JPS61124197A - セラミツク多層基板の製造方法 - Google Patents

セラミツク多層基板の製造方法

Info

Publication number
JPS61124197A
JPS61124197A JP24519584A JP24519584A JPS61124197A JP S61124197 A JPS61124197 A JP S61124197A JP 24519584 A JP24519584 A JP 24519584A JP 24519584 A JP24519584 A JP 24519584A JP S61124197 A JPS61124197 A JP S61124197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic
holes
manufacturing
ceramic green
multilayer substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24519584A
Other languages
English (en)
Inventor
島崎 新二
浩一 熊谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP24519584A priority Critical patent/JPS61124197A/ja
Publication of JPS61124197A publication Critical patent/JPS61124197A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 定業上の利用分野 この発明はテレビ、ラジオ、VTR、通信機等の電気回
路に用いるセラミック多層基板の製造方法に関するもの
である。
従来の技術 従来この種のセラミック多層基板は、例えば第2図のよ
うに1.2.3の順序で製造されていた。
34−7・ すなわちまず1のようにセラミックグリーンシート1に
プレス打ち抜き又は、ドリルにより孔2を明ける。次に
2のようにスクリーン印刷法により導体ペースト3をセ
ラミックグリーンシート1の表面、孔2内に形成し後に
乾燥する。次に3のように1から2までの加工を行った
各パターンのセラミックグリーンシートを設計に従かい
積層−一体化した後、所定の焼成条件にて焼成し、セラ
ミック多層基を製造している。
発明が解決しようとする問題点 しかし、この様な方法で製造する場合、各層のセラミッ
クグリーンシートに対して個別に孔明は加工をする必要
があり、この孔明は工程での製造コストの非常に大きな
ものになると云う問題があった。
つまり、セラミックグリーンシート1に孔2を加工する
方法として通常、金型によるプレス打ち抜き法で一括し
て全孔を明ける方法、一孔ずつ明ける方法が行われてい
る。前者の一括方法の場合、打ち抜き金型の加工に関し
て非常に高度な技術が要求され、その結果、非常に高価
で製作日数も多く、を要するものとなっている。さらに
金型の摩耗や破損に備えて上記のような高価で長期間要
する金型を複数面用意E7ておかなければならないこと
、又回路パターンのどんなに小さな変更に対してもその
都度金型を作成しなければならないのである。
一方、一孔ずつ明ける方法の場合、一般的にはグリーン
シートがx−Yテーブルに固定され、X−Yテーブルの
NO制御駆動により所定位置に孔明されるので、上記の
一括方法に比べて回路パターンの変更に対してプログラ
ム上で変更処理ができると云った利点がある。しかし々
がら一孔当りの所要時間が通常1秒も必要であり、−話
方法に比べて桁ちがいに加工工数を要し、その結果、量
産において使用不可能な問題がある。すなわち、いずれ
の場合も各層ごとに個別に孔明は加工をしなければなら
ない点でコスト量産性に大きな問題を有していた。そこ
で、本発明は上記問題点を克服し、仮に回路パターンの
変更あっても低コストでセラミック多層基板を製造でき
るようにするものであ5 ベージ る。
問題点を解決するだめの手段 上記問題点を解決するだめの技術的な手段は、積層する
複数のグリーンシートを個別に孔明は加工するのではな
く、各グリーンシートに同一の格子状に一定間隔で孔明
けし、所定の回路パターンを導体ペーストにて形成した
後、これを積層して多層基板を製造するものである。
作    用 この技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、回路パターンが変更されても層間導通のだめ
の孔は一定間隔に金型で一括孔明は加工されたものを用
いているから、回路パターンごとに金型を用意する必要
はなく、各グリーンシート上のパターンの変更と、これ
にともなう導通孔位置が変更されるのみでよい。また層
間の絶縁性を完全にしたい場合は、不用部分の孔に電気
絶縁性ペーストを形成することで確保できる。
この結果回路パターンが変更されても従来のようにその
都度孔明は用金型を作成する必要がなく6 ベージ なり、かつ層間絶縁性は従来と同様に信頼できるもので
ある。
実施例 以下、本発明の一実施例を添付図面にもとづいて説明す
る。
第1図において1.2,3.4は、この順番で本発明に
よるセラミック多層基板の製造方法を示す。
1において、セラミックグリーンシート4は、アルミナ
粉末とポリビニルブチラール系の樹脂バインダー、フタ
ル酸エステル系の可塑剤、アルコール系の溶剤とを混合
した後乾燥厚みで200μm程度にドクターブレード法
にてシート成形したものである。それを2.5閣  間
隔でO、smmφの孔5を金型にて孔明は加工する。
次に2において孔明は加工したセラミックグリーンシー
ト4の表面、孔6に導体ペースト6をスクリーン印刷法
にて所定のパターンを形成する。
この導体ペースト6は、タングステン粉末ヲセルロース
系のバインダーと混合したものである。
7 ページ 次に3において所定の回路パターンに導体ペースト6を
印刷形成したセラミックグリーンシート4の導体ペース
ト6が形成していない不用孔7に対して、スクリーン印
刷法により電気絶縁性ペースト8を形成する。この電気
絶縁性ペースト8はセラミックグリーンシート4に含ま
れる同様のアルミナ粉末とセルロース系のバインダーと
を混合したものである。
次に4において導体ペースト8による回路パターン、電
気絶縁性ペースト8による不用孔7への絶縁層形成を行
ったセラミックグリーンシート4を回路設計に従かい複
数枚積層し80℃程度の加温下でプレスにて2ooKq
/cr/l程度の加圧力で一体化させる。次に積層体の
外形をナイフにて切断し、所定の外形寸法に整え、電気
炉にて焼成を行う。
焼成条件は、まず水蒸気下で有機分を焼失させた後、水
素雰囲気中にて1600 ’C程度の温度で焼成を行い
セラミック多層基板を作成する。
発明の効果 本発明は、セラミックグリーンシートヘ一定間隔の格子
状に孔加工した複数のセラミツフグIJ −ンシートを
用意し、この各セラミックグリーンシートに所定の回路
パターンを形成し、同時に回路パターンに従かい上記格
子状の孔の必要個所に導体ペーストを形成したもので、
さらに絶縁性を向上させる場合は導体ペーストの形成し
ていない不用の孔に電気絶縁性ペーストを形成し層間の
電気絶縁性を保つものであり、多数の孔打ち抜き用の金
型を必要としない非常に低コストのセラミック多層基板
の製造方法を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の製造方法を示す主要工程ご
との仕掛り品の断面図、第2図は従来の製造方法を示す
主要工程ごとの仕掛り品の断面図である。 1.4・・・・・・セラミックグリーンシート、2,6
・・・・・・孔、3,6・・・・・・導体ペースト、7
・・・・・・不用孔、8・・・・・・電気絶縁ペースト
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名城 ィー一−でラミ・1フグ′リーンシー12−−−  )
ら 3−一一劃苓4−一又Y

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一定間隔の格子状に孔明け加工した複数のセラミ
    ックグリーンシートを用意し、各セラミックグリーンシ
    ート上及び孔内に導体ペーストを形成して所定の回路パ
    ターンを形成する工程と、上記加工を行った各回路パタ
    ーンごとのセラミックグリーンシートを必要数積層し、
    上記格子状に形成した各孔が積層方向に一致するように
    して一体化して焼成するセラミック多層基板の製造方法
  2. (2)上記各セラミックグリーンシートの導体ペースト
    を形成していない孔には、電気絶縁性ペーストを形成す
    る工程を付加することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のセラミック多層基板の製造方法。
  3. (3)セラミックグリーンシートが電気絶縁性のセラミ
    ック粉体と樹脂バインダーから成る特許請求の範囲第1
    項記載のセラミック多層基板の製造方法。
  4. (4)セラミックグリーンシートの孔明け加工にプレス
    打ち抜き法あるいはドリル法を用いる特許請求の範囲第
    1項記載のセラミック多層基板の製造方法。
  5. (5)導体ペーストが導電性金属とその酸化物および有
    機材料との混合物からなる特許請求の範囲第1項記載の
    セラミック多層基板の製造方法。
  6. (6)電気絶縁性ペーストがセラミックグリーンシート
    の電気絶縁性セラミック粉体と有機材料との混合物から
    なる特許請求の範囲第2項記載のセラミック多層基板の
    製造方法。
JP24519584A 1984-11-20 1984-11-20 セラミツク多層基板の製造方法 Pending JPS61124197A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24519584A JPS61124197A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 セラミツク多層基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24519584A JPS61124197A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 セラミツク多層基板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61124197A true JPS61124197A (ja) 1986-06-11

Family

ID=17130032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24519584A Pending JPS61124197A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 セラミツク多層基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61124197A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0497062U (ja) * 1991-01-22 1992-08-21
JPH04100456U (ja) * 1991-01-25 1992-08-31
JPH04121252U (ja) * 1991-04-19 1992-10-29 株式会社吉野工業所 合成樹脂製口栓
JPH06275955A (ja) * 1993-03-24 1994-09-30 Nec Corp セラミック多層配線基板の製造方法
JP2010068011A (ja) * 2009-12-24 2010-03-25 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層配線基板の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55115389A (en) * 1979-02-27 1980-09-05 Fujitsu Ltd Obliquely wired printed board
JPS55156393A (en) * 1979-04-27 1980-12-05 Fujitsu Ltd Multilayer printed board
JPS56100495A (en) * 1980-01-16 1981-08-12 Fujitsu Ltd Method of manufacturing ceramic multilayer printed circuit board

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55115389A (en) * 1979-02-27 1980-09-05 Fujitsu Ltd Obliquely wired printed board
JPS55156393A (en) * 1979-04-27 1980-12-05 Fujitsu Ltd Multilayer printed board
JPS56100495A (en) * 1980-01-16 1981-08-12 Fujitsu Ltd Method of manufacturing ceramic multilayer printed circuit board

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0497062U (ja) * 1991-01-22 1992-08-21
JPH04100456U (ja) * 1991-01-25 1992-08-31
JPH04121252U (ja) * 1991-04-19 1992-10-29 株式会社吉野工業所 合成樹脂製口栓
JPH06275955A (ja) * 1993-03-24 1994-09-30 Nec Corp セラミック多層配線基板の製造方法
JP2010068011A (ja) * 2009-12-24 2010-03-25 Shinko Electric Ind Co Ltd 多層配線基板の製造方法
JP4482613B2 (ja) * 2009-12-24 2010-06-16 新光電気工業株式会社 多層配線基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6852569B2 (en) Method of fabricating multilayer ceramic substrate
JPS61124197A (ja) セラミツク多層基板の製造方法
JP3351043B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JPH09260844A (ja) セラミック多層基板の製造方法
JPH09260187A (ja) セラミック電子部品の製造方法
JPS6235257B2 (ja)
US6103354A (en) Ceramic circuit substrate and method of fabricating the same
EP0132615B1 (en) Method of making a matrix print head
JP2551221B2 (ja) セラミック多層配線基板のスルーホール構造
JP2002185136A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2822811B2 (ja) 多層配線基板の配線構造
JPH0225094A (ja) セラミック多層配線基板の製造方法
JPH084193B2 (ja) 多層セラミツク回路基板の製造方法
JPH0766554A (ja) セラミックス基板の製造方法
JP2757874B2 (ja) 窒化アルミニウム基板の焼成方法
JPH0521958A (ja) 多層配線基板の積層体及びその製造方法
JP3166953B2 (ja) セラミック電子部品の製造方法
JPH11274359A (ja) セラミック多層回路基板の製造方法およびセラミック多層回路基板用親基板
JPH06291463A (ja) 多層配線セラミックス基板およびその製造方法
JPS59132643A (ja) 抵抗複合基板
JPH10294561A (ja) 高脱バインダ性多層配線基板およびその製法
JPH0317206B2 (ja)
JPH097883A (ja) 積層セラミックコンデンサの製造方法
JPH0131320B2 (ja)
JPS58131727A (ja) 積層磁器コンデンサの製造方法