０重量部そして、下記組成物よりなるオーバコート層
を塗布膜厚約０．５μでフォトレジスト層上に形成させ
た。

ポリビニルアルコール　　　　　　　　７　３重電部（
日本合成化学工業製、ゴーセノールＮＨ−２０）蒸留水
　　　　　　　　　　　　　　　　　９０重量部イソプ
ロピルアルコール　　　　　　　　　　６重量部シリコ
ーン系界面活性剤　　　　　　　　０．０５重量部（ダ
ウコーニング社製、ＰＳ−ＸＢ−２７２５）以上により
本発明の画像形成材料を得た。

実施例３ マット層組成 塩化ビニリデン・塩化ビニル共重合体溶液　２５重量部
（呉羽化学工業製りレハロンＳＯ＾） 二酸化ケイ素微粉末　　　　　　　　　　　　１重量部
　　　　　　　１（富士デヒイソン化学製サイロイド９
７８）酢酸エチル　　　　　　　　　　　　　　　５１
重量部トルエン　　　　　　　　　　　　　　　　　３
３重量部上記組成物をボールミルで、６時間分散し、マ
ット層塗布液とした。この塗布液を用いて実施例１と同
様にして塗布膜厚が約１．５μの片面マットフィルムを
得た。この片面マットフィルムの全光線透過率は、３３
Ｏｎｍにおいて６２％、　４０Ｏｎｍにおいて８０％、
５０Ｏｎｍにおいて８５％、　６０Ｏｎｍにおいて８６
％であった。

また、この片面マットフィルムのマット層の中心線平均
あらさば０．４３μであった。

次いで、下記組成物をボールミルで７２時間分散し、マ
スク層塗布液とした。この塗布液を実施例１と同様にし
てマット層上に塗布乾燥してマスク層を形成させた。

マスク層組成 アクリル酸−メタクリル酸エステル共重合体溶液　　２
０重置部（方路化学工業製、　５Ｒ−１０２） カーボンブラック　　　　　　　　　　　　　５重量部
（三菱化成工業製、Ｈ＾−１００） 蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　７５重量部
シリコーン系界面活性剤　　　　　　　　　０．２重量
部（ダウ・コーニング社製、　ＦＳ−ＸＢ−２７２５）
さらに、実施例２と同じフォトレジスト層及びオーバー
コート層を実施例と同様にしてマスク層上に形成させた
６以上により本発明の画像形成材料を得た。

比較例 実施例１〜３で用いたと同じ厚さ１００μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いて、実施例３において
マット層を設けることを除いて、他ば実施例３と同様に
して比較例の画像形成材料を得た。なおこの１００μの
ポリエチレンテレフタレートフィルムの全光線透過率は
、　３３０ｎ■において６５％、４００ｎ＋＊において
８４％、５０Ｏｎｍにおいて８７％、６００ｎ■におい
て８８％であった。また、このフィルムの中心線平均あ
らさば０．０４μであった。

実施例１〜３及び比較例で得た画像形成材料の写真製版
工程における反転焼付見当精度を次の方法により比較し
た。

０、Ｉｎ＋ｍの細線で５ｃｍ間隔の方眼を描いた。縦６
１ｃｌＩ、横８２ｃｍのスクライブベースフィルムを原
稿にして、実施例１〜３及び比較例で得た画像形成材料
を明室型真空吸引密着反転プリンター（きもと１１ＫＶ
Ｐ−Ｇｌ［［）で露光量１００ｉｅＪ／ｃｊにてレジス
ターピンを用いて反転焼付し、下記の現像処理方法にて
反転ポジフィルムを得た。

現像処理方法 実施例１ アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム８％水溶液（
花王石鹸製ペレックスＮＢＬ４倍水希釈液ンを３０℃に
加温して現像液とした。この現像液に２分間節ｌ！浸漬
し、後水道水流水で水洗しながら、脱脂綿でこすりＩＩ
ｔｆｌｉシ、水滴をぬぐった後４０℃の温風で３０分間
乾燥した。

実施例２，３、及び比較例 無水炭酸ナトリウム０．０１％水溶液を３０℃に加温し
て現像液とした。この現像液に３０秒間静電浸漬し、後
実施例１と同様に水洗こすり現像及び乾燥を行った。

次に、得られた各反転ポジフィルムを原稿にして、各々
の原稿と同一の画像形成材料に上記と同様にして反転焼
付、現像処理を行い再反転焼付によるネガフィルムを得
た。

以上にして得た実施例１〜３及び比較例について同一の
画像形成材料によるポジフィルムとネガフィルムの方眼
寸法をガラススケールを用いて測定し、ポジフィルムの
５ｃｍ方眼の個々について各々が反転焼付された５ｃ■
方眼が０　、０５ｍ■以上の伸縮があった場合不良方眼
とした。１９２個の方眼中。

不良方眼が３０個未満の場合、見当精度良好とし、９０
個以上の場合、見当精度不良とした。

結果は、実施例１及び３で得た画像形成材料は見当精度
良好であり、比較例で得た画像形成材料は見当精度不良
であった６また。実施例２で得た画像形成材料は見当精
度について良好・不良の境界域を示した。

（発明の効果） 以上詳述したように本発明によれば写真製版工程におけ
る集版作業で［のせ文字Ｊ　［太らせ文字」「写真の切
り抜き合成」　「毛抜き合せ」等の技法に使用され得る
反転見当精度の高い非銀塩感光材　　　　　）料レリー
フ型密着反転リスフィルムが提供された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持体の片面または両面にマット層を設け、波長域
   が少なくとも３３０ｎｍから６００ｎｍにおいて、全光
   線透過率が６０％以上あり、かつ中心線平均あらさが０
   ．１０μ以上０．６０μ未満であるマットフィルム支持
   体のマット層上にマスク層を設け、さらにその上にフォ
   トレジスト層を積層してなることを特徴とする非銀塩両
   像形成材料。 ２、マットフィルムが、体質顔料あるいは無色高分子微
   粒子と、フォトレジスト層現像液およびマスク層エッチ
   ング液に非可溶性あるいは難膨潤性である高分子バイン
   ダーとからなるケミカルマット層を透明フィルム支持体
   の片面あるいは両面に設けたものである特許請求の範囲
   第１項記載の非銀塩画像形成材料。 ３、マスク層が、フォトレジスト層現像液あるいはマス
   ク層エッチング液に可溶性あるいは膨潤性である高分子
   バインダー中に分散された黒色顔料層よりなる特許請求
   の範囲第１項記載の非銀塩画像形成材料。 ４、黒色顔料がカーボンブラックを主成分とする特許請
   求の範囲第３項記載の非銀塩画像形成材料。