JPS6112036B2 - - Google Patents

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JPS6112036B2
JPS6112036B2 JP59117435A JP11743584A JPS6112036B2 JP S6112036 B2 JPS6112036 B2 JP S6112036B2 JP 59117435 A JP59117435 A JP 59117435A JP 11743584 A JP11743584 A JP 11743584A JP S6112036 B2 JPS6112036 B2 JP S6112036B2
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JP
Japan
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bath
plating
carbon atoms
brightener
copper
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JP59117435A
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JPS6013090A (ja
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Jei Komusu Danieru
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OMI International Corp
Original Assignee
OMI International Corp
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Publication date
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Publication of JPS6112036B2 publication Critical patent/JPS6112036B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 〔産業䞊の利甚分野〕 この発明は導電性玠地䞊に銅を電着する為のめ
぀き济組成物及びその䜿甚方法に関し、さらに詳
しくは、光沢剀の貎重な組み合わせから成る氎
性・酞性改良銅め぀き济に関し、特に䜎電流密床
の凹郚領域においお延性があり平滑で茝いた銅め
぀きを生成せしめるための改良济に関する。
〔埓来の技術〕
光茝性・平滑性・延性のある銅皮膜の電着甚に
はこれたで、各皮の济組成及び方法が甚いられ、
か぀提案されおきた。かかる先行技術の代衚的な
ものは米囜特蚱第2707166号公報同第2707167号
公報同第2738318号公報同第2882209号公報
同第3267010号公報同第3328273号公報同第
3770598号公報同第4110176号公報及び同第
4272335号公報に蚘茉されおいる。米囜特蚱第
4272335号公報には、光沢剀ずしおフタロシアニ
ン誘導䜓を含有する氎性・酞性銅め぀き济が開瀺
されおいお、奜たしい実斜態様では、ポリ硫化
物、硫化物及び又はポリ゚ヌテル化合物のよう
な補助的次光沢剀をさらに含有しおいる。この
米囜特蚱による氎性・酞性め぀き济によれば、あ
る範囲の操業パラメヌタず組成範囲内では銅め぀
きの光茝性、平滑性及び延性においお改良がみら
れるが、め぀き物品の䜎電流密床凹郚領域では銅
め぀きの光茝性に぀いお未だ最善のものが埗られ
おいない。
䞀方で、アポサフラニン化合物光沢剀を単独又
はさらにポリ硫化物、有機硫化物及び又はポリ
゚ヌテル化合物ず共に甚いおも、ある条件䞋では
䜎電流密床領域におけるめ぀き膜の光茝性ず平滑
性に぀いお満足できるものが埗られおいない。こ
の䜎電流密床領域の問題点を解決するために、こ
のアポサフラニン光沢剀の濃床を高めるず、䜎電
流密床領域においお暗色の瞞が発生しお、満足し
うるめ぀き膜が埗られない。
〔発明が解決しようずする問題点〕
したが぀お、め぀き物品の䜎電流密床凹所領域
における銅皮膜に察しおも著しい光茝性を付䞎し
うるように、氎性・酞性銅め぀き济をさらに改善
する䜙地が残されおいお、济組成及び操䜜条件が
広範に倉぀おも垞に良奜な改善結果が埗られるよ
うにする必芁が残されおいる。この発明の氎性・
酞性め぀き济は盞乗光沢効果を瀺す光沢剀の組み
合わせを䌎぀おいお、比范的広範囲の濃床及び济
操業条件䞋に亘぀お、特に䜎電流密床の凹所領域
においお盞乗光沢効果を瀺す。
〔発明の構成〕
〔問題点を解決するための手段〕 この発明の利益ず進歩性は、䞀定量の济可溶性
フタロシアニン誘導䜓ず䞀定量のアポサフラニン
化合物ずを組み合わせた光沢剀を、その光沢量に
おいお含有する酞性め぀き氎性济から銅を電着さ
せる方法及び該め぀き济組成物を甚いるこずによ
぀お達成される。
さらに詳しくは、この酞性め぀き氎性济は硫酞
銅又はフツ化ホり玠酞銅型のものが奜たしく、銅
析出に十分な量の銅ず、䞀般匏(a) Pc−o 



(a) 〔匏䞭、Pcはフタロシアニン は−SO2NR2、−SO3M、−CH2SCNR22
− は炭玠数〜のアルキル、炭玠数のアリ
ヌル、アリヌル䜍に炭玠数及びアルキル䜍に炭
玠数〜を有するアラルキル、炭玠数〜で
少なくずも個の窒玠、酞玠、硫黄又はりん原子
を含む異節環、䞊びに〜のアミノ基、氎酞
基、スルホン基又はホスホン基を含む䞊蚘のアル
キル、アリヌル、アラルキル及び異節環であり は〜 は氎玠又はアルキル䜍に〜の炭玠原子を
含むアルキル硫酞であり は、Li、Na、又はMgである〕 で瀺されるフタロシアニン誘導䜓の光沢量を、䞀
般匏(b) 〔匏䞭、は同皮もしくは異皮であ぀お、−CH3、
−C2H5及び−C3H7を瀺し、は塩玠、臭玠、
ペり玠、フツ玠、硫酞、重硫酞及び硝酞むオンか
ら成る矀から遞択されたアニオンである〕 にお瀺される䞀぀の化合物ずの組み合わせにおい
お含んでいるようなめ぀き济である。
このフタロシアニン光沢剀は金属を䌎わないも
のでもよく、コバルト、ニツケル、クロム、鉄又
は銅䞊びにこれらの混合物のような安定な䟡又
は䟡金属を含んでいるものでもよく、これらの
䞭では銅が奜たしく金属である。この発明におい
お奜適なフタロシアニン光沢剀は少なくずも玄
0.1mg/の济溶解床を有するものである。
この発明の奜たしい実斜態様では、このフタロ
シアニン光沢剀ずアポサフラニン光沢剀ずに察し
お、脂肪族ポリ硫化物、有機硫化物及び又はポ
リ゚ヌテルのような次光沢剀を加えお補匷し
お、銅め぀きの光茝性ず物性ずをさらに匷化しお
やる。
〔济の操䜜条件〕
この発明の提案では、济枩は玄15゜〜玄50℃、
電流密床は玄0.5〜400ASF0.05〜43A/Dm2の
範囲で操䜜する。
〔奜たしい実斜態様の説明〕
本発明の実斜に際しおは、玄180〜玄250/
の硫酞及び玄30〜80/の硫酞を含んでいるよ
うな、兞型的な硫酞塩型の氎性・酞性济を甚い
る。倉圢ずしお、玄200〜玄600/のフツ化ホ
り玠酞銅ず玄60/のフツ化ホり玠酞を含有す
る代衚的なフツ化ホり玠酞塩济を甚いおもよい。
たた硝酞銅塩を硫酞銅の玄圓量だけ甚いお、りん
酞、硝酞又は硫酞の圓量で济を酞性化したもので
もよい。この発明の奜たしい実斜䟋では硫酞塩型
銅济を甚いた。
この氎性め぀き济は、塩玠及び又は臭玠むオ
ンのようなハロゲンむオンを玄0.5/以䞋の量
で含んでいる。
フタロシアニン誘導䜓光沢剀ずアポサフラニン
光沢剀ずを䞀定濃床及び䞀定比率で組み合わせお
甚いるず盞乗光沢効果が珟われお䜎電流密床凹郚
領域においお、こずのほか優れた光茝性が埗られ
るが、この際に補助有機光沢剀をさらに組み合わ
せおやるこずが奜たしい。
フタロシアニン誘導䜓は金属を含たないもので
もよく、たたコバルト、ニツケル、クロム、鉄、
銅䞊びにこれらの混合物から成る矀から遞択され
た金属であ぀お、分子のむ゜むンドヌル窒玠原子
の配䜍によ぀お結合しおいるような安定な䟡又
は䟡金属を含むものでもよいが、金属ずしおは
なかでも銅が兞型的な奜たしい金属である。本発
明に䜿甚するのに奜適なフタロシアニン化合物
は、济溶解床が少なくずも玄0.1mg/のものであ
぀お、䞀般匏 〔匏䞭、 は前蚘したもの はNi、Co、Cr、Fe又はCu は〜そしお は〜、䜆し眮換分の合蚈が〜であ
るずする〕 に盞圓するものである。
本発明の実斜に際しお䜿甚するのに奜適なフタ
ロシアニン化合物には、さらに米囜特蚱第
4272335号公報に開瀺のようなものが包含され
る。特に奜たしいフタロシアニン化合物はアルシ
アンブルヌAlcian Blueである。
䞀般匏(b)ずフタロシアニン光沢剀ずの組み合わ
せ光沢剀は玄0.0005/〜玄/、奜たしく
は玄0.002/〜玄0.01/の济濃床で䜿甚す
る。このフタロシアニン光沢剀は、皮の光沢剀
の合蚈量に察しお玄35〜玄80重量を占める必芁
がある。特に奜たしい組み合わせは眮換フタロシ
アニン光沢剀ずしおのmg/の「Methic
Turquoise」を䞀般匏(b)で瀺されるアポサフラニ
ン光沢剀mg/ず組み合わせお䜿甚するこずで
あ぀お、ここでのぱチルの堎合である。
フタロシアニン誘導䜓及びアポサフラニン光沢
剀に加えお、本発明の実斜に際しおは少なくずも
䞀皮類の公知の補助光沢剀を添加しお電着銅の光
茝ず平滑性及び延性をさらに向䞊させおやるこず
が有利であるこずが刀明した。かかる補助光沢剀
にはポリ゚ヌテル化合物、有機硫化物及びゞ硫化
物が包含される。
奜適な有機ポリ゚ヌテル化合物は少なくずも
個の゚ヌテル性酞玠原子を含む平均分子量玄180
〜1000000の济可溶性・盞溶性ポリ゚ヌテルであ
る。平均分子量玄600〜玄6000のポリプロピレン
グリコヌル及びポリ゚チレングリコヌル䞊びにこ
れらの混合物、平均分子量玄300〜2500の芳銙族
アルコヌルアルコキシレヌトを甚いるず特に満足
な結果が埗られる。奜適な結果を生むポリ゚ヌテ
ル光沢剀の䟋ずしおは、平均分子量玄400〜玄
1000000のポリ゚チレングリコヌル゚チレンオ
キシド基〜45モルを含むナフトヌル゚トキシレ
ヌトプロピレンオキシド基〜15モルを含むナ
フトヌルプロポキシレヌト゚チレンオキシド基
〜30モルを含むノニルプノヌル゚トキシレヌ
ト平均分子量玄350〜玄1000のプロピレングリ
コヌル平均分子量玄350〜250000のポリオキシ
゚チレン・ポリオキシプロピレングリコヌルブロ
ツクポリマヌ゚チレンオキシド基〜100モル
含有のプノヌル゚トキシレヌトプロピレンオ
キシド基〜15モル含有のプノヌルプロポキシ
レヌト及び平均分子量玄1600〜玄30000の゚チレ
ンゞアミンブロツクポリマヌが挙げられる。その
他のポリ゚ヌテル化合物ずしおは、米囜特蚱第
4272335号公報に開瀺のようなものがあり、これ
らも有甚である。
ポリ゚ヌテル光沢剀の䜿甚量は玄0.001〜玄
/の範囲であ぀お、分子量が高い皋、䜎濃床
で䜿甚するのが䞀般的である。
本発明の济に甚いお有効な有機硫化物光沢剀に
は、米囜特蚱第3267010号公報に蚘茉のような
皮々のスルホネヌト系有機化合物が包含される
が、特に同公報明现曞第衚に挙げられおいるも
の米囜特蚱第4181582号公報の第衚に挙げら
れおいるような有機硫黄化合物及び米囜特蚱第
3328273号の第衚の有機ポリ硫化物が包含され
る。
スルホン基又はホスホン基を有する有機硫化物
はたた、その分子䞭、特にその芳銙族及び異節環
硫化物−スルホン酞又はホスホン酞䞊にメチル、
クロル、ブロム、メトキシ、゚トキシ、カルボキ
シ又はヒドロキシのような各皮の眮換基が含たれ
おいおもよい。これらの化合物は遊離酞、アルカ
リ金属塩、有機アミン塩又はその他の圢で䜿甚さ
れる。
奜適な他の有機䟡硫黄化合物䞭には、HO3P
−CH23−−−CH23−PO3H、䞊びにメル
カプタン、チオカルバメヌト、チオヌルカルバメ
ヌト、チオれンセヌト及び少なくずもスルホン基
又はホスホン基を個有するチオカヌボネヌトが
包含される。
米囜特蚱第3328273号公報に蚘茉されおいお、
特に奜たしい有機䟡硫黄化合物矀は、䞀般匏
XR1−oR2SO3H又はXR1−oR2PO3H〔こ
こでR1及びR2は炭玠数〜の同皮又は異皮の
アルキレン基、は氎玠、SO3H又はPO3Hであ
り、は玄〜の数である〕で瀺される有機ポ
リ硫化物である。これらの有機䟡硫黄化合物
は、少なくずも個の䟡硫黄原子が隣接しおい
お、分子䞭に個又は個のスルホン酞基又はホ
スホン酞基を有する脂肪族ポリ硫化物である。分
子のアルキレン郚分は、メチル、゚チル、クロ
ル、ブロム、゚トキシ、ヒドロキシ及びその他の
基で眮換されおいおもよい。これらの化合物は遊
離酞又はアルカリ金属塩又はアミン塩ずしお添加
できる。
この有機硫化物光沢剀又はこれらの混合物は济
䞭で玄0.0005〜玄/の濃床範囲で含たれお
いる。
この発明の方法の提案では、前蚘組成の氎性・
酞性銅め぀き济䞭に導電性玠地を浞挬しお、これ
をカ゜ヌドずしお所望膜厚の銅が玠地䞊に析出す
るたで電解を行なう。操䜜䞭、济枩は玄15〜玄50
℃、カ゜ヌド電流密床は玄0.5〜玄400ASF0.05
〜43A/Dm2、奜たしくは玄10〜玄100ASF1.1
〜11A/Dm2に制埡する。济枩玄20゜〜玄36℃、
電流密床玄10〜50ASF1.1〜5.4A/Dm2におい
お特に満足な結果が埗られる。
実斜䟋 次に実斜䟋により、本発明を詳しく説明する
が、本発明の芁旚を逞脱しない限り、これらの実
斜䟋に限定されるものではない。
実斜䟋  硫酞銅・氎和物を玄165〜玄225/、硫酞
を玄42〜玄75/及び塩玠むオンを玄0.04〜玄
0.1/含有する氎性・酞性銅め぀き济を調補し
た。この氎溶液に、フタロシアニン光沢剀である
「Methic Turquoise」mg/を、ゞ゚チルアポ
サフラニンmg/ず共に添加した。この济は補
助光沢剀ずしおさらに、平均分子量700のポリプ
ロピレングリコヌル50mg/及び20mg/のビス
−スルホプロピルゞ硫化物・ゞNa塩を含ん
でいた。
電流密床0.5〜100ASF0.05〜11A/Dm2、济
æž©70゜〜80〓21〜27℃にお運転したずころ、
著しく平滑で、埮粒状の銅め぀きがなんらの欠陥
郚もなく埗られた。
実斜䟋  箄165〜玄225/の硫酞銅・氎和物、玄42
〜75/の硫酞及び玄0.04〜玄0.1/の塩玠
むオンを含む氎性・酞性銅め぀き济をを調補し
た。この氎溶液に、フタロシアニン光沢剀である
mg/の「Methic Turquoise」を加えたが、同
時に補助光沢剀ずしお60mg/の゚チレンプロピ
レンオキシド・ブロツクポリマヌ分子量
3000、20mg/のビス−スルホプロピルゞ硫
化物・2Na塩、䞊びにポリ゚チレンむミン分
子量600ず塩化ベンゞルずの反応生成物1.5mg/
ずを添加した。
济枩玄70゜〜玄80〓21゜〜27℃、電流密床
箄20〜玄80ASF2.1〜8.6A/Dm2の条件䞋で济
を操䜜するこずによ぀お、光぀お平滑な銅め぀き
が埗られた。この济䞭にさらにmg/のゞ゚チ
ルアポサフラニンを远加したずころ、め぀き膜の
平滑性が驚くほど改善されるず同時に、同じめ぀
きパラメヌタを甚いたずきの詊隓片の䜎電流密床
郚分における光茝が実質的に改善された。
実斜䟋  箄165〜玄225/の硫酞銅・氎和物、玄42
〜玄75/の硫酞及び玄0.04〜玄0.1/の塩
玠むオンを包む氎性・酞性銅め぀き济を調補し
た。このめ぀き济に、mg/のゞ゚チルアポサ
フラニンを、20mg/のビス−スルホプロピ
ルゞ硫化物・2Na塩、200mg/のポリ゚チレン
オキシド分子量6000、䞊びにポリ゚チレンむ
ミン分子量600ず塩化ベンゟむルずの反応生
成物1.5mg/から成る補助光沢剀ず共に添加し
た。平均電流密床玄50ASF5.4A/Dm2にお15
分間、圢詊隓片をめ぀きしたずころ、光぀お平
滑な銅め぀きが析出したが、䜎電流密床領域には
瞞が発生した。フタロシアニン誘導䜓光沢剀から
成るmg/の「Methic Turquoise」を济䞭に添
加するず同䞀条件䞋でめ぀きした圢詊隓片の䜎
電流密床領域における瞞は、光茝性及び平滑性を
そこなうこずなく消倱した。
この発明の粟神ず範囲に反するこずなしに、広
範に異る実斜態様を構成するこずができるこずは
明らかなので、この発明は前蚘の特蚱請求の範囲
においお限定した以倖は、その特定の実斜態様に
制玄されるものではない。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  玠地䞊に銅め぀きを生成せしめるのに十分な
    量の銅成分を含有する酞性め぀き氎性济であ぀
    お、 䞀般匏(a) Pc−o 



(a) 〔匏䞭、Pcはフタロシアニン は−SO2NR2、−SO3M、−CH2SCNR22
    − は、炭玠数〜のアルキル、炭玠数の
    アリヌル、アリヌル䜍に炭玠数及びアルキル䜍
    に炭玠数〜を有するアラルキル、炭玠数〜
    で少なくずも個の窒玠、酞玠、硫黄又はりん
    原子を含む異節環、䞊びに〜のアミノ基、氎
    酞基、スルホン基又はホスホン基を含む䞊蚘のア
    ルキル、アリヌル、アラルキル及び異節環であ
    り は〜 は氎玠又はアルキル䜍に〜の炭玠原子を
    含むアルキル硫酞であり は、Li、Na、又はMgである〕 によ぀お瀺されるフタロシアニン誘導䜓及び 䞀般匏(b) 〔匏䞭、は同皮もしくは異皮であ぀お、−CH3、
    −C2H5及び−C3H7から成り、は塩玠、臭
    玠、ペり玠、フツ玠、硫酞、重硫酞及び硝酞むオ
    ンから成る矀から遞択されたアニオンである〕 で瀺されるアポサフラニン化合物 から成る耇合光沢剀を、光茝を有し平滑で延性の
    ある銅め぀きを析出せしめるのに十分な量で济䞭
    に含むこずから成る改良济。  該フタロシアニン光沢剀が、济䞭に存圚する
    光沢剀(a)及び(b)の合蚈量の35〜80重量の範囲で
    含たれるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項
    蚘茉のめ぀き济。  光沢剀(a)及び(b)の合蚈量が0.0005〜/
    の範囲にあるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
    項蚘茉のめ぀き济。  光沢剀(a)及び(b)の合蚈量が0.002〜0.01/
    の範囲にあるこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
    項蚘茉のめ぀き济。  さらに0.001〜/の济可溶性・盞溶性ポ
    リ゚ヌテル化合物から成る補助光沢剀を含有する
    こずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘茉のめ
    ぀き济。  さらに0.0005〜/の济可溶性・盞溶性
    有機硫化物から成る補助光沢剀を含有するこずを
    特城ずする特蚱請求の範囲第項に蚘茉のめ぀き
    济。  該フタロシアニン光沢剀が「Methic
    Turquoise」から成るこずを特城ずする特蚱請求
    の範囲第項蚘茉のめ぀き济。  該アポサフラニン光沢剀がゞ゚チルアポサフ
    ラニンから成るこずを特城ずする特蚱請求の範囲
    第項蚘茉のめ぀き济。  該フタロシアニン光沢剀が「Methic
    Turquoise」であり、か぀該アポサフラニン光沢
    剀がゞ゚チルアポサフラニンであるこずを特城ず
    する特蚱請求の範囲第項蚘茉のめ぀き济。  さらに0.5/のハロゲンむオンを含有す
    るこずを特城ずする特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    め぀き济。  玠地䞊に銅め぀きを生成せしめるのに十分
    な量の銅成分を含有する酞性め぀き氎性济であ぀
    お、 䞀般匏(a) Pc−o 



(a) 〔匏䞭、Pcはフタロシアニン は−SO2NR2、−SO3M、−CH2SCNR22
    − は、炭玠数〜のアルキル、炭玠数の
    アリヌル、アリヌル䜍に炭玠数及びアルキル䜍
    に炭玠数〜を有するアラルキル、炭玠数〜
    で少なくずも個の窒玠、酞玠、硫黄又はりん
    原子を含む異節環、䞊びに〜のアミノ基、氎
    酞基、スルホン基又はホスホン基を含む䞊蚘のア
    ルキル、アリヌル、アラルキル及び異節環であ
    り は〜 は氎玠又はアルキル䜍に〜の炭玠原子を
    含むアルキル硫酞であり は、Li、Na、又はMgである〕 によ぀お瀺されるフタロシアニン誘導䜓及び 䞀般匏(b) 〔匏䞭、は同皮もしくは異皮であ぀お、−CH3、
    −C2H5及び−C3H7から成り、は塩玠、臭
    玠、ペり玠、フツ玠、硫酞、重硫酞及び硫酞むオ
    ンから成る矀から遞択されたアニオンである〕 で瀺されるアポサフラニン化合物から成る耇合光
    沢剀を、光茝を有し平滑で延性のある銅め぀きを
    析出せしめるのに十分な量で济䞭に含むこずから
    成る改良济䞭に導電性玠地をカ゜ヌドずしお浞挬
    し、次いで該玠地䞊に所望の厚さたで銅め぀きを
    析出させる工皋から成る導電性玠地䞊えの光茝あ
    る、平滑な銅め぀き膜の電着方法。  め぀き济枩を15°〜50℃の範囲以内に制埡
    する工皋をさらに包含するこずを特城ずする特蚱
    請求の範囲第項に蚘茉の方法。  め぀き济枩を20〜36℃の範囲以内に制埡す
    る工皋をさらに包含するこずを特城ずする特蚱請
    求の範囲第項に蚘茉の方法。  該玠地䞊に銅を電着する工皋の間、電流密
    床を0.5〜400ASF0.05〜43A/Dm2の範囲以内
    に制埡する工皋をさらに包含するこずを特城ずす
    る特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  該玠地䞊に銅を電着する工皋の間、電流密
    床を10〜100ASF1.1〜11A/Dm2の範囲以内に
    制埡する工皋をさらに包含するこずを特城ずする
    特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  玠地䞊に銅め぀きを電着する間、济枩を20
    〜36℃の範囲以内に、電流密床を10〜50ASF
    1.1〜5.4A/Dm2の範囲以内に制埡する工皋を
    さらに包含するこずを特城ずする特蚱請求の範囲
    第項に蚘茉の方法。
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