JPS61124542A - 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 - Google Patents

真空バルブ用接点材料およびその製造方法

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JPS61124542A
JPS61124542A JP24651484A JP24651484A JPS61124542A JP S61124542 A JPS61124542 A JP S61124542A JP 24651484 A JP24651484 A JP 24651484A JP 24651484 A JP24651484 A JP 24651484A JP S61124542 A JPS61124542 A JP S61124542A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は例えば真空開閉装置の真空バルブに使用される
電気接点材料およびその製造方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 周知のように、真空バルブは、小形、軽耐、メンテナン
スフリー、環境調和等地の遮断器に比較して種々優れた
特徴を有するため、近年次第にその適用範囲が拡大して
きた。このような真空バルブの接点に要求される基本的
要件としては、(1)溶着性が少ないこと、(2)耐電
圧が高いこと、(3)シゃ断特性がよいこと、が挙げら
れ、この他にさい断電流値が小さいこと、接触抵抗が低
く安定していること、耐消耗性がよいこと等も重要な要
件となっている。
しかしながら、これらの要件の中には相反するものがあ
る関係上、単一の金属種によって全ての要件を満足させ
ることは不可能である。このため、実用されている多く
の接点材料においては、不足する性能を相互に補なえる
ような2種以上の元素を組合せ、かつ大電流用あるいは
高電圧用等のように特定の用途に適した接点材料の開発
が行なわれ、それなりに優れた特性を有するものが開発
されているが、さらに強まる高耐圧化および大電流化の
要求を充分満足する真空バルブ用接点材料は、未だ得ら
れていないのが実情である。
例えば、大電流化を指向した接点材料として、Bi  
(ビスマス)のような溶着防止成分を5%以下の量で含
有するCu  (銅)−Bi  (ビスマス)合金が知
られている(特公昭41−12131@公報)が、Cu
  (銅)母相に対するB1の溶解度が極めて低いため
、しばしば偏析を生じ、しゃ新漬の表面荒れが大きく、
加工成形が困難である等の問題点を有している。また、
大電流化を指向した他の接点材料として、Cu  (銅
)−Te(テルル)合金も知られている(特公昭44−
23751号公報)。
この合金は、CLI−3i系合金が持つ上記問題点を緩
和してはいるが、Qu−3i系合金に比較して雰囲気に
対し、より敏感なため接触抵抗等の安定性に欠ける。ざ
らに、これらQu−Te。
Cu−B1等の接点の共通的特徴として、耐溶着性に優
れているものの、耐電圧特性が従来の中電圧クラスへの
適用には充分であるとしても、これ以上高い電圧分野へ
の応用に対しては、必ずしも満足でないことが明らかと
なってきた。
一方、高耐圧化を指向した接点材料としてCu(又はA
(1(1り)等の高導電成分と、Cr  (クロム)、
Ti(チタン)などとの焼結合金が知られている。これ
らの焼結合金は、強いゲッタ作用を持つ以外に蒸気圧特
性がCrの場合Cuに近似し、Tiにおいても他の接点
材料として用いられているW(タングステン)、MO(
モリブデン)よりはCuに近いため、Cu−Cr 、 
Cu −Ti、AIJ−Cr、およびAv−Ti  (
以下、本発明の説明上高導電性成分としてQuが、また
CrとTiとについてCrが代表する)接点のしゃ断機
の接点表面は、W、MO系接点より平滑さを維持する結
果、耐電圧特性などに良い傾向を示すことが知られてい
る。
しかしながら、Crは極めて酸化しやすい金属であるた
め、粉末あるいは成形体の管理または熱処理の条件が重
要になり、また、Cuなどの高導電性成分層(すなわち
、OrとCuとの比率)もしゃ断特性などに与える影響
が大きい。したがって、従来の製造方法には、次のよう
な問題点がある。
(1):例えばCu−Crを製造する場合Crとしては
、特開昭56−19832号公報、特開昭53−146
905号公報などに示されているように所定の粒径を持
った粉体が使われている。一方Cr鉱石から金属Crに
する主な方法としてアルミ/サージツク法、電解法とが
行われているが、得られた金属Crを粉体にするには、
従来スタンプミル、ボールミルなどを主とした粉砕作業
によるのが一般的である。この粉砕作業は通常長い時間
を要するため、Cr粉体表面には、汚染皮膜(Cr 2
03を主体とした安定な酸化物)の生成、ガス吸着など
が著しい。このような状態のCr粉体をCu−Cr接点
の原料として使用するとき、溶浸Cuとは、充分な濡れ
が得られず、接点中に生ずるボアの一因となる。その原
因はCr粉体の前述のような汚染皮膜の多くはCu−C
r接点製造中の例えば前加熱処理、焼結、溶浸などの熱
処理では、完全には除去できない為である。このような
ボアが接点中に残存するとしゃ断性能の低下につながる
以上述べたように粉末化の工程に於て目的径にするまで
に何回もの、或いは長時間の粉砕作業を要するためCr
は汚染を受は安定した管理と、作業の改善が望まれてい
る。
(a;上記のような粉砕作業によって得たCr粉体は一
般に、長軸と短軸の差の少ないすなわち球形に近い粒状
を呈している。そのために接点中のCr粒子はCu−C
r接点表面加工中或いは開閉時の機械的衝撃中に脱落す
る現象がある。この理由はミクロ的観察によるとCr粒
子自体が脆いこと或いはCuとCrとの界面に介在する
汚染皮膜による濡れ不足或いはCr粉末がほぼ粒状に近
いためCuとCrとの接触面積の不足等による原因によ
ってCr粒子の脱落成いは欠けが起るものと考えられる
。Cr粒子の脱落成いは欠けが生ずると耐電圧特性の低
下を招くことがあるので、Cr粒子の脱落防止が望まれ
ている。
上記CU−Orの接点表面加工時の脱落による表面荒れ
は、初期耐圧、特に静耐圧の低下に影響を及ぼし、又開
閉時の機械的衝撃中に生ずる脱落は離脱したCr粒子の
ぬけ跡による表面荒れのみならず、離脱したC「粒子自
体が他の部所例えば電極面、シールド面ヘクランブとし
て付着することによる耐電圧特性低下或いは再点弧発生
へ影響を与える。このような現象は多発するものではな
いが、信頼度の高い真空バルブの製作及び長時間の信頼
性保証の観点から重要視される。
[発明の目的] 本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その目
的とするところは、しゃ断性能および高耐電圧特性を安
定して発揮させることができる電気接点材料およびその
製造方法を提供することである。
[発明の概要コ 本発明は上記目的を達成するために次のようにしたもの
である。すなわち、第1番目の発明は、Or、Ti、V
の中から選ばれた少なくとも1種の耐火材料と、CLl
、AGの中から選ばれた1種の高導電材料とからなる合
金において、前記耐火材料は直径が20〜250μmで
かつ長さが150〜20000μ園に微細化したことを
特徴とする電気接点材料である。また第2番目の発明は
、Cr。
T i、Vの中から選ばれた少なくとも1種の耐火材料
を非酸化性雰囲気の中で溶解又は焼結して素材を得、こ
れを非酸化状態で微細化し、これを焼結して得られたス
ケルトンの空隙に、Cu、A CJの中から選ばれた1
種の高導電材料を溶浸させて得る電気接点材料の製造方
法である。
[発明の実施例] 以下、本発明の実施例について説明するが、はじめに従
来のCu−Cr合金においてCrの形状としては脱落の
しやすい粒状(球形)でなく、Cuとの接触面積が多く
なるようなるべく繊維状とし、かつ表面の汚染皮膜を極
力少ない状態でCrの脱落現象の発生を軽減化する技術
について検討する。このために次のような試料A、B、
C。
Dを準備する。■試料A:数αの大きさの電解Cr塊を
ハンマーで0.5cm〜1 cm程度に砕き、アルゴン
ガスを満たしたボールミル・ポット中に入れ、約12時
間粉砕し、100メツシユのCr粉としたものである。
■試料B:同じCr塊をアルゴンガスを流した部屋のな
かでスタンプ・ミルと、らいかい機を用いて約12時間
粉砕し、100メツシユのC「粉を得たものである。■
試料C:間じC「塊をジルコニア製坩堝に入れ上部に多
孔質のカーボンふたを置き、真空中溶解を行って得たイ
ンゴットを試料Aを得るのと同じ工程で粉砕し100メ
ツシユのCr粉を得たものである。■試料D=上記真空
溶解によって得た直径80m+長ざ100+s+のイン
ゴットを、アルゴンを流した部屋に設置した回転装置に
取りつけ、高速回転(例えば20回転/秒)を与えなが
ら、上記インゴットの端面を特殊構造の切削工具によっ
て切削を瞬時に行いその切削屑を収集したものである。
この場合の切削屑は、インゴット端面に接する切削工具
の刃の幅を任意に変えることによって繊維の長を調整す
ることが出来、かつ、回転装置の回転速度と、切削工具
の送り速度の両者を調整することで!l維の直径を調整
することが出来る。
以上のようにして得た試料A〜Dの粉末につき、240
0℃加熱下で抽出される酸素量の比較を行った。その結
果を第1表に示す。
第  1  表 この第1表から明らかなように400〜700ppIl
l程度の酸素量を含有する原料(電解Cr塊)を、上記
条件で粉砕した後の、試料A、B、Cの酸素lは原料の
約1.1〜2倍に増加していることがわかる。一方原料
の電解Cr塊を所定条件で真空溶解すると内蔵ガスの除
去によって酸素量は大幅に減少(200ppm前後)す
る。これを12時間、アルゴン中でボールミルにより粉
砕した試料Cは、吸着ガス量の増加が著しく大きいが、
切削によって瞬間的に繊維とした試料りでは酸素量の増
加は若干程度である。
尚、粉砕後の試料A、B、Cを真空中900℃で酸素処
理しても、又水素中950℃で熱処理しても、粉砕後の
数値と変化なく脱酸素の効果は少ない。従ってガスに対
しては、原料レベルでの酸素量を低くした上で粉砕化工
程の管理が重要であることを示している。試料りを得る
場合、工具の刃幅を約0.2 mumにしたところ直径
とほぼ同じ長さを持つ長さ/直径の比がほぼ1のCrも
得て、酸素口を測定した結果、240〜3001)rl
mであることを確認した。従って、試料りは耐電圧特性
およびしゃ断性能が向上することが明らかである。
本発明の電気接点材料の一実施例は、上記の知見に基い
て完成され、次のような特徴を有する。
(イ>cu−cr金合金於てCrは直径が20〜250
μ−でかつ長さが150〜20000μ…の微細化(粉
末又は繊維化)であること。(ロ)Qu−Cr合金中に
占めるCr量は10〜90重置%であること。
このような特徴を有する電気接点材料は実験によればし
ゃ断性能および高耐電圧特性が安定して得られることが
わかる。
従来の球状のCrは、その表面に一度汚染(主として酸
化)を受けると、前処理又は焼結、溶浸工程の加熱でも
回復が困難であり、Cr粉これら汚染は、焼結溶浸の阻
害のみならず、汚染物質へのアーク集中、それに付随す
る異常続弧(アーク時間が著しく長い環条)を増長し、
かつ著しい損傷が起きやすいが、本発明の接点材料はそ
のようなことはない。
また本発明ではOrとして微細化したCr特にmi状の
Crであることから、CLIの量を広範囲に設計するこ
とができ、導電率、接触抵抗の調整を有利に行える。こ
れは従来の粒状(球状)のCrを使用する場合には、5
0%の空隙率を確保するが技術的限度であるのに対し、
本発明による微細化したCrを使用するとスケルトン空
隙率を90%程度にでき、従って、立体的に広い空間を
容易に得ることができる。ざらに微細化したCrを使用
することにより、機械的および熱的衝撃による接点面の
ミクロ的亀裂の進展を阻止できるという副次的な効果も
得られる。
上記電気接点材料は次のように変形しても上記実施例と
同様な効果が得られる。Crの一部又は全部をTi  
(チタン)、■(バナジウム)の群の少なくとも1種で
置換し、残部がCLI又は及びAct  (W4)より
なるものであってもよい。CrとしてはあらかじめCu
又は及びA(Iを含、有したCr−CLI素材、Cr−
Aa素材であってもよい。
またCr素材の一部をCrとの比率が30重量%未満の
co、l”eの少なくとも1種で置換したものでもよい
上記した本発明の電気接点材料は、次のようにして製造
される。例えばC1−Cr合金の場合、原料として使う
0rlllltは、金属Cr塊をジルコニア坩堝に収納
し、lXl0−’Torrの非酸化性雰囲気中で約20
分間、真空溶解し真空中で冷却固化して得たCrインゴ
ットの円柱を、回転装置に取りつけ、例えば20回転/
秒で回転する上記Crインゴット端面を、平均送り速度
が例えば0.1順/秒で端面方向に移動する切削工具に
よって上記した直径及び長さを持つCr1l維を31/
分の流量のアルゴン雰囲気中で瞬時に得る。
上記Cr繊維をカーボン容器中へ自然充填、若しくは0
.5〜7トン/cdの加圧充填によって収納後、カーボ
ン容器と共に露点−70”以下の水素、若しくは真空度
lX1O−BTorrの真空中で温度1200℃、時間
1時間で焼結し、Qr繊維スケルトンを得る。スケルト
ン中の空孔は、Cr1l維の成形時の圧力、焼結温度、
時間によって調整し、所望の空孔率を持つスケルトンを
得る。次いでスケルトン中の残存空孔中にCLIを真空
度1X10−6Torr 、fA度1150℃゛時間1
時間で溶浸させCr1lliを含有したCu−Cr接点
素材を得る。
その後、所定形状に加工し電気接点を得る。
尚、上記製造方法においてCrの代りにV。
7iであっても、又Crの一部にV、Tiが含有されて
いても、更にはCrの一部に30%の未満のFe、Co
によって代替しても上記と同じ方法で接点素材を作るこ
とができる。
又、Cuの一部又は総てをAgで代替しても同じ方法で
接点素材を作り得る。ざらにCr繊維を製造するのに機
械振動を与えたが、電気振動であってもよい。
上記製造方法で用いられる容器は、金属粉末を収納する
うつねであり、例えば、中空部を有しかつ少なくとも一
面に開口部を有する器状の、もしくは、平板状のもので
ある。この容器は、金属粉末とともに焼結される。した
がって、焼結温度で溶融する材料で容器がつくられてい
る場合、接点に含有することのできる材料に限定される
。例えば、CuやA(lである。容器壁の厚さについて
は、収容物を強度的に十分支えられる厚さが下限となり
、具体的には10μ1以上と考えられ、又その厚さの上
限は、焼結溶浸後の組成の狂いを増長させたり、ガス源
とならないよう極力薄い方が好ましく、例えば1M以内
である。しかし、焼結温度で溶融しない材料である場合
、特に限定されないが、例えば、炭素質材料やセラミッ
クス材料などを用いるこができる。
本発明において金属粉末の容器への充填・成形は、好ま
しくは、1.5トン/ cti以下の外圧もしくは充填
された粉末の自重の圧力で行われる。すなわち、容器が
成形体の型になっている場合には、金属粉末を容器内に
自然落下させたままで粉末の自重の圧力で成形すること
ができる。さらに、外部から 1.5トン/ cm以下
の低圧で粉末を直接的に、もしくは容器ごと成形するこ
ともできる。
又、溶浸するC1又はAgIが少ないときには成型時の
圧力を7トン/ ci程度まで任意に選択するが、あら
かじめ成型したCr繊維を用いることも出来る。接点の
用途に応じ溶着現象を軽減化させるのに有効なり i、
Pb、Te、Sb、Seの少なくとも1種をcu −c
r m維系合金中に、少なくとも0.1重量%含有させ
ることも出来る。
第1図は、本発明による電気接点材料を適用する真空バ
ルブの一構成例を示す正断面図であり、第2図はその要
部拡大図である。しゃ断至1は、セラミック等の絶縁材
料によりほぼ円筒状に形成された絶縁容器2と、この両
端に密閉機構3.3aを介して設けた金属蓋体4および
5とで真空気密に区画されている。しかして、このしゃ
新卒1内には、一対の電極棒6.7の互いに対向する端
部にそれぞれ固定電極8および可動電極9が配設されて
いる。また、上記可動電極9の電極棒7には、ベローズ
1oが取付【プられ、しゃ新卒1内を真空気密に保持し
ながら、電極9の往復動による一対のI!ff18.9
の開閉を可能にしている。またこのベローズ10はフー
ド11により覆われ、アーク蒸気の被着を防止しており
、またしゃ新卒1内には更に円筒状金属容器12が設け
られ、絶縁容器2へのアーク蒸気の被着を防止している
一方、可動電極9は、その拡大構造を第2図に示すよう
に、導電棒7にロウ材13によって固定されるか、又は
かしめによって圧着接続(図示せず)されており、その
上には可動接点14がロウ材15によって接合されてい
る。また固定電極8の詳細構造(図示せず)も向きが逆
となるのみでほぼ同様であり、これには固定接点14a
か設けられている。
本発明の電気接点材料は、上記したような接点14.1
48の双方またはいずれか一方を構成するのに適したも
のである。
以下、本発明の製造方法の具体例について説明するが、
はじめに比較例1〜3について説明する。
約50%のCrを含有するCu−50Cr合金を試作す
る。Cr素材は上記0.5〜1cIRの大きざに砕いた
電解Cr塊をアルゴンガスで満したステンレス製ポット
(比較例−1)、及びアルゴン気流を流した密閉容器中
に設置したスタンプミル及びらいかい機(比較例−2)
、及び同電解Cr塊をジルコニア製坩堝を用いて約5X
10−’Torr 、2000℃で真空溶解を行ったC
rを比較例−1と同じようにアルゴンガスで満したステ
ンレス製ポット(比較例−3)の如く、夫々の条件で約
12時間粉砕し、74μm及び149μmのふるいを用
いて平均粒径105μmの粉末を選び出した。
夫々のCr粉末を別々に、黒鉛ボートに自然充填した後
(比較例−3のみは若干の加圧によって充填)真空中1
X10−’ Torr 、1時間焼結し空孔率約50%
の純スケルトンを得て、更にその空孔中に別に用意した
真空溶解銅を真空中5×1O−6Torr 、1時間で
、Cuを溶浸し、CLI−Cr素材を作製した。次に述
べる評価条件でガス量、切削時のCrの脱落数、静耐圧
、しゃ断電流限界などの評価を行いその結果を第2表に
示した。
評価条件 酸素=5厘立方の試験片を切出し2400〜26oO℃
のカーボンカプセル中に挿入し抽出する。
耐電圧特性:別布研磨により仕上げたNi  にッケル
)針電極を陽極とし同じく別布研磨により仕上げた各種
試料平板を陰極とし、10− ” Torrの真空中に
おいて電圧を徐々に上昇させ、スパークを発生したとき
の電圧値を測定し、破壊時の電圧(kV)とした。
しゃ断電流限界比率:直径70tmの接点を有するテス
ト用モデル真空バルブを開閉装置に取付けると共に電極
表面をエージングした後モデル真空バルブを12kVの
回路に接続し、0.5〜4  kAステップで電流も増
加させながらしゃ断しこの時のしゃ断が限界となる電流
値を求め、粉砕によって得たCr粉を原料として作製し
たCu −50Cr  (比較例−1)の電流値を10
0とし、その比率で示した。
上記比較例において、ガス量はいずれも200〜400
 ppmであり、静耐圧は66〜70kV、しゃ断電流
限界も比較例−1を100とした場合の90〜100%
の範囲で、大差ない。比較例−3は他の比較例−1,2
に比べ、切削時のCrの脱落の面で優れている。繊維状
のOrが脱落の面で効果を発揮していることを示してい
るが、長時間の粉砕による表面汚染の影響で、他の特性
では優位性を示していないことが判る。
次に具体例1〜4について説明する。
上記と同じ電解Cr塊を、比較例−3と同じジルコニア
製坩堝を用い5x 10’ Torr 、約2000℃
で真空溶解を行った直径80m、長さ1100aのCr
インゴットを、高速で回転させながらアルゴン気流中で
上記インゴットの端面を切削工具によって瞬時に切削し
その切屑を収集する。
上記インゴットの回転数、切削工具刃の送り速度を調整
しながら繊維の平均直径をほぼ一定の約150〜180
μ―に揃えながら、切削工具の刃の幅を調整しながら繊
維の平均長さを0.1mm(具体例−1)、0.3屈(
具体例−2〉、2.2m (具体例−3)、20am<
具体例−4)持つものを作り、Cu−Cr合金用のCr
原料とした。各長さを持つCr繊維を黒鉛坩堝に加圧充
填した後、真空中1XIQ−’ Torr 、1時間の
条件で焼結し、空孔率約50%の純Crスケルトンを得
た。
なお、黒鉛坩堝中へのCr繊維の導入は自然充填で行う
とCu量を50%近傍と規定するとややC1量が多過ぎ
る為、空孔を調整する意味で加圧し、またCu量が50
%以上を目標とする場合には、自然充填法も活用するこ
とができる。
次いで別に用意した真空溶解銅を真空中5×10−’ 
Torr 、 1時間でCuを溶浸し、Qu −Cr素
材を作製した。上記した評価条件でガス量、切削時のO
rの脱落数、静耐圧、しゃ断電流限界などの評価を行い
その結果を第2表に併記した。
ガス量はいずれも1001)I)1程度で上記粉砕によ
って得たCrを使用した場合(比較例1〜3)より少な
く 1/2〜1/3程度である。01雑の長さが0.1
5NI(具体例−1)及びそれ以上(具体例2〜4)で
は、Cr脱落が極端に少なく、接点表面のミクロ的荒れ
が少ないため初期状態の耐電圧特性(静耐圧)が、70
kV以上と安定している点に、しゃ断電流の限界も、粉
砕によるCrを用いた比較例−1を100としたとき、
約30%の向上が認められている。これらは所定の素材
を管理した状態の雰囲気中で表面汚染させることなく瞬
時に粉体化させる必要性を示し、更に、Crを繊維化す
ることで表面からのCrの脱落も軽減化させ相乗的に静
耐圧特性としゃ所持性の維持向上に寄与したものと推察
される。以上の観点から、Cr1llftの長さは0.
15m+++(具体例−1)以上を必要とし、その上限
は20s以上になると切削時に折損する場合があり、略
20順程度と考えられる。
具体例1〜4と同じ方法でCu−50Cr合金を試作し
た、Cr繊維の直径が20μm (具体例−4)、同じ
<250μm  (具体例−5)の素材を用いた場合、
70kV以上の静耐圧値と、30%以上のしゃ断電流限
界の向上が確認される。これはガス量が粉砕法によって
得たC「粉末を用いた比較例1〜3に比し1/2〜1/
4であることと、素材レベルでの切削時のCrtlR落
が少ないことなどが寄与しているものと推察される。し
かしCrl!1の直径が20μI以下のものは、切削法
によって瞬時に得るには折損が多(最内な確保が困難で
あり、又Cr1m1の直径が大となるとCr同志の接触
のチャンスが増加する傾向にある為、250μmを限度
とする。Cr同志の接触は耐溶着性を低下させる要因と
なる。以上からCrJ&i維の直径は20〜25μ−の
範囲に制御するのが好ましいが、直径は取扱い性の観点
から繊維の長さとの比(長さ/直径)によっても規定さ
れるべきで、例えばこの比が極端に大きい状態(例えば
104倍)は避けるべきであり、この比が1以下の繊維
は、製造技術上現実的でない。
具体例1〜6は、総て焼結、溶浸共、真空中雰囲気で行
った例を示したが、焼結を水素、溶浸を真空中で行って
も第3表で示すように同様の特性が得られている(具体
例7,14〜15.17)。
また、具体例1〜7.14〜17は、Cr1iをほぼ5
0%のものにつき示したが、Crlが10%(具体例−
8>、Crmが90%(具体例−9)の場合でも同様の
特性が得られている。
更に、具体例1〜9.16は、Cu−Cr系合金につき
示したが、Tiの場合(具体例−10)、■の場合(具
体例−11)でも、同じ効果が得られている。
一方、具体例1〜11.16はCLI −Cr 2元素
につき示したが、Cr−Ti<具体例−12)、Cr 
−V (具体例−13> 、Cr −Co  (具体例
−14) 、Cr −Fe  (具体例−15)に於て
も同じ効果が得られている。
以上に述べた具体例8〜15と対比させるため総ての試
料につき比較例−1〜3と同じように粉″砕によって各
Cr又はCr Ti、Cr V、Cr Co 。
CrFe合金を得て同様の測定を行ったが、比較例1−
3と同様の傾向にあった。
Cu−Cr接点を作製する場合、比較例1〜3、具体例
1〜9などで用いたようなCrのみのスケルトンではな
く、スケルトンを作る時点で最終的に必要とするCul
の一部(具体例−16では50%のうちの5%)Crに
混合しておき、この混合粉(Crll帷95%:Cu粉
5%)を黒鉛ボードに充填し、焼結、溶浸を行い接点素
材とする方法の場合に適用しても同じ効果が得られてい
る(具体例−16)。
具体例17は次の通りである。約50%のCrを含有し
たCu−Cr接点を、外径25酎φの一対の円板状試料
と、外径25IIIIIφ先端が10ORの球面をなす
加圧ロンドに加工しこれらを対向させ11001(の荷
重を加えて10″5履TOrrの真空中に於て、50H
2,20k Aの電流を20ミリ秒間通電し、その時の
試料とロッドの間の引きは、ずしに要する力を測定し耐
溶着性を評価すると、約60〜90Kgの引きはずし力
を要する。一方これにロッド0,1%程度以上のBi 
 <具体例−17では0,5%Bi)を添加すると5〜
30 K9程度に改良される。他の補助材料Pb  (
鉛)、Te(テルル)、Se(セレン)、Sb(アンチ
モン)なども同様の改良がなされる。このような補助材
料を含むC11−Cr合金に対しても本発明条件による
微細化(繊H)は静耐圧、しゃ断電流限界に対しても効
果を示す。
[発明の効果] 以上述べた本発明によれば、しゃ断性能および高耐電圧
特性が安定して得られる電気接点材料およびその製造方
法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による電気接点材料が適用されるバルブ
の一構成例を示す正断面図、第2図は第1図の要部を拡
大して示す図である。 1・・・絶縁容器、6.7・・・電極棒、8・・・固定
電極、9・・・可動電極、14・・・可動接点、14a
・・・固定接点。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Cr、Ti、Vの中から選ばれた少なくとも1種
    の耐火材料と、Cu、Agの中から選ばれた1種の高導
    電材料とからなる合金において、前記耐火材料は直径が
    20〜250μmでかつ長さが150〜20000μm
    に微細化したことを特徴とする電気接点材料。
  2. (2)CrとCuとの量比が10〜90重量%である特
    許請求の範囲第(1)項記載の電気接点材料。
  3. (3)耐火材料はCrとCo、Feの少なくとも1種の
    量比が30重量%未満である特許請求の範囲第(1)項
    記載の電気接点材料。
  4. (4)補助成分としてBi、Pb、Te、Se、Sbの
    中から選ばれた少なくとも1種を0.1〜10重量%を
    含有した特許請求の範囲第(1)項記載の電気接点材料
  5. (5)Cr、Ti、Vの中から選ばれた少なくとも1種
    の耐火材料を非酸化性雰囲気の中で溶解又は焼結して素
    材を得、これを非酸化状態で微細化し、これを焼結して
    得られたスケルトンの空隙に、Cu、Agの中から選ば
    れた1種の高導電材料を溶浸させて得る電気接点材料の
    製造方法。
  6. (6)素材の微細化はCr、Ti、Vの中から選ばれた
    少なくとも1種の耐火材料又は及び切削工具を電気的又
    は機械的に振動させながら、最終形状、大きさに瞬間的
    に行う特許請求の範囲第(5)項記載の電気接点材料の
    製造方法。
  7. (7)非酸化性雰囲気は真空又は水素中である特許請求
    の範囲第(5)項記載の電気接点材料の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6386836A (ja) * 1986-09-30 1988-04-18 Toshiba Corp 真空バルブ用接点合金
JPS6386835A (ja) * 1986-09-30 1988-04-18 Toshiba Corp 真空バルブ用接点合金
CN102903417A (zh) * 2012-10-29 2013-01-30 黄宣斐 便携式电话的电池引线
CN110983097A (zh) * 2019-12-11 2020-04-10 哈尔滨东大高新材料股份有限公司 一种银钒触头材料及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53146904A (en) * 1977-05-27 1978-12-21 Mitsubishi Electric Corp Preparation of material of contact for vacuum circuit breaker
JPS57188636A (en) * 1981-05-15 1982-11-19 Omron Tateisi Electronics Co Electrical contact material

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53146904A (en) * 1977-05-27 1978-12-21 Mitsubishi Electric Corp Preparation of material of contact for vacuum circuit breaker
JPS57188636A (en) * 1981-05-15 1982-11-19 Omron Tateisi Electronics Co Electrical contact material

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6386836A (ja) * 1986-09-30 1988-04-18 Toshiba Corp 真空バルブ用接点合金
JPS6386835A (ja) * 1986-09-30 1988-04-18 Toshiba Corp 真空バルブ用接点合金
CN102903417A (zh) * 2012-10-29 2013-01-30 黄宣斐 便携式电话的电池引线
CN110983097A (zh) * 2019-12-11 2020-04-10 哈尔滨东大高新材料股份有限公司 一种银钒触头材料及其制备方法

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