JPH06291463A - 多層配線セラミックス基板およびその製造方法 - Google Patents

多層配線セラミックス基板およびその製造方法

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JPH06291463A
JPH06291463A JP7428893A JP7428893A JPH06291463A JP H06291463 A JPH06291463 A JP H06291463A JP 7428893 A JP7428893 A JP 7428893A JP 7428893 A JP7428893 A JP 7428893A JP H06291463 A JPH06291463 A JP H06291463A
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green sheet
via holes
conductor
multilayer wiring
ceramic substrate
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Tadahiko Morimoto
忠彦 森本
Michio Asai
道生 浅井
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Abstract

(57)【要約】 【目的】可及的にビアホール穿設用の金型を共通化して
個数を減らすことにより、コストダウンを図るとともに
保守、管理を容易にする。 【構成】ビアホール穿設用金型を用いてグリーンシート
10に多数のマトリックス状のビアホールを穿設する。
次に、前記ビアホール12に導体ペースト14を介して
穴埋めした導体中、上下層間の配線パターン同士の導通
を必要とするものについてはそのまま外部に露出させ、
導通を不要とする導体には絶縁層16で被覆する。従っ
て、所望の配線パターンに必要な導体のみを選択し、残
余のものを絶縁層16で被覆して非導通状態とすること
によって、複数の種類の配線パターンに適用することが
可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多層配線セラミックス
基板およびその製造方法に関し、特にビアホールの穿
設、ビアホールの穴埋めおよび配線パターンを施した複
数のグリーンシートを積層・一体化してグリーンシート
積層体を形成し、さらに、前記グリーンシート積層体を
焼成することにより形成する多層配線セラミックス基板
およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】多層配線セラミックス基板の製造工程に
おいて、ビアホールを穿設する際、金型でグリーンシー
トを保持し、前記金型に設けられた複数本のポンチで穿
孔することにより、グリーンシートに対してビアホール
を穿設している。その際、異なる製品の各セラミックス
基板に対応してビアホールの位置等が異なることから、
個々の異なる製品のセラミックス基板において異なるビ
アホールの位置に対応して複数の種類のビアホール穿設
用金型を用意しているのが一般的である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ように複数のセラミックス基板の種類に対応して複数の
種類の金型を用意することは、金型自体が非常に高価な
ものであることから、多大な費用が必要となり、結局、
基板自体のコストが上昇する。また、このように高価な
金型を保守、管理するために多大なスペースとその保守
人員が必要とされる。
【0004】本発明は、このような点に鑑みてなされた
ものであって、可及的にビアホール穿設用の金型を共通
化して個数を減らすことにより、コストダウンを図ると
ともに保守、管理を容易にして製造される多層配線セラ
ミックス基板およびその製造方法を提供することを目的
とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、ビアホールの穿設、ビアホールの穴埋
めおよび配線パターンを施した複数のグリーンシートを
積層・一体化してグリーンシート積層体を形成し、さら
に、前記グリーンシート積層体を焼成することにより多
層配線セラミックス基板を形成する多層配線セラミック
ス基板の製造方法において、グリーンシートにマトリッ
クス状の複数のビアホールを設ける工程と、前記マトリ
ックス状の複数のビアホールの各々を導体により穴埋め
する工程と、前記導体によるビアホールの穴埋めの後、
前記穴埋めした導体中、上下層間の配線パターンとの導
通を不要とする導体を覆う絶縁層を形成する工程と、前
記絶縁層で覆われた導体を除く残余の導体に接続される
配線パターンを前記グリーンシート上に形成する工程
と、を有することを特徴とする。
【0006】また、本発明は、前記絶縁層が前記グリー
ンシートの表裏両面に前記導体を覆って形成されること
を特徴とする。
【0007】さらに、本発明は、ビアホールの穿設、ビ
アホールの穴埋めおよび配線パターンを施した複数のグ
リーンシートを積層・一体化してグリーンシート積層体
を形成し、さらに、前記グリーンシート積層体を焼成す
ることにより形成された多層配線セラミックス基板であ
って、前記多層配線セラミックス基板の少なくとも一層
にはマトリックス状に複数のビアホールが設けられ、前
記複数のマトリックス状のビアホールの各々には導体が
埋め込まれ、前記複数のビアホールは上下層間の配線の
接続に使用されるビアホールと、前記配線の接続に使用
されないビアホールとからなることを特徴とする。
【0008】
【作用】上記の本発明に係る多層配線セラミックス基板
およびその製造方法では、予め、ビアホールを穿設する
際、マトリックス状に複数個のビアホールを穿設し、前
記ビアホールの全てに導体を埋め込み、次いで、配線パ
ターンとの導通を不要とする導体を各製品に対応したパ
ターン状に絶縁層で被覆して非導通状態とする。この場
合、各配線パターン毎、あるいは各種基板毎にビアホー
ルの配置を変えることがない。従って、前記ビアホール
を穿設する金型を共通して使用することが可能となり、
使用する金型の個数を減少させることができる。しか
も、その保守管理が容易となり且つ金型の占有スペース
を小さくすることができる。また、マトリックス状に穿
設されたビアホールの全てに対して導体が埋め込まれる
ことから、前記導体を介して好適に放熱することが可能
となる。
【0009】
【実施例】次に、本発明に係る多層配線セラミックス基
板についてその製造方法との関係で好適な実施例を挙
げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説明する。
【0010】図1は、本実施例に係る低温焼成用多層配
線セラミックス基板、またはアルミナ多層配線セラミッ
クス基板を製造するためのフローチャートである。以下
では、作業工程が共通しているので異なる点についての
み両者を分けて説明する。この場合、フローチャート
中、第1層とあるのは積層されるグリーンシートが最下
層のものに対するステップであり、第2層とあるのは前
記第1層に積層されるグリーンシートを作るためのステ
ップであり、さらに、第3層とあるのは前記第2層に積
層されるグリーンシートを作るためのステップを示す。
なお、これら三つの層に対してステップS1〜S3、ス
テップS9〜S11は共通である。
【0011】そこで、この実施例では、グリーンシート
10を構成するセラミックス材料として、低温焼成用多
層配線セラミックス基板用にアルミナ粉末とガラス粉末
とを複合した低温焼成用のガラスセラミックス、またア
ルミナ多層配線セラミックス基板用にアルミナセラミッ
クスが夫々用いられる。
【0012】先ず、原料粉末を所定の配合比に調整して
粉体調整を行う(ステップS1)。低温焼成用多層配線
セラミックス基板においては、ガラス粉末/アルミナ粉
末の重量%比を65〜55/35〜45%としている。
【0013】上記のように調整された粉末(低温焼成用
多層配線セラミックス基板にあってはガラス粉末とアル
ミナ粉末、アルミナ多層配線セラミックス基板にあって
はアルミナ粉末とシリカ、カルシア、マグネシア等の焼
結助剤粉末)、バインダー、可塑剤および溶剤を混合し
てスラリーを形成する(ステップS2)。
【0014】次に、周知のドクターブレード法等によ
り、上記のようなガラスセラミックス材料またはアルミ
ナセラミックス材料から長尺帯状のグリーンシートを形
成する(ステップS3)。この場合、前記ガラスセラミ
ックス材料からなるグリーンシートは、その厚さTを、
例えば、0.1mmとし、アルミナセラミックス材料か
らなるグリーンシートでは、その厚さTを、例えば、
0.4mmとした。なお、以下の説明中、ガラスセラミ
ックス材料からなるグリーンシートを低温焼成用グリー
ンシートと定義し、アルミナセラミックス材料からなる
グリーンシートをアルミナグリーンシートと定義し、特
に両者を区別する必要がない時は、単にグリーンシート
と定義する。
【0015】次いで、ブランクパンチング加工により、
前記多層配線セラミックス基板を構成する各層毎に、長
尺帯状のグリーンシートから略方形状のグリーンシート
10を枠抜きするとともに、以後の加工工程において位
置決めに使用されるガイド孔(図示せず)を穿孔する
(ステップS4a〜4c)。
【0016】次いで、前記ガイド孔に基づいて位置決め
されたグリーンシート10に対して、ブランクパンチン
グ加工により、各グリーンシート10の各層の1個分に
対応する各区画(図示せず)にビアホール12(以下、
必要に応じて、個々の孔部を示す場合にはビアホール1
2aといい、複数の孔部を総称してビアホール12とい
う)を穿孔する(ステップS5b、S5c)。なお、本
実施例では、3層構造からなる多層配線セラミックス基
板を用いて説明することとし、最下層(第1層)のグリ
ーンシート10は、さらに下層のグリーンシート10に
対して導通をとる必要がないため、ビアホール12を穿
孔していない。従って、以下の説明は、第2層および第
3層についてのものであり、再び第1層〜第3層の全て
の層に共通する場合には、改めて明記するものとする。
【0017】このビアホール12は、図2並びに図3に
示すように、マトリックス状に一定のピッチPによって
規格化された複数個の孔部から構成される。低温焼成用
グリーンシートのビアホール12では、ビアホール12
aの直径φが0.15mm、ピッチPが0.35mmで
あり、ビアホール12aが穿孔されていないグリーンシ
ート10の周縁部のスペース幅Sは縦横ともに0.5m
mにした。一方、アルミナグリーンシートのビアホール
12では、ビアホール12aの直径φが0.3mm、ピ
ッチPが0.4mmであり、ビアホール12aが穿孔さ
れていないグリーンシート10の周縁部のスペース幅S
を縦横ともに0.6mmにした。この場合、前記グリー
ンシート10に穿孔されたビアホール12の配置は、通
常、各種基板によって異なるものであるが、本実施例で
は一定のピッチPで規格化されたビアホール12の孔部
に対応するポンチが植設された一種類の金型を用いるだ
けでよい。
【0018】続いて、前記穿孔された複数のすべてのビ
アホール12に対して導体ペースト14により穴埋め印
刷が行われる(ステップS6b、S6c)。前記導体ペ
ースト14は、低温焼成用グリーンシートでは、例え
ば、銀もしくは銅を使用し、一方、アルミナグリーンシ
ートでは、例えば、モリブデンもしくはタングステン
(好ましくはモリブデンがよい)を用いた。
【0019】次に、図5並びに図6に示すように、各種
基板の上下面の配線パターンを導通させるために必要な
導体ペースト14で閉塞されたビアホール12aはその
まま露出させ、その導通の必要のない導体ペースト14
が埋め込まれたビアホール12aおよび残余の部位の全
面にスクリーン印刷等で一括して絶縁層16を形成し
た。けだし、前記導通の必要のない導体ペースト14が
穴埋めされた部位のみに絶縁層16を印刷し、前記絶縁
層16上に配線パターンを印刷した場合、前記配線パタ
ーンは絶縁層16のある部分とない部分とで凹凸が形成
されることになり、この結果、前記凹凸の段差部で配線
パターンの段切れが発生し易くなるからである。なお、
図5において、黒点は、各種基板の上下面の配線パター
ンを導通させる必要がないため導体ペースト14で閉塞
されたビアホール12aに絶縁層16を被覆した部位を
示し、一方、白点は、絶縁層16によって被覆されてお
らずビアホール12aに穴埋めされた導体ペースト14
がそのまま露出している部位を示す。
【0020】この場合、前記絶縁層16は、グリーンシ
ート10の表面のみに印刷してもよいが、グリーンシー
ト10の表裏両面に絶縁層16を印刷した方が好適であ
る。例えば、複数枚のグリーンシート10を重ね合わせ
て加圧することによりグリーンシート積層体を形成する
場合、前記積層される各グリーンシート10の上面には
所定の配線パターンが印刷されているのが通常である。
その際、グリーンシートの表面(上面)に前記絶縁層1
6が形成されているが、その裏面(下面)に前記絶縁層
16が印刷されていないと、前記グリーンシート10の
裏面と接合する他のグリーンシート10の配線パターン
の隣接する配線間に、前記絶縁層16で被覆されておら
ず上下層の導通の不要なビアホール12aに穴埋めされ
た導体が接触することにより、前記配線パターンの隣接
する配線間が導通してショートし、あるいは配線間の耐
圧力が小さくなるからである。このため、好適には、グ
リーンシート10の両面に絶縁層16を印刷した方がよ
い。
【0021】次に、多層配線セラミックス基板の第1層
〜第3層に対応するグリーンシート10の各区画(図示
せず)に所定の配線パターン(ステップS8a〜8c)
が印刷される。また接続を確実にするために、配線パタ
ーンが印刷されない面の導体ペースト14が露出してい
る部分のみに接続用パターン(図示せず)を追加しても
よい。続いて、前記配線パターンの印刷後、各層に対応
するグリーンシート10を下層のものから順に、すなわ
ち、ビアホール12が穿設されていないグリーンシート
10を最下層にその上に第2層に対応するグリーンシー
ト10を積層し、さらに、第3層に対応するグリーンシ
ート10を重ねあわせて、加熱・加圧して一体化したグ
リーンシート積層体を形成する(ステップS9)。
【0022】次に、前記グリーンシート積層体を所定の
位置で切断して、多層配線セラミックス基板の1個分に
相当する個々の積層体に分離する。なお、多数個取りの
場合は必要サイズの積層体に分離する(ステップS1
0)。次いで、前記分離した積層体を焼成炉(図示せ
ず)の中に入れて焼成する(ステップS11)。
【0023】前記積層体の焼成は、アルミナセラミック
ス材料からなるものにあっては、非酸化雰囲気中で、例
えば、1500〜1600°Cの高温で行われ、ガラス
セラミックス材料からなるものであっては、空気中若し
くは窒素雰囲気中で、例えば、850〜1000°Cの
比較的低温で行われる。
【0024】以上のようにして、低温焼成多層配線セラ
ミックス基板、またはアルミナ多層配線セラミックス基
板を製造することができる。この場合、各種基板に対応
した複数の金型を用いる必要がなく、グリーンシートに
対して共通のビアホール穿設用金型を用いればよいこと
から、コストダウンを図ることができる。また、その保
守管理の労力を削減し且つ金型の占有スペースを小さく
することができることから、コストダウン並びにスペー
スの有効利用を図ることができる。さらに、例えば、複
数の金型が交換可能に設けられた穿孔装置においては金
型を交換する作業を要しないため、作業効率を向上させ
ることができる。加えて、穴埋め印刷を行う場合、一定
のピッチPで規格化されたビアホール12を埋めるため
の一種類のビア埋め用メタルマスクを用意するだけでよ
いという利点がある。加えて、マトリックス状に穿設さ
れたビアホール12の全てに対して導体ペースト14が
埋め込まれることから、前記導体ペーストを介して好適
に放熱することが可能な多層配線セラミックス基板を得
ることができる。
【0025】
【発明の効果】本発明に係る多層配線セラミックス基板
およびその製造方法によれば、以下の効果が得られる。
【0026】すなわち、複数のセラミックス基板の種類
に対応して複数の金型を用意する必要がなく、マトリッ
クス状に複数個のビアホールを穿孔する一種類の金型を
共通に用いることができることから、費用を削減するこ
とができる。この結果、基板自体を廉価に製造すること
が可能となる。また、前記限られた種類の金型を保守、
管理すればよいことから、スペースの省力化を図ること
ができるとともに、保守、管理に要する労力を削減する
ことができる。さらに、前記マトリックス状に複数個穿
孔されたビアホールの全てに導体が埋め込まれることか
ら、前記導体を介して効率的に放熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の多層配線セラミックス基板の製造方法
の一例を説明するためのフローチャートである。
【図2】図1に示すフローチャートの工程において、グ
リーンシートにビアホールを穿設した状態を示す説明図
である。
【図3】図2のA−A線に沿った要部縦断面図である。
【図4】図1に示すフローチャートの工程において、グ
リーンシートのビアホールに導体ペーストを穴埋めした
状態を示す要部縦断面図である。
【図5】図1に示すフローチャートの工程において、グ
リーンシートに絶縁層を印刷した状態を示す説明図であ
る。
【図6】図5に示すB−B線に沿った縦断面図である。
【符号の説明】
10…グリーンシート 12、12a…ビアホール 14…導体ペースト 16…絶縁層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ビアホールの穿設、ビアホールの穴埋めお
    よび配線パターンを施した複数のグリーンシートを積層
    ・一体化してグリーンシート積層体を形成し、さらに、
    前記グリーンシート積層体を焼成することにより多層配
    線セラミックス基板を形成する多層配線セラミックス基
    板の製造方法において、 グリーンシートにマトリックス状の複数のビアホールを
    設ける工程と、 前記マトリックス状の複数のビアホールの各々を導体に
    より穴埋めする工程と、 前記導体によるビアホールの穴埋めの後、前記穴埋めし
    た導体中、上下層間の配線パターンとの導通を不要とす
    る導体を覆う絶縁層を形成する工程と、 前記絶縁層で覆われた導体を除く残余の導体に接続され
    る配線パターンを前記グリーンシート上に形成する工程
    と、 を有することを特徴とする多層配線セラミックス基板の
    製造方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の方法において、前記絶縁層
    は前記グリーンシートの表裏両面に前記導体を覆って形
    成されることを特徴とする多層配線セラミックス基板の
    製造方法。
  3. 【請求項3】ビアホールの穿設、ビアホールの穴埋めお
    よび配線パターンを施した複数のグリーンシートを積層
    ・一体化してグリーンシート積層体を形成し、さらに、
    前記グリーンシート積層体を焼成することにより形成さ
    れた多層配線セラミックス基板であって、 前記多層配線セラミックス基板の少なくとも一層にはマ
    トリックス状に複数のビアホールが設けられ、前記複数
    のマトリックス状のビアホールの各々には導体が埋め込
    まれ、前記複数のビアホールは上下層間の配線の接続に
    使用されるビアホールと、前記配線の接続に使用されな
    いビアホールとからなることを特徴とする多層配線セラ
    ミックス基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6093476A (en) * 1997-05-02 2000-07-25 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Wiring substrate having vias
JP2014220438A (ja) * 2013-05-10 2014-11-20 日本特殊陶業株式会社 多層セラミック基板およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6093476A (en) * 1997-05-02 2000-07-25 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Wiring substrate having vias
JP2014220438A (ja) * 2013-05-10 2014-11-20 日本特殊陶業株式会社 多層セラミック基板およびその製造方法

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