JPS61132852A - 洗浄度の測定方法 - Google Patents
洗浄度の測定方法Info
- Publication number
- JPS61132852A JPS61132852A JP25471784A JP25471784A JPS61132852A JP S61132852 A JPS61132852 A JP S61132852A JP 25471784 A JP25471784 A JP 25471784A JP 25471784 A JP25471784 A JP 25471784A JP S61132852 A JPS61132852 A JP S61132852A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- degree
- resistance sensor
- cleaning tank
- resistance
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液体鑑；よる洗浄度、さら：二詳しく言えば純
水礪；よる酸、アルカリ、塩類の洗浄度を測定する測定
方法に係る。
水礪；よる酸、アルカリ、塩類の洗浄度を測定する測定
方法に係る。
洗浄する対称物として工Ｃウェハをあげることができる
。
。
ＩＣ１１ｓＨ造する工程において、酸またはアルカリ溶
液Ｃ二よる化学処理の後純水による洗浄が行われる。そ
の洗浄度は純水の比抵抗を測定して判定される。
液Ｃ二よる化学処理の後純水による洗浄が行われる。そ
の洗浄度は純水の比抵抗を測定して判定される。
従来の洗浄度の測定（；は次の二つの方法がある０
（１）洗浄槽の中１＝抵抗センサを浸漬して測定する０
（２）洗浄後の水が流れる配管中砿；抵抗七ンサをとシ
つけて測定する０ 洗浄槽では純水がオーバー７ ａ −Ｌ窒素でかくはん
しながら工Ｃウニへの洗浄が行われるので従来の第１の
測定方法では窒素が抵抗センサ中ニー巻き込まれるので
測定が不安定になるという欠陥がある。また、抵抗セン
サは電極が金属で構成されているので、洗浄槽および工
０ウニノーを該金属で汚染すると匹う欠陥がある。
つけて測定する０ 洗浄槽では純水がオーバー７ ａ −Ｌ窒素でかくはん
しながら工Ｃウニへの洗浄が行われるので従来の第１の
測定方法では窒素が抵抗センサ中ニー巻き込まれるので
測定が不安定になるという欠陥がある。また、抵抗セン
サは電極が金属で構成されているので、洗浄槽および工
０ウニノーを該金属で汚染すると匹う欠陥がある。
これらの欠陥を除去するため排水の配管中に抵抗センサ
をとりつける第２の方法があるが。
をとりつける第２の方法があるが。
洗浄槽からセンサまでの経路が長くな妙、洗浄槽内の純
水の抵抗値変化に対し測定値（；遅れが発生するという
欠陥がある。また、流水中１：空気中の炭酸ガスを吸着
したり、配管壁からの汚染物Ｃ二より抵抗値が下がり正
しい洗浄度を測定できないという欠陥がある。
水の抵抗値変化に対し測定値（；遅れが発生するという
欠陥がある。また、流水中１：空気中の炭酸ガスを吸着
したり、配管壁からの汚染物Ｃ二より抵抗値が下がり正
しい洗浄度を測定できないという欠陥がある。
本発明は上記欠陥を除去した新規な発明であって、その
目的は （１）工Ｃウェハ、洗浄槽を汚染することのない洗浄度
の測定方法を提供すること。
目的は （１）工Ｃウェハ、洗浄槽を汚染することのない洗浄度
の測定方法を提供すること。
（２）窒素など気泡（；よる影響のない安定した抵抗測
定が可能な測定方法を提供すること０ （３）洗浄水の抵抗値を正しく測定することの出来る測
定方法を提供するとと０ （４）洗浄水の抵抗値変化１；対し遅れがない抵抗測定
が可能な測定方法を提供すること。
定が可能な測定方法を提供すること０ （３）洗浄水の抵抗値を正しく測定することの出来る測
定方法を提供するとと０ （４）洗浄水の抵抗値変化１；対し遅れがない抵抗測定
が可能な測定方法を提供すること。
であり、その目的は ′卦抵抗セン
サｔ−鋒台洗浄槽の外壁（；懸垂してオーバーフローし
た液体を受けて洗浄度を測定することＣ二よって達成さ
れる。
サｔ−鋒台洗浄槽の外壁（；懸垂してオーバーフローし
た液体を受けて洗浄度を測定することＣ二よって達成さ
れる。
以下１本発明を図ｔ１により詳細に説明する。
第１図は本発明ζ二なる洗浄度の測定方法を示す図であ
る。
る。
洗浄槽１の下部入力口２から入力された洗浄水３は側壁
上端からオーバー７０−する。オーバーフローした洗浄
水の一部は抵抗センサ４に導入されて抵抗値を測定し、
制御装置５で演算され抵抗値が算出される◇抵抗センサ
４は洗浄槽１の外壁に懸垂するので抵抗センサ４により
洗浄槽や工０ウェハが汚染されることはない。
上端からオーバー７０−する。オーバーフローした洗浄
水の一部は抵抗センサ４に導入されて抵抗値を測定し、
制御装置５で演算され抵抗値が算出される◇抵抗センサ
４は洗浄槽１の外壁に懸垂するので抵抗センサ４により
洗浄槽や工０ウェハが汚染されることはない。
また、洗浄水がオーバー７０−した直後に抵抗測定を行
うので洗浄水の抵抗値を早く、忠実ζ二測定することが
できる。
うので洗浄水の抵抗値を早く、忠実ζ二測定することが
できる。
さらＣ二また。洗浄水３が窒素でかくはんされても、抵
抗センサ４が洗浄槽１の外部Ｃ二あるので安定した抵抗
測定が可能である。
抗センサ４が洗浄槽１の外部Ｃ二あるので安定した抵抗
測定が可能である。
Ｋ２図は本発明になる抵抗センサの斜視図。
第３図はその縦断面図である。
アーム６ａ、６ｂｔ−洗浄槽１の外壁Ｃ：引っかけて懸
垂する。
垂する。
上方シ；開いた扇状の導入部１０によりオーパーツロー
した水を広範囲：：導入し、電極人ロアがら流入した水
は周辺電極１１と中心電極１２の間を流れ周辺電極１１
：：あけた流出孔１３ａ、１３ｂを通って、排出口９ａ
、ｇｂおよび小孔１４から外部へ排出される。
した水を広範囲：：導入し、電極人ロアがら流入した水
は周辺電極１１と中心電極１２の間を流れ周辺電極１１
：：あけた流出孔１３ａ、１３ｂを通って、排出口９ａ
、ｇｂおよび小孔１４から外部へ排出される。
排出口９ａ、９ｂは中心電極１２の頂部１５より高い位
ｔｉｉｉＣ二あり、小孔１４は流出孔１３ａ、１３ｂよ
）低込位ｆｔ二あるが排出口９ａ、９ｂＣ比較して非常
；二小さいので９周辺電極１１と中心電糎１２は常に十
分な水で満され、空気が巻き込まれることなく安定した
抵抗測定が可能になる。
ｔｉｉｉＣ二あり、小孔１４は流出孔１３ａ、１３ｂよ
）低込位ｆｔ二あるが排出口９ａ、９ｂＣ比較して非常
；二小さいので９周辺電極１１と中心電糎１２は常に十
分な水で満され、空気が巻き込まれることなく安定した
抵抗測定が可能になる。
ま、た、オーバーフローを停止した場合は小孔１４から
水が全部排出されるため、たまり水がなく常に新しめ水
を受は入れることができる。
水が全部排出されるため、たまり水がなく常に新しめ水
を受は入れることができる。
抵抗測定は周辺電極１１と中心電極１２との間（＝電圧
を印加し、その間に流れる電流を計測して液体の比抵抗
を算出する０ 周辺電極１１と中心電極１２はケーブル
８を通して制御装置１５と接続する。
を印加し、その間に流れる電流を計測して液体の比抵抗
を算出する０ 周辺電極１１と中心電極１２はケーブル
８を通して制御装置１５と接続する。
以上説明し友ように１本発明によれば液体の抵抗センサ
と制御装置と洗浄槽とからなる洗浄システム６二おいて
、＃抵抗センサを前記洗浄槽の外壁（：懸垂してオーバ
ーフローし友液体を受けて洗浄度を測定することによっ
て、洗浄物体を汚染することなく、洗浄水の抵抗を忠実
に。
と制御装置と洗浄槽とからなる洗浄システム６二おいて
、＃抵抗センサを前記洗浄槽の外壁（：懸垂してオーバ
ーフローし友液体を受けて洗浄度を測定することによっ
て、洗浄物体を汚染することなく、洗浄水の抵抗を忠実
に。
しかも安定に測定する測定方法を実現することができる
。
。
第１図は本発明（：なる洗浄度の測定方法を示す図、第
２図は本発明になる抵抗センサの斜視図、第３図はその
縦断面図である。 １は洗浄槽、２は下部入力０．３は洗浄水。 ４は抵抗センサ、５は制御装置、６ａ、６ｂはアーム、
７は電極入口、９ａ、９ｂは排出口、 １０は導入部
、１１は周辺電極、１２は中心電極。 １３１Ｌ、 １３１）は流出孔、１４は小孔、１５は頂
部である。 特許出願人 シグマ技術工業株式会社頽者神１
）薫 Ｌ １１を田 第２口 第３図
２図は本発明になる抵抗センサの斜視図、第３図はその
縦断面図である。 １は洗浄槽、２は下部入力０．３は洗浄水。 ４は抵抗センサ、５は制御装置、６ａ、６ｂはアーム、
７は電極入口、９ａ、９ｂは排出口、 １０は導入部
、１１は周辺電極、１２は中心電極。 １３１Ｌ、 １３１）は流出孔、１４は小孔、１５は頂
部である。 特許出願人 シグマ技術工業株式会社頽者神１
）薫 Ｌ １１を田 第２口 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液体の抵抗センサと制御装置と洗浄槽とからなる洗
浄システムにおいて、該抵抗センサを前記洗浄槽の外壁
に懸垂してオーバーフローした液体を受けて洗浄度を測
定することを特徴とした洗浄度の測定方法。 ２、抵抗センサが液体の導入部を備えたハウジングと排
出口を備えた円筒状電極である前記特許請求の範囲１の
洗浄度の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471784A JPS61132852A (ja) | 1984-12-02 | 1984-12-02 | 洗浄度の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471784A JPS61132852A (ja) | 1984-12-02 | 1984-12-02 | 洗浄度の測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61132852A true JPS61132852A (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=17268865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25471784A Pending JPS61132852A (ja) | 1984-12-02 | 1984-12-02 | 洗浄度の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61132852A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57156550A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-27 | Toshiba Corp | Measuring apparatus of specific resistance for wafer cleaning apparatus |
-
1984
- 1984-12-02 JP JP25471784A patent/JPS61132852A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57156550A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-27 | Toshiba Corp | Measuring apparatus of specific resistance for wafer cleaning apparatus |
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