JPS61124542A - 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 - Google Patents
真空バルブ用接点材料およびその製造方法Info
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- JPS61124542A JPS61124542A JP24651484A JP24651484A JPS61124542A JP S61124542 A JPS61124542 A JP S61124542A JP 24651484 A JP24651484 A JP 24651484A JP 24651484 A JP24651484 A JP 24651484A JP S61124542 A JPS61124542 A JP S61124542A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は例えば真空開閉装置の真空バルブに使用される
電気接点材料およびその製造方法に関する。
電気接点材料およびその製造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点]
周知のように、真空バルブは、小形、軽耐、メンテナン
スフリー、環境調和等地の遮断器に比較して種々優れた
特徴を有するため、近年次第にその適用範囲が拡大して
きた。このような真空バルブの接点に要求される基本的
要件としては、(1)溶着性が少ないこと、(2)耐電
圧が高いこと、(3)シゃ断特性がよいこと、が挙げら
れ、この他にさい断電流値が小さいこと、接触抵抗が低
く安定していること、耐消耗性がよいこと等も重要な要
件となっている。
スフリー、環境調和等地の遮断器に比較して種々優れた
特徴を有するため、近年次第にその適用範囲が拡大して
きた。このような真空バルブの接点に要求される基本的
要件としては、(1)溶着性が少ないこと、(2)耐電
圧が高いこと、(3)シゃ断特性がよいこと、が挙げら
れ、この他にさい断電流値が小さいこと、接触抵抗が低
く安定していること、耐消耗性がよいこと等も重要な要
件となっている。
しかしながら、これらの要件の中には相反するものがあ
る関係上、単一の金属種によって全ての要件を満足させ
ることは不可能である。このため、実用されている多く
の接点材料においては、不足する性能を相互に補なえる
ような2種以上の元素を組合せ、かつ大電流用あるいは
高電圧用等のように特定の用途に適した接点材料の開発
が行なわれ、それなりに優れた特性を有するものが開発
されているが、さらに強まる高耐圧化および大電流化の
要求を充分満足する真空バルブ用接点材料は、未だ得ら
れていないのが実情である。
る関係上、単一の金属種によって全ての要件を満足させ
ることは不可能である。このため、実用されている多く
の接点材料においては、不足する性能を相互に補なえる
ような2種以上の元素を組合せ、かつ大電流用あるいは
高電圧用等のように特定の用途に適した接点材料の開発
が行なわれ、それなりに優れた特性を有するものが開発
されているが、さらに強まる高耐圧化および大電流化の
要求を充分満足する真空バルブ用接点材料は、未だ得ら
れていないのが実情である。
例えば、大電流化を指向した接点材料として、Bi
(ビスマス)のような溶着防止成分を5%以下の量で含
有するCu (銅)−Bi (ビスマス)合金が知
られている(特公昭41−12131@公報)が、Cu
(銅)母相に対するB1の溶解度が極めて低いため
、しばしば偏析を生じ、しゃ新漬の表面荒れが大きく、
加工成形が困難である等の問題点を有している。また、
大電流化を指向した他の接点材料として、Cu (銅
)−Te(テルル)合金も知られている(特公昭44−
23751号公報)。
(ビスマス)のような溶着防止成分を5%以下の量で含
有するCu (銅)−Bi (ビスマス)合金が知
られている(特公昭41−12131@公報)が、Cu
(銅)母相に対するB1の溶解度が極めて低いため
、しばしば偏析を生じ、しゃ新漬の表面荒れが大きく、
加工成形が困難である等の問題点を有している。また、
大電流化を指向した他の接点材料として、Cu (銅
)−Te(テルル)合金も知られている(特公昭44−
23751号公報)。
この合金は、CLI−3i系合金が持つ上記問題点を緩
和してはいるが、Qu−3i系合金に比較して雰囲気に
対し、より敏感なため接触抵抗等の安定性に欠ける。ざ
らに、これらQu−Te。
和してはいるが、Qu−3i系合金に比較して雰囲気に
対し、より敏感なため接触抵抗等の安定性に欠ける。ざ
らに、これらQu−Te。
Cu−B1等の接点の共通的特徴として、耐溶着性に優
れているものの、耐電圧特性が従来の中電圧クラスへの
適用には充分であるとしても、これ以上高い電圧分野へ
の応用に対しては、必ずしも満足でないことが明らかと
なってきた。
れているものの、耐電圧特性が従来の中電圧クラスへの
適用には充分であるとしても、これ以上高い電圧分野へ
の応用に対しては、必ずしも満足でないことが明らかと
なってきた。
一方、高耐圧化を指向した接点材料としてCu(又はA
(1(1り)等の高導電成分と、Cr (クロム)、
Ti(チタン)などとの焼結合金が知られている。これ
らの焼結合金は、強いゲッタ作用を持つ以外に蒸気圧特
性がCrの場合Cuに近似し、Tiにおいても他の接点
材料として用いられているW(タングステン)、MO(
モリブデン)よりはCuに近いため、Cu−Cr 、
Cu −Ti、AIJ−Cr、およびAv−Ti (
以下、本発明の説明上高導電性成分としてQuが、また
CrとTiとについてCrが代表する)接点のしゃ断機
の接点表面は、W、MO系接点より平滑さを維持する結
果、耐電圧特性などに良い傾向を示すことが知られてい
る。
(1(1り)等の高導電成分と、Cr (クロム)、
Ti(チタン)などとの焼結合金が知られている。これ
らの焼結合金は、強いゲッタ作用を持つ以外に蒸気圧特
性がCrの場合Cuに近似し、Tiにおいても他の接点
材料として用いられているW(タングステン)、MO(
モリブデン)よりはCuに近いため、Cu−Cr 、
Cu −Ti、AIJ−Cr、およびAv−Ti (
以下、本発明の説明上高導電性成分としてQuが、また
CrとTiとについてCrが代表する)接点のしゃ断機
の接点表面は、W、MO系接点より平滑さを維持する結
果、耐電圧特性などに良い傾向を示すことが知られてい
る。
しかしながら、Crは極めて酸化しやすい金属であるた
め、粉末あるいは成形体の管理または熱処理の条件が重
要になり、また、Cuなどの高導電性成分層(すなわち
、OrとCuとの比率)もしゃ断特性などに与える影響
が大きい。したがって、従来の製造方法には、次のよう
な問題点がある。
め、粉末あるいは成形体の管理または熱処理の条件が重
要になり、また、Cuなどの高導電性成分層(すなわち
、OrとCuとの比率)もしゃ断特性などに与える影響
が大きい。したがって、従来の製造方法には、次のよう
な問題点がある。
(1):例えばCu−Crを製造する場合Crとしては
、特開昭56−19832号公報、特開昭53−146
905号公報などに示されているように所定の粒径を持
った粉体が使われている。一方Cr鉱石から金属Crに
する主な方法としてアルミ/サージツク法、電解法とが
行われているが、得られた金属Crを粉体にするには、
従来スタンプミル、ボールミルなどを主とした粉砕作業
によるのが一般的である。この粉砕作業は通常長い時間
を要するため、Cr粉体表面には、汚染皮膜(Cr 2
03を主体とした安定な酸化物)の生成、ガス吸着など
が著しい。このような状態のCr粉体をCu−Cr接点
の原料として使用するとき、溶浸Cuとは、充分な濡れ
が得られず、接点中に生ずるボアの一因となる。その原
因はCr粉体の前述のような汚染皮膜の多くはCu−C
r接点製造中の例えば前加熱処理、焼結、溶浸などの熱
処理では、完全には除去できない為である。このような
ボアが接点中に残存するとしゃ断性能の低下につながる
。
、特開昭56−19832号公報、特開昭53−146
905号公報などに示されているように所定の粒径を持
った粉体が使われている。一方Cr鉱石から金属Crに
する主な方法としてアルミ/サージツク法、電解法とが
行われているが、得られた金属Crを粉体にするには、
従来スタンプミル、ボールミルなどを主とした粉砕作業
によるのが一般的である。この粉砕作業は通常長い時間
を要するため、Cr粉体表面には、汚染皮膜(Cr 2
03を主体とした安定な酸化物)の生成、ガス吸着など
が著しい。このような状態のCr粉体をCu−Cr接点
の原料として使用するとき、溶浸Cuとは、充分な濡れ
が得られず、接点中に生ずるボアの一因となる。その原
因はCr粉体の前述のような汚染皮膜の多くはCu−C
r接点製造中の例えば前加熱処理、焼結、溶浸などの熱
処理では、完全には除去できない為である。このような
ボアが接点中に残存するとしゃ断性能の低下につながる
。
以上述べたように粉末化の工程に於て目的径にするまで
に何回もの、或いは長時間の粉砕作業を要するためCr
は汚染を受は安定した管理と、作業の改善が望まれてい
る。
に何回もの、或いは長時間の粉砕作業を要するためCr
は汚染を受は安定した管理と、作業の改善が望まれてい
る。
(a;上記のような粉砕作業によって得たCr粉体は一
般に、長軸と短軸の差の少ないすなわち球形に近い粒状
を呈している。そのために接点中のCr粒子はCu−C
r接点表面加工中或いは開閉時の機械的衝撃中に脱落す
る現象がある。この理由はミクロ的観察によるとCr粒
子自体が脆いこと或いはCuとCrとの界面に介在する
汚染皮膜による濡れ不足或いはCr粉末がほぼ粒状に近
いためCuとCrとの接触面積の不足等による原因によ
ってCr粒子の脱落成いは欠けが起るものと考えられる
。Cr粒子の脱落成いは欠けが生ずると耐電圧特性の低
下を招くことがあるので、Cr粒子の脱落防止が望まれ
ている。
般に、長軸と短軸の差の少ないすなわち球形に近い粒状
を呈している。そのために接点中のCr粒子はCu−C
r接点表面加工中或いは開閉時の機械的衝撃中に脱落す
る現象がある。この理由はミクロ的観察によるとCr粒
子自体が脆いこと或いはCuとCrとの界面に介在する
汚染皮膜による濡れ不足或いはCr粉末がほぼ粒状に近
いためCuとCrとの接触面積の不足等による原因によ
ってCr粒子の脱落成いは欠けが起るものと考えられる
。Cr粒子の脱落成いは欠けが生ずると耐電圧特性の低
下を招くことがあるので、Cr粒子の脱落防止が望まれ
ている。
上記CU−Orの接点表面加工時の脱落による表面荒れ
は、初期耐圧、特に静耐圧の低下に影響を及ぼし、又開
閉時の機械的衝撃中に生ずる脱落は離脱したCr粒子の
ぬけ跡による表面荒れのみならず、離脱したC「粒子自
体が他の部所例えば電極面、シールド面ヘクランブとし
て付着することによる耐電圧特性低下或いは再点弧発生
へ影響を与える。このような現象は多発するものではな
いが、信頼度の高い真空バルブの製作及び長時間の信頼
性保証の観点から重要視される。
は、初期耐圧、特に静耐圧の低下に影響を及ぼし、又開
閉時の機械的衝撃中に生ずる脱落は離脱したCr粒子の
ぬけ跡による表面荒れのみならず、離脱したC「粒子自
体が他の部所例えば電極面、シールド面ヘクランブとし
て付着することによる耐電圧特性低下或いは再点弧発生
へ影響を与える。このような現象は多発するものではな
いが、信頼度の高い真空バルブの製作及び長時間の信頼
性保証の観点から重要視される。
[発明の目的]
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その目
的とするところは、しゃ断性能および高耐電圧特性を安
定して発揮させることができる電気接点材料およびその
製造方法を提供することである。
的とするところは、しゃ断性能および高耐電圧特性を安
定して発揮させることができる電気接点材料およびその
製造方法を提供することである。
[発明の概要コ
本発明は上記目的を達成するために次のようにしたもの
である。すなわち、第1番目の発明は、Or、Ti、V
の中から選ばれた少なくとも1種の耐火材料と、CLl
、AGの中から選ばれた1種の高導電材料とからなる合
金において、前記耐火材料は直径が20〜250μmで
かつ長さが150〜20000μ園に微細化したことを
特徴とする電気接点材料である。また第2番目の発明は
、Cr。
である。すなわち、第1番目の発明は、Or、Ti、V
の中から選ばれた少なくとも1種の耐火材料と、CLl
、AGの中から選ばれた1種の高導電材料とからなる合
金において、前記耐火材料は直径が20〜250μmで
かつ長さが150〜20000μ園に微細化したことを
特徴とする電気接点材料である。また第2番目の発明は
、Cr。
T i、Vの中から選ばれた少なくとも1種の耐火材料
を非酸化性雰囲気の中で溶解又は焼結して素材を得、こ
れを非酸化状態で微細化し、これを焼結して得られたス
ケルトンの空隙に、Cu、A CJの中から選ばれた1
種の高導電材料を溶浸させて得る電気接点材料の製造方
法である。
を非酸化性雰囲気の中で溶解又は焼結して素材を得、こ
れを非酸化状態で微細化し、これを焼結して得られたス
ケルトンの空隙に、Cu、A CJの中から選ばれた1
種の高導電材料を溶浸させて得る電気接点材料の製造方
法である。
[発明の実施例]
以下、本発明の実施例について説明するが、はじめに従
来のCu−Cr合金においてCrの形状としては脱落の
しやすい粒状(球形)でなく、Cuとの接触面積が多く
なるようなるべく繊維状とし、かつ表面の汚染皮膜を極
力少ない状態でCrの脱落現象の発生を軽減化する技術
について検討する。このために次のような試料A、B、
C。
来のCu−Cr合金においてCrの形状としては脱落の
しやすい粒状(球形)でなく、Cuとの接触面積が多く
なるようなるべく繊維状とし、かつ表面の汚染皮膜を極
力少ない状態でCrの脱落現象の発生を軽減化する技術
について検討する。このために次のような試料A、B、
C。
Dを準備する。■試料A:数αの大きさの電解Cr塊を
ハンマーで0.5cm〜1 cm程度に砕き、アルゴン
ガスを満たしたボールミル・ポット中に入れ、約12時
間粉砕し、100メツシユのCr粉としたものである。
ハンマーで0.5cm〜1 cm程度に砕き、アルゴン
ガスを満たしたボールミル・ポット中に入れ、約12時
間粉砕し、100メツシユのCr粉としたものである。
■試料B:同じCr塊をアルゴンガスを流した部屋のな
かでスタンプ・ミルと、らいかい機を用いて約12時間
粉砕し、100メツシユのC「粉を得たものである。■
試料C:間じC「塊をジルコニア製坩堝に入れ上部に多
孔質のカーボンふたを置き、真空中溶解を行って得たイ
ンゴットを試料Aを得るのと同じ工程で粉砕し100メ
ツシユのCr粉を得たものである。■試料D=上記真空
溶解によって得た直径80m+長ざ100+s+のイン
ゴットを、アルゴンを流した部屋に設置した回転装置に
取りつけ、高速回転(例えば20回転/秒)を与えなが
ら、上記インゴットの端面を特殊構造の切削工具によっ
て切削を瞬時に行いその切削屑を収集したものである。
かでスタンプ・ミルと、らいかい機を用いて約12時間
粉砕し、100メツシユのC「粉を得たものである。■
試料C:間じC「塊をジルコニア製坩堝に入れ上部に多
孔質のカーボンふたを置き、真空中溶解を行って得たイ
ンゴットを試料Aを得るのと同じ工程で粉砕し100メ
ツシユのCr粉を得たものである。■試料D=上記真空
溶解によって得た直径80m+長ざ100+s+のイン
ゴットを、アルゴンを流した部屋に設置した回転装置に
取りつけ、高速回転(例えば20回転/秒)を与えなが
ら、上記インゴットの端面を特殊構造の切削工具によっ
て切削を瞬時に行いその切削屑を収集したものである。
この場合の切削屑は、インゴット端面に接する切削工具
の刃の幅を任意に変えることによって繊維の長を調整す
ることが出来、かつ、回転装置の回転速度と、切削工具
の送り速度の両者を調整することで!l維の直径を調整
することが出来る。
の刃の幅を任意に変えることによって繊維の長を調整す
ることが出来、かつ、回転装置の回転速度と、切削工具
の送り速度の両者を調整することで!l維の直径を調整
することが出来る。
以上のようにして得た試料A〜Dの粉末につき、240
0℃加熱下で抽出される酸素量の比較を行った。その結
果を第1表に示す。
0℃加熱下で抽出される酸素量の比較を行った。その結
果を第1表に示す。
第 1 表
この第1表から明らかなように400〜700ppIl
l程度の酸素量を含有する原料(電解Cr塊)を、上記
条件で粉砕した後の、試料A、B、Cの酸素lは原料の
約1.1〜2倍に増加していることがわかる。一方原料
の電解Cr塊を所定条件で真空溶解すると内蔵ガスの除
去によって酸素量は大幅に減少(200ppm前後)す
る。これを12時間、アルゴン中でボールミルにより粉
砕した試料Cは、吸着ガス量の増加が著しく大きいが、
切削によって瞬間的に繊維とした試料りでは酸素量の増
加は若干程度である。
l程度の酸素量を含有する原料(電解Cr塊)を、上記
条件で粉砕した後の、試料A、B、Cの酸素lは原料の
約1.1〜2倍に増加していることがわかる。一方原料
の電解Cr塊を所定条件で真空溶解すると内蔵ガスの除
去によって酸素量は大幅に減少(200ppm前後)す
る。これを12時間、アルゴン中でボールミルにより粉
砕した試料Cは、吸着ガス量の増加が著しく大きいが、
切削によって瞬間的に繊維とした試料りでは酸素量の増
加は若干程度である。
尚、粉砕後の試料A、B、Cを真空中900℃で酸素処
理しても、又水素中950℃で熱処理しても、粉砕後の
数値と変化なく脱酸素の効果は少ない。従ってガスに対
しては、原料レベルでの酸素量を低くした上で粉砕化工
程の管理が重要であることを示している。試料りを得る
場合、工具の刃幅を約0.2 mumにしたところ直径
とほぼ同じ長さを持つ長さ/直径の比がほぼ1のCrも
得て、酸素口を測定した結果、240〜3001)rl
mであることを確認した。従って、試料りは耐電圧特性
およびしゃ断性能が向上することが明らかである。
理しても、又水素中950℃で熱処理しても、粉砕後の
数値と変化なく脱酸素の効果は少ない。従ってガスに対
しては、原料レベルでの酸素量を低くした上で粉砕化工
程の管理が重要であることを示している。試料りを得る
場合、工具の刃幅を約0.2 mumにしたところ直径
とほぼ同じ長さを持つ長さ/直径の比がほぼ1のCrも
得て、酸素口を測定した結果、240〜3001)rl
mであることを確認した。従って、試料りは耐電圧特性
およびしゃ断性能が向上することが明らかである。
本発明の電気接点材料の一実施例は、上記の知見に基い
て完成され、次のような特徴を有する。
て完成され、次のような特徴を有する。
(イ>cu−cr金合金於てCrは直径が20〜250
μ−でかつ長さが150〜20000μ…の微細化(粉
末又は繊維化)であること。(ロ)Qu−Cr合金中に
占めるCr量は10〜90重置%であること。
μ−でかつ長さが150〜20000μ…の微細化(粉
末又は繊維化)であること。(ロ)Qu−Cr合金中に
占めるCr量は10〜90重置%であること。
このような特徴を有する電気接点材料は実験によればし
ゃ断性能および高耐電圧特性が安定して得られることが
わかる。
ゃ断性能および高耐電圧特性が安定して得られることが
わかる。
従来の球状のCrは、その表面に一度汚染(主として酸
化)を受けると、前処理又は焼結、溶浸工程の加熱でも
回復が困難であり、Cr粉これら汚染は、焼結溶浸の阻
害のみならず、汚染物質へのアーク集中、それに付随す
る異常続弧(アーク時間が著しく長い環条)を増長し、
かつ著しい損傷が起きやすいが、本発明の接点材料はそ
のようなことはない。
化)を受けると、前処理又は焼結、溶浸工程の加熱でも
回復が困難であり、Cr粉これら汚染は、焼結溶浸の阻
害のみならず、汚染物質へのアーク集中、それに付随す
る異常続弧(アーク時間が著しく長い環条)を増長し、
かつ著しい損傷が起きやすいが、本発明の接点材料はそ
のようなことはない。
また本発明ではOrとして微細化したCr特にmi状の
Crであることから、CLIの量を広範囲に設計するこ
とができ、導電率、接触抵抗の調整を有利に行える。こ
れは従来の粒状(球状)のCrを使用する場合には、5
0%の空隙率を確保するが技術的限度であるのに対し、
本発明による微細化したCrを使用するとスケルトン空
隙率を90%程度にでき、従って、立体的に広い空間を
容易に得ることができる。ざらに微細化したCrを使用
することにより、機械的および熱的衝撃による接点面の
ミクロ的亀裂の進展を阻止できるという副次的な効果も
得られる。
Crであることから、CLIの量を広範囲に設計するこ
とができ、導電率、接触抵抗の調整を有利に行える。こ
れは従来の粒状(球状)のCrを使用する場合には、5
0%の空隙率を確保するが技術的限度であるのに対し、
本発明による微細化したCrを使用するとスケルトン空
隙率を90%程度にでき、従って、立体的に広い空間を
容易に得ることができる。ざらに微細化したCrを使用
することにより、機械的および熱的衝撃による接点面の
ミクロ的亀裂の進展を阻止できるという副次的な効果も
得られる。
上記電気接点材料は次のように変形しても上記実施例と
同様な効果が得られる。Crの一部又は全部をTi
(チタン)、■(バナジウム)の群の少なくとも1種で
置換し、残部がCLI又は及びAct (W4)より
なるものであってもよい。CrとしてはあらかじめCu
又は及びA(Iを含、有したCr−CLI素材、Cr−
Aa素材であってもよい。
同様な効果が得られる。Crの一部又は全部をTi
(チタン)、■(バナジウム)の群の少なくとも1種で
置換し、残部がCLI又は及びAct (W4)より
なるものであってもよい。CrとしてはあらかじめCu
又は及びA(Iを含、有したCr−CLI素材、Cr−
Aa素材であってもよい。
またCr素材の一部をCrとの比率が30重量%未満の
co、l”eの少なくとも1種で置換したものでもよい
。
co、l”eの少なくとも1種で置換したものでもよい
。
上記した本発明の電気接点材料は、次のようにして製造
される。例えばC1−Cr合金の場合、原料として使う
0rlllltは、金属Cr塊をジルコニア坩堝に収納
し、lXl0−’Torrの非酸化性雰囲気中で約20
分間、真空溶解し真空中で冷却固化して得たCrインゴ
ットの円柱を、回転装置に取りつけ、例えば20回転/
秒で回転する上記Crインゴット端面を、平均送り速度
が例えば0.1順/秒で端面方向に移動する切削工具に
よって上記した直径及び長さを持つCr1l維を31/
分の流量のアルゴン雰囲気中で瞬時に得る。
される。例えばC1−Cr合金の場合、原料として使う
0rlllltは、金属Cr塊をジルコニア坩堝に収納
し、lXl0−’Torrの非酸化性雰囲気中で約20
分間、真空溶解し真空中で冷却固化して得たCrインゴ
ットの円柱を、回転装置に取りつけ、例えば20回転/
秒で回転する上記Crインゴット端面を、平均送り速度
が例えば0.1順/秒で端面方向に移動する切削工具に
よって上記した直径及び長さを持つCr1l維を31/
分の流量のアルゴン雰囲気中で瞬時に得る。
上記Cr繊維をカーボン容器中へ自然充填、若しくは0
.5〜7トン/cdの加圧充填によって収納後、カーボ
ン容器と共に露点−70”以下の水素、若しくは真空度
lX1O−BTorrの真空中で温度1200℃、時間
1時間で焼結し、Qr繊維スケルトンを得る。スケルト
ン中の空孔は、Cr1l維の成形時の圧力、焼結温度、
時間によって調整し、所望の空孔率を持つスケルトンを
得る。次いでスケルトン中の残存空孔中にCLIを真空
度1X10−6Torr 、fA度1150℃゛時間1
時間で溶浸させCr1lliを含有したCu−Cr接点
素材を得る。
.5〜7トン/cdの加圧充填によって収納後、カーボ
ン容器と共に露点−70”以下の水素、若しくは真空度
lX1O−BTorrの真空中で温度1200℃、時間
1時間で焼結し、Qr繊維スケルトンを得る。スケルト
ン中の空孔は、Cr1l維の成形時の圧力、焼結温度、
時間によって調整し、所望の空孔率を持つスケルトンを
得る。次いでスケルトン中の残存空孔中にCLIを真空
度1X10−6Torr 、fA度1150℃゛時間1
時間で溶浸させCr1lliを含有したCu−Cr接点
素材を得る。
その後、所定形状に加工し電気接点を得る。
尚、上記製造方法においてCrの代りにV。
7iであっても、又Crの一部にV、Tiが含有されて
いても、更にはCrの一部に30%の未満のFe、Co
によって代替しても上記と同じ方法で接点素材を作るこ
とができる。
いても、更にはCrの一部に30%の未満のFe、Co
によって代替しても上記と同じ方法で接点素材を作るこ
とができる。
又、Cuの一部又は総てをAgで代替しても同じ方法で
接点素材を作り得る。ざらにCr繊維を製造するのに機
械振動を与えたが、電気振動であってもよい。
接点素材を作り得る。ざらにCr繊維を製造するのに機
械振動を与えたが、電気振動であってもよい。
上記製造方法で用いられる容器は、金属粉末を収納する
うつねであり、例えば、中空部を有しかつ少なくとも一
面に開口部を有する器状の、もしくは、平板状のもので
ある。この容器は、金属粉末とともに焼結される。した
がって、焼結温度で溶融する材料で容器がつくられてい
る場合、接点に含有することのできる材料に限定される
。例えば、CuやA(lである。容器壁の厚さについて
は、収容物を強度的に十分支えられる厚さが下限となり
、具体的には10μ1以上と考えられ、又その厚さの上
限は、焼結溶浸後の組成の狂いを増長させたり、ガス源
とならないよう極力薄い方が好ましく、例えば1M以内
である。しかし、焼結温度で溶融しない材料である場合
、特に限定されないが、例えば、炭素質材料やセラミッ
クス材料などを用いるこができる。
うつねであり、例えば、中空部を有しかつ少なくとも一
面に開口部を有する器状の、もしくは、平板状のもので
ある。この容器は、金属粉末とともに焼結される。した
がって、焼結温度で溶融する材料で容器がつくられてい
る場合、接点に含有することのできる材料に限定される
。例えば、CuやA(lである。容器壁の厚さについて
は、収容物を強度的に十分支えられる厚さが下限となり
、具体的には10μ1以上と考えられ、又その厚さの上
限は、焼結溶浸後の組成の狂いを増長させたり、ガス源
とならないよう極力薄い方が好ましく、例えば1M以内
である。しかし、焼結温度で溶融しない材料である場合
、特に限定されないが、例えば、炭素質材料やセラミッ
クス材料などを用いるこができる。
本発明において金属粉末の容器への充填・成形は、好ま
しくは、1.5トン/ cti以下の外圧もしくは充填
された粉末の自重の圧力で行われる。すなわち、容器が
成形体の型になっている場合には、金属粉末を容器内に
自然落下させたままで粉末の自重の圧力で成形すること
ができる。さらに、外部から 1.5トン/ cm以下
の低圧で粉末を直接的に、もしくは容器ごと成形するこ
ともできる。
しくは、1.5トン/ cti以下の外圧もしくは充填
された粉末の自重の圧力で行われる。すなわち、容器が
成形体の型になっている場合には、金属粉末を容器内に
自然落下させたままで粉末の自重の圧力で成形すること
ができる。さらに、外部から 1.5トン/ cm以下
の低圧で粉末を直接的に、もしくは容器ごと成形するこ
ともできる。
又、溶浸するC1又はAgIが少ないときには成型時の
圧力を7トン/ ci程度まで任意に選択するが、あら
かじめ成型したCr繊維を用いることも出来る。接点の
用途に応じ溶着現象を軽減化させるのに有効なり i、
Pb、Te、Sb、Seの少なくとも1種をcu −c
r m維系合金中に、少なくとも0.1重量%含有させ
ることも出来る。
圧力を7トン/ ci程度まで任意に選択するが、あら
かじめ成型したCr繊維を用いることも出来る。接点の
用途に応じ溶着現象を軽減化させるのに有効なり i、
Pb、Te、Sb、Seの少なくとも1種をcu −c
r m維系合金中に、少なくとも0.1重量%含有させ
ることも出来る。
第1図は、本発明による電気接点材料を適用する真空バ
ルブの一構成例を示す正断面図であり、第2図はその要
部拡大図である。しゃ断至1は、セラミック等の絶縁材
料によりほぼ円筒状に形成された絶縁容器2と、この両
端に密閉機構3.3aを介して設けた金属蓋体4および
5とで真空気密に区画されている。しかして、このしゃ
新卒1内には、一対の電極棒6.7の互いに対向する端
部にそれぞれ固定電極8および可動電極9が配設されて
いる。また、上記可動電極9の電極棒7には、ベローズ
1oが取付【プられ、しゃ新卒1内を真空気密に保持し
ながら、電極9の往復動による一対のI!ff18.9
の開閉を可能にしている。またこのベローズ10はフー
ド11により覆われ、アーク蒸気の被着を防止しており
、またしゃ新卒1内には更に円筒状金属容器12が設け
られ、絶縁容器2へのアーク蒸気の被着を防止している
。
ルブの一構成例を示す正断面図であり、第2図はその要
部拡大図である。しゃ断至1は、セラミック等の絶縁材
料によりほぼ円筒状に形成された絶縁容器2と、この両
端に密閉機構3.3aを介して設けた金属蓋体4および
5とで真空気密に区画されている。しかして、このしゃ
新卒1内には、一対の電極棒6.7の互いに対向する端
部にそれぞれ固定電極8および可動電極9が配設されて
いる。また、上記可動電極9の電極棒7には、ベローズ
1oが取付【プられ、しゃ新卒1内を真空気密に保持し
ながら、電極9の往復動による一対のI!ff18.9
の開閉を可能にしている。またこのベローズ10はフー
ド11により覆われ、アーク蒸気の被着を防止しており
、またしゃ新卒1内には更に円筒状金属容器12が設け
られ、絶縁容器2へのアーク蒸気の被着を防止している
。
一方、可動電極9は、その拡大構造を第2図に示すよう
に、導電棒7にロウ材13によって固定されるか、又は
かしめによって圧着接続(図示せず)されており、その
上には可動接点14がロウ材15によって接合されてい
る。また固定電極8の詳細構造(図示せず)も向きが逆
となるのみでほぼ同様であり、これには固定接点14a
か設けられている。
に、導電棒7にロウ材13によって固定されるか、又は
かしめによって圧着接続(図示せず)されており、その
上には可動接点14がロウ材15によって接合されてい
る。また固定電極8の詳細構造(図示せず)も向きが逆
となるのみでほぼ同様であり、これには固定接点14a
か設けられている。
本発明の電気接点材料は、上記したような接点14.1
48の双方またはいずれか一方を構成するのに適したも
のである。
48の双方またはいずれか一方を構成するのに適したも
のである。
以下、本発明の製造方法の具体例について説明するが、
はじめに比較例1〜3について説明する。
はじめに比較例1〜3について説明する。
約50%のCrを含有するCu−50Cr合金を試作す
る。Cr素材は上記0.5〜1cIRの大きざに砕いた
電解Cr塊をアルゴンガスで満したステンレス製ポット
(比較例−1)、及びアルゴン気流を流した密閉容器中
に設置したスタンプミル及びらいかい機(比較例−2)
、及び同電解Cr塊をジルコニア製坩堝を用いて約5X
10−’Torr 、2000℃で真空溶解を行ったC
rを比較例−1と同じようにアルゴンガスで満したステ
ンレス製ポット(比較例−3)の如く、夫々の条件で約
12時間粉砕し、74μm及び149μmのふるいを用
いて平均粒径105μmの粉末を選び出した。
る。Cr素材は上記0.5〜1cIRの大きざに砕いた
電解Cr塊をアルゴンガスで満したステンレス製ポット
(比較例−1)、及びアルゴン気流を流した密閉容器中
に設置したスタンプミル及びらいかい機(比較例−2)
、及び同電解Cr塊をジルコニア製坩堝を用いて約5X
10−’Torr 、2000℃で真空溶解を行ったC
rを比較例−1と同じようにアルゴンガスで満したステ
ンレス製ポット(比較例−3)の如く、夫々の条件で約
12時間粉砕し、74μm及び149μmのふるいを用
いて平均粒径105μmの粉末を選び出した。
夫々のCr粉末を別々に、黒鉛ボートに自然充填した後
(比較例−3のみは若干の加圧によって充填)真空中1
X10−’ Torr 、1時間焼結し空孔率約50%
の純スケルトンを得て、更にその空孔中に別に用意した
真空溶解銅を真空中5×1O−6Torr 、1時間で
、Cuを溶浸し、CLI−Cr素材を作製した。次に述
べる評価条件でガス量、切削時のCrの脱落数、静耐圧
、しゃ断電流限界などの評価を行いその結果を第2表に
示した。
(比較例−3のみは若干の加圧によって充填)真空中1
X10−’ Torr 、1時間焼結し空孔率約50%
の純スケルトンを得て、更にその空孔中に別に用意した
真空溶解銅を真空中5×1O−6Torr 、1時間で
、Cuを溶浸し、CLI−Cr素材を作製した。次に述
べる評価条件でガス量、切削時のCrの脱落数、静耐圧
、しゃ断電流限界などの評価を行いその結果を第2表に
示した。
評価条件
酸素=5厘立方の試験片を切出し2400〜26oO℃
のカーボンカプセル中に挿入し抽出する。
のカーボンカプセル中に挿入し抽出する。
耐電圧特性:別布研磨により仕上げたNi にッケル
)針電極を陽極とし同じく別布研磨により仕上げた各種
試料平板を陰極とし、10− ” Torrの真空中に
おいて電圧を徐々に上昇させ、スパークを発生したとき
の電圧値を測定し、破壊時の電圧(kV)とした。
)針電極を陽極とし同じく別布研磨により仕上げた各種
試料平板を陰極とし、10− ” Torrの真空中に
おいて電圧を徐々に上昇させ、スパークを発生したとき
の電圧値を測定し、破壊時の電圧(kV)とした。
しゃ断電流限界比率:直径70tmの接点を有するテス
ト用モデル真空バルブを開閉装置に取付けると共に電極
表面をエージングした後モデル真空バルブを12kVの
回路に接続し、0.5〜4 kAステップで電流も増
加させながらしゃ断しこの時のしゃ断が限界となる電流
値を求め、粉砕によって得たCr粉を原料として作製し
たCu −50Cr (比較例−1)の電流値を10
0とし、その比率で示した。
ト用モデル真空バルブを開閉装置に取付けると共に電極
表面をエージングした後モデル真空バルブを12kVの
回路に接続し、0.5〜4 kAステップで電流も増
加させながらしゃ断しこの時のしゃ断が限界となる電流
値を求め、粉砕によって得たCr粉を原料として作製し
たCu −50Cr (比較例−1)の電流値を10
0とし、その比率で示した。
上記比較例において、ガス量はいずれも200〜400
ppmであり、静耐圧は66〜70kV、しゃ断電流
限界も比較例−1を100とした場合の90〜100%
の範囲で、大差ない。比較例−3は他の比較例−1,2
に比べ、切削時のCrの脱落の面で優れている。繊維状
のOrが脱落の面で効果を発揮していることを示してい
るが、長時間の粉砕による表面汚染の影響で、他の特性
では優位性を示していないことが判る。
ppmであり、静耐圧は66〜70kV、しゃ断電流
限界も比較例−1を100とした場合の90〜100%
の範囲で、大差ない。比較例−3は他の比較例−1,2
に比べ、切削時のCrの脱落の面で優れている。繊維状
のOrが脱落の面で効果を発揮していることを示してい
るが、長時間の粉砕による表面汚染の影響で、他の特性
では優位性を示していないことが判る。
次に具体例1〜4について説明する。
上記と同じ電解Cr塊を、比較例−3と同じジルコニア
製坩堝を用い5x 10’ Torr 、約2000℃
で真空溶解を行った直径80m、長さ1100aのCr
インゴットを、高速で回転させながらアルゴン気流中で
上記インゴットの端面を切削工具によって瞬時に切削し
その切屑を収集する。
製坩堝を用い5x 10’ Torr 、約2000℃
で真空溶解を行った直径80m、長さ1100aのCr
インゴットを、高速で回転させながらアルゴン気流中で
上記インゴットの端面を切削工具によって瞬時に切削し
その切屑を収集する。
上記インゴットの回転数、切削工具刃の送り速度を調整
しながら繊維の平均直径をほぼ一定の約150〜180
μ―に揃えながら、切削工具の刃の幅を調整しながら繊
維の平均長さを0.1mm(具体例−1)、0.3屈(
具体例−2〉、2.2m (具体例−3)、20am<
具体例−4)持つものを作り、Cu−Cr合金用のCr
原料とした。各長さを持つCr繊維を黒鉛坩堝に加圧充
填した後、真空中1XIQ−’ Torr 、1時間の
条件で焼結し、空孔率約50%の純Crスケルトンを得
た。
しながら繊維の平均直径をほぼ一定の約150〜180
μ―に揃えながら、切削工具の刃の幅を調整しながら繊
維の平均長さを0.1mm(具体例−1)、0.3屈(
具体例−2〉、2.2m (具体例−3)、20am<
具体例−4)持つものを作り、Cu−Cr合金用のCr
原料とした。各長さを持つCr繊維を黒鉛坩堝に加圧充
填した後、真空中1XIQ−’ Torr 、1時間の
条件で焼結し、空孔率約50%の純Crスケルトンを得
た。
なお、黒鉛坩堝中へのCr繊維の導入は自然充填で行う
とCu量を50%近傍と規定するとややC1量が多過ぎ
る為、空孔を調整する意味で加圧し、またCu量が50
%以上を目標とする場合には、自然充填法も活用するこ
とができる。
とCu量を50%近傍と規定するとややC1量が多過ぎ
る為、空孔を調整する意味で加圧し、またCu量が50
%以上を目標とする場合には、自然充填法も活用するこ
とができる。
次いで別に用意した真空溶解銅を真空中5×10−’
Torr 、 1時間でCuを溶浸し、Qu −Cr素
材を作製した。上記した評価条件でガス量、切削時のO
rの脱落数、静耐圧、しゃ断電流限界などの評価を行い
その結果を第2表に併記した。
Torr 、 1時間でCuを溶浸し、Qu −Cr素
材を作製した。上記した評価条件でガス量、切削時のO
rの脱落数、静耐圧、しゃ断電流限界などの評価を行い
その結果を第2表に併記した。
ガス量はいずれも1001)I)1程度で上記粉砕によ
って得たCrを使用した場合(比較例1〜3)より少な
く 1/2〜1/3程度である。01雑の長さが0.1
5NI(具体例−1)及びそれ以上(具体例2〜4)で
は、Cr脱落が極端に少なく、接点表面のミクロ的荒れ
が少ないため初期状態の耐電圧特性(静耐圧)が、70
kV以上と安定している点に、しゃ断電流の限界も、粉
砕によるCrを用いた比較例−1を100としたとき、
約30%の向上が認められている。これらは所定の素材
を管理した状態の雰囲気中で表面汚染させることなく瞬
時に粉体化させる必要性を示し、更に、Crを繊維化す
ることで表面からのCrの脱落も軽減化させ相乗的に静
耐圧特性としゃ所持性の維持向上に寄与したものと推察
される。以上の観点から、Cr1llftの長さは0.
15m+++(具体例−1)以上を必要とし、その上限
は20s以上になると切削時に折損する場合があり、略
20順程度と考えられる。
って得たCrを使用した場合(比較例1〜3)より少な
く 1/2〜1/3程度である。01雑の長さが0.1
5NI(具体例−1)及びそれ以上(具体例2〜4)で
は、Cr脱落が極端に少なく、接点表面のミクロ的荒れ
が少ないため初期状態の耐電圧特性(静耐圧)が、70
kV以上と安定している点に、しゃ断電流の限界も、粉
砕によるCrを用いた比較例−1を100としたとき、
約30%の向上が認められている。これらは所定の素材
を管理した状態の雰囲気中で表面汚染させることなく瞬
時に粉体化させる必要性を示し、更に、Crを繊維化す
ることで表面からのCrの脱落も軽減化させ相乗的に静
耐圧特性としゃ所持性の維持向上に寄与したものと推察
される。以上の観点から、Cr1llftの長さは0.
15m+++(具体例−1)以上を必要とし、その上限
は20s以上になると切削時に折損する場合があり、略
20順程度と考えられる。
具体例1〜4と同じ方法でCu−50Cr合金を試作し
た、Cr繊維の直径が20μm (具体例−4)、同じ
<250μm (具体例−5)の素材を用いた場合、
70kV以上の静耐圧値と、30%以上のしゃ断電流限
界の向上が確認される。これはガス量が粉砕法によって
得たC「粉末を用いた比較例1〜3に比し1/2〜1/
4であることと、素材レベルでの切削時のCrtlR落
が少ないことなどが寄与しているものと推察される。し
かしCrl!1の直径が20μI以下のものは、切削法
によって瞬時に得るには折損が多(最内な確保が困難で
あり、又Cr1m1の直径が大となるとCr同志の接触
のチャンスが増加する傾向にある為、250μmを限度
とする。Cr同志の接触は耐溶着性を低下させる要因と
なる。以上からCrJ&i維の直径は20〜25μ−の
範囲に制御するのが好ましいが、直径は取扱い性の観点
から繊維の長さとの比(長さ/直径)によっても規定さ
れるべきで、例えばこの比が極端に大きい状態(例えば
104倍)は避けるべきであり、この比が1以下の繊維
は、製造技術上現実的でない。
た、Cr繊維の直径が20μm (具体例−4)、同じ
<250μm (具体例−5)の素材を用いた場合、
70kV以上の静耐圧値と、30%以上のしゃ断電流限
界の向上が確認される。これはガス量が粉砕法によって
得たC「粉末を用いた比較例1〜3に比し1/2〜1/
4であることと、素材レベルでの切削時のCrtlR落
が少ないことなどが寄与しているものと推察される。し
かしCrl!1の直径が20μI以下のものは、切削法
によって瞬時に得るには折損が多(最内な確保が困難で
あり、又Cr1m1の直径が大となるとCr同志の接触
のチャンスが増加する傾向にある為、250μmを限度
とする。Cr同志の接触は耐溶着性を低下させる要因と
なる。以上からCrJ&i維の直径は20〜25μ−の
範囲に制御するのが好ましいが、直径は取扱い性の観点
から繊維の長さとの比(長さ/直径)によっても規定さ
れるべきで、例えばこの比が極端に大きい状態(例えば
104倍)は避けるべきであり、この比が1以下の繊維
は、製造技術上現実的でない。
具体例1〜6は、総て焼結、溶浸共、真空中雰囲気で行
った例を示したが、焼結を水素、溶浸を真空中で行って
も第3表で示すように同様の特性が得られている(具体
例7,14〜15.17)。
った例を示したが、焼結を水素、溶浸を真空中で行って
も第3表で示すように同様の特性が得られている(具体
例7,14〜15.17)。
また、具体例1〜7.14〜17は、Cr1iをほぼ5
0%のものにつき示したが、Crlが10%(具体例−
8>、Crmが90%(具体例−9)の場合でも同様の
特性が得られている。
0%のものにつき示したが、Crlが10%(具体例−
8>、Crmが90%(具体例−9)の場合でも同様の
特性が得られている。
更に、具体例1〜9.16は、Cu−Cr系合金につき
示したが、Tiの場合(具体例−10)、■の場合(具
体例−11)でも、同じ効果が得られている。
示したが、Tiの場合(具体例−10)、■の場合(具
体例−11)でも、同じ効果が得られている。
一方、具体例1〜11.16はCLI −Cr 2元素
につき示したが、Cr−Ti<具体例−12)、Cr
−V (具体例−13> 、Cr −Co (具体例
−14) 、Cr −Fe (具体例−15)に於て
も同じ効果が得られている。
につき示したが、Cr−Ti<具体例−12)、Cr
−V (具体例−13> 、Cr −Co (具体例
−14) 、Cr −Fe (具体例−15)に於て
も同じ効果が得られている。
以上に述べた具体例8〜15と対比させるため総ての試
料につき比較例−1〜3と同じように粉″砕によって各
Cr又はCr Ti、Cr V、Cr Co 。
料につき比較例−1〜3と同じように粉″砕によって各
Cr又はCr Ti、Cr V、Cr Co 。
CrFe合金を得て同様の測定を行ったが、比較例1−
3と同様の傾向にあった。
3と同様の傾向にあった。
Cu−Cr接点を作製する場合、比較例1〜3、具体例
1〜9などで用いたようなCrのみのスケルトンではな
く、スケルトンを作る時点で最終的に必要とするCul
の一部(具体例−16では50%のうちの5%)Crに
混合しておき、この混合粉(Crll帷95%:Cu粉
5%)を黒鉛ボードに充填し、焼結、溶浸を行い接点素
材とする方法の場合に適用しても同じ効果が得られてい
る(具体例−16)。
1〜9などで用いたようなCrのみのスケルトンではな
く、スケルトンを作る時点で最終的に必要とするCul
の一部(具体例−16では50%のうちの5%)Crに
混合しておき、この混合粉(Crll帷95%:Cu粉
5%)を黒鉛ボードに充填し、焼結、溶浸を行い接点素
材とする方法の場合に適用しても同じ効果が得られてい
る(具体例−16)。
具体例17は次の通りである。約50%のCrを含有し
たCu−Cr接点を、外径25酎φの一対の円板状試料
と、外径25IIIIIφ先端が10ORの球面をなす
加圧ロンドに加工しこれらを対向させ11001(の荷
重を加えて10″5履TOrrの真空中に於て、50H
2,20k Aの電流を20ミリ秒間通電し、その時の
試料とロッドの間の引きは、ずしに要する力を測定し耐
溶着性を評価すると、約60〜90Kgの引きはずし力
を要する。一方これにロッド0,1%程度以上のBi
<具体例−17では0,5%Bi)を添加すると5〜
30 K9程度に改良される。他の補助材料Pb (
鉛)、Te(テルル)、Se(セレン)、Sb(アンチ
モン)なども同様の改良がなされる。このような補助材
料を含むC11−Cr合金に対しても本発明条件による
微細化(繊H)は静耐圧、しゃ断電流限界に対しても効
果を示す。
たCu−Cr接点を、外径25酎φの一対の円板状試料
と、外径25IIIIIφ先端が10ORの球面をなす
加圧ロンドに加工しこれらを対向させ11001(の荷
重を加えて10″5履TOrrの真空中に於て、50H
2,20k Aの電流を20ミリ秒間通電し、その時の
試料とロッドの間の引きは、ずしに要する力を測定し耐
溶着性を評価すると、約60〜90Kgの引きはずし力
を要する。一方これにロッド0,1%程度以上のBi
<具体例−17では0,5%Bi)を添加すると5〜
30 K9程度に改良される。他の補助材料Pb (
鉛)、Te(テルル)、Se(セレン)、Sb(アンチ
モン)なども同様の改良がなされる。このような補助材
料を含むC11−Cr合金に対しても本発明条件による
微細化(繊H)は静耐圧、しゃ断電流限界に対しても効
果を示す。
[発明の効果]
以上述べた本発明によれば、しゃ断性能および高耐電圧
特性が安定して得られる電気接点材料およびその製造方
法を提供できる。
特性が安定して得られる電気接点材料およびその製造方
法を提供できる。
第1図は本発明による電気接点材料が適用されるバルブ
の一構成例を示す正断面図、第2図は第1図の要部を拡
大して示す図である。 1・・・絶縁容器、6.7・・・電極棒、8・・・固定
電極、9・・・可動電極、14・・・可動接点、14a
・・・固定接点。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図
の一構成例を示す正断面図、第2図は第1図の要部を拡
大して示す図である。 1・・・絶縁容器、6.7・・・電極棒、8・・・固定
電極、9・・・可動電極、14・・・可動接点、14a
・・・固定接点。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図
Claims (7)
- (1)Cr、Ti、Vの中から選ばれた少なくとも1種
の耐火材料と、Cu、Agの中から選ばれた1種の高導
電材料とからなる合金において、前記耐火材料は直径が
20〜250μmでかつ長さが150〜20000μm
に微細化したことを特徴とする電気接点材料。 - (2)CrとCuとの量比が10〜90重量%である特
許請求の範囲第(1)項記載の電気接点材料。 - (3)耐火材料はCrとCo、Feの少なくとも1種の
量比が30重量%未満である特許請求の範囲第(1)項
記載の電気接点材料。 - (4)補助成分としてBi、Pb、Te、Se、Sbの
中から選ばれた少なくとも1種を0.1〜10重量%を
含有した特許請求の範囲第(1)項記載の電気接点材料
。 - (5)Cr、Ti、Vの中から選ばれた少なくとも1種
の耐火材料を非酸化性雰囲気の中で溶解又は焼結して素
材を得、これを非酸化状態で微細化し、これを焼結して
得られたスケルトンの空隙に、Cu、Agの中から選ば
れた1種の高導電材料を溶浸させて得る電気接点材料の
製造方法。 - (6)素材の微細化はCr、Ti、Vの中から選ばれた
少なくとも1種の耐火材料又は及び切削工具を電気的又
は機械的に振動させながら、最終形状、大きさに瞬間的
に行う特許請求の範囲第(5)項記載の電気接点材料の
製造方法。 - (7)非酸化性雰囲気は真空又は水素中である特許請求
の範囲第(5)項記載の電気接点材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24651484A JPS61124542A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24651484A JPS61124542A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61124542A true JPS61124542A (ja) | 1986-06-12 |
JPH0573813B2 JPH0573813B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=17149524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24651484A Granted JPS61124542A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61124542A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6386836A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | 真空バルブ用接点合金 |
JPS6386835A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 | Toshiba Corp | 真空バルブ用接点合金 |
CN102903417A (zh) * | 2012-10-29 | 2013-01-30 | 黄宣斐 | 便携式电话的电池引线 |
CN110983097A (zh) * | 2019-12-11 | 2020-04-10 | 哈尔滨东大高新材料股份有限公司 | 一种银钒触头材料及其制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS53146904A (en) * | 1977-05-27 | 1978-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | Preparation of material of contact for vacuum circuit breaker |
JPS57188636A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-19 | Omron Tateisi Electronics Co | Electrical contact material |
-
1984
- 1984-11-21 JP JP24651484A patent/JPS61124542A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0573813B2 (ja) | 1993-10-15 |
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