FR2547318A1 - Composition d'electrolyte et procede pour le depot electrolytique de cuivre - Google Patents
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Abstract
ON PREVOIT UNE COMPOSITION ACIDE AQUEUSE D'ELECTROLYTE ET UN PROCEDE POUR DEPOSER PAR VOIE ELECTROLYTIQUE UN DEPOT DE CUIVRE EXCEPTIONNELLEMENT BRILLANT, UNIFORMISE ET DUCTILE SUR DES SUBSTRATS CONDUCTEURS, INCORPORANT UNE COMBINAISON SYNERGIQUE D'UN AGENT DE BRILLANTAGE A BASE DE PHTALOCYANINE SUBSTITUEE, ET D'UN AGENT DE BRILLANTAGE A BASE D'APO SAFRANINE, DE PREFERENCE COMBINEE EN OUTRE AVEC DES AGENTS DE BRILLANTAGE SUPPLEMENTAIRES TELS QUE DES POLYSULFURES ORGANIQUES, DES SULFURES ETOU DES COMPOSES DE POLYETHER; SELON LES ASPECTS PROCEDES DE LA PRESENTE INVENTION, L'ELECTROLYTE AU CUIVRE PRECEDENT EST EMPLOYE POUR DEPOSER PAR VOIE ELECTROLYTIQUE UN REVETEMENT DE CUIVRE SUR UN SUBSTRAT CONDUCTEUR A DES TEMPERATURES D'ENVIRON 15 JUSQU'A ENVIRON 50C ET SOUS DES DENSITES DE COURANT CATHODIQUE ALLANT D'UNE VALEUR AUSSI FAIBLE QU'ENVIRON 0,05 JUSQU'A ENVIRON 40,0ADM, EN OBTENANT UNE BRILLANCE EXCEPTIONNELLE PARTICULIEREMENT DANS LES ZONES D'EVIDEMENT A FAIBLE DENSITE DE COURANT.
Description
1. La présente invention se rapporte,en général, à une composition aqueuse
d'électrolyte et à un procédé pour déposer par voie électrolytique du cuivre sur un substrat conducteur, et, plus particulièrement, à un bain aqueux aci5 de perfectionné de revêtement de cuivre contenant une nouvelle combinaison d'agents de brillantage pour fournir un
revêtement de cuivre qui est ductile, uniforme et brillant particulièrement dans les zones d'évidement à faible densité de courant.
On a utilise précédemment ou on a proposé d'utiliser un grand nombre de compositions aqueuses d'électrolyte et de procédés pour déposer par voie électrolytique des dépôts de cuivre ductiles, brillants et uniformes A titre typique parmi ces compositions et ces procédés de la 15 technique antérieure, il y a ceux décrits dans les brevets américains n 2 707 166; n 2 707 167, n 2 738 318, n 2 882 209, n 3 267 010, n 3 328 273, n 3 770 598, n 4 110 176 et n 4 272 335 Selon les enseignements du brevet américain n 4 272 335, on prévoit un électrolyte aqueux acide perfectionné pour le dépôt de cuivre qui contient 2.
un radical phtalocyanine substitué comme agent de brillantage, qui, selon la description préférée, incorpore en outre des agents de brillantage secondaires supplémentaires, tels
que des polysulfures, des sulfures et/ou des composés de polyéther Alors que l'électrolyte acide aqueux, comme décrit dans le brevet américain mentionné précédemment,prévoit des améliorations de la brillance, de l'uniformisation et de la ductilité des revêtements de cuivre, avec certains paramètres de fonctionnement et certaines variations de compositions, on a obtenu une brillance moins qu'optima du revêtement de cuivre dans les zones d'évidement à faibles densités de courant des articles ou produits industriels revêtus. D'autre part, quand un composé de brillantage à base d'apo safranine a été employé seul ou combiné en outre avec des agents de brillantage supplémentaires, tels que des polysulfures, des sulfures organiques et/ou des composés de polyéther, le brillantage et l'uniformisation non satisfaisants du dépôt ont été obtenus dans certaines conditions, 20 dans des zones à faible densité de courant Une augmentation de la concentration du composé de brillantage à base d'apo
safranine pour surmonter le problème des faibles densités de courant a entrainé la formation de stries foncées dans les zones à faible densité de courant,produisant un dépôt 25 inacceptable.
En conséquence, on a eu besoin encore d'une amélioration des électrolytes acides aqueux au cuivre pour fournir une brillance exceptionnelle des dépôts de cuivre dans les zones d'évidement à faible densité de courant des arti30 cles revêtus,qui peut être constamment obtenue dans une
large gamme de conditionsde composition et de traitements.
L'électrolyte acide aqueux de la présente invention incorpore une combinaison choisie d'agents de brillantage fournissant un effet de brillantage synergique, particulièrement 35 dans les zones d'évidement à faible densité de courant dans une gamme relativement large de concentrations et de conditions 3.
de fonctionnement du bain.
Les avantages de la présente invention sont atteints par une composition d'-électrolyte et un procédé pour déposer par voie électrolytique du cuivre à partir d'un bain acide aqueux de revêtement contenant une quantité de brillantage d'une ccmbinaison de composés comprenant un radical phtalocyanine substitué soluble dans le bain et
un composé d'apo safranine,présents en quantités contrôlées.
Plus particulièrement, l'électrolyte acide aqueux est de o 10 préférence du type sulfate ou fluoroborate de cuivre et incorpore du cuivre en quantité suffisante pour déposer par voie électrolytique du cuivre, et une quantité de brillantage du radical phtalocyanine substitué représenté par la formule: Pc (X)n o Pc est un radical phtalocyanine; + X est -502 NR 2,-SO 3 M,-CH 2 SC(NR 2)2 Y-; R est H, un groupe alkyle ocntenant 1-6 atomes de carbone, aryle contenant 6 atomes de carbone, aralkyle contenant 6 atomes de carbone dans la partie aryle et 1 à 6 atomes de carbone dans la partie alkyle, hétérocyclique contenant 2 à 5 atomes de carbone, et au moins 25 1 atome d'azote, d'oxygène, de soufre ou de phosphore, et alkyle, aryle, aralkyle et hétérocyclique, comme défini ci- dessus, contenant 1 à 5 groupes amino, hydroxy, sulfoniquesou phosphoniques; 30 N vaut 1-6; Y est un halogène ou un sulfate d'alkyle contenant 1 à 4 atomes de carbone dans la partie alkyle, et M est H, Li, Na, K ou Mg, combinée en outre avec un composé représenté par la formule A
254731 8
4.
FORMULE A
N.
(R)2 N ó
o: R est le même ou différent et comprend: -CH 3, -C 2 H 5 et -C 3 H 7, et X est un anion choisi dans le groupe se composant de chlorure, de bromure, d'iodure, 20 de fluorure, de sulfate, de bisulfate, et
de nitrate.
L'agent de brillantage à base de phtalocyanine peut être exempt de métal ou peut contenir un métal stable divalent ou trivalent, tel que le cobalt, le nickel, le chrome, le fer, ou le cuivre, ainsi que des mélanges de ces
métaux parmi lesquels le cuivre constitue le métal préféré.
Les agents de brillantage à base de phtalocyanine convenables pour l'utilisation dans la mise en pratique de la
présente invention ont une solubilité dans le bain d'au 30 moins environ 0,1 milligramme par litre (mg/1).
Selon une mise en pratique préférée de la présente invention, les agents de brillantage à base d'apo safranine et contenant un radical phtalocyanine sont additionnés en outre d'agents de brillantage secondaires comprenant des 35 polysulfures aliphatiques, des sulfures organiques et/ou des composés de polyéther pour renforcer encore les propriétés 5.
de brillance et physiques du dépôt de cuivre.
Selon les aspects procédés de la présente invention, le bain aqueux acide de revêtement électrolytique peut être mis en fonctionnement à des températures allant d'environ 15 jusqu'à environ 50 C et sous des densités de courant allant d'environ 0,05 à environ 40,0 ampères
par décimètre carré (A/dm 2).
Des avantages supplémentaires de la présente
invention apparaîtront d'après la description des réalisa10 tions préférées en relation avec les exemples ci-joints.
Selon la mise en pratique du procédé de la présente invention, un électrolyte acide aqueux est prévu, qui peut être du type sulfate, contenant typiquement environ à environ 250 g/l de sulfate de cuivre, et environ 30 à environ 80 g/l d'acide sulfurique A titre de variante, des bains au fluoroborate peuvent être préparés contenant typiquement environ 200 à environ 600 g/1 de fluoroborate de cuivre et jusqu'à environ 60 g/l d'acide fluoborique On prévoit également que des sels formés de nitrate de cuivre peuvent être employes en proportions approximativement équivalentes au sulfate de cuivre et l'électrolyte peut être acidifié en employant des quantités équivalentes d'acide
phosphorique, d'acide nitrique ou d'acide sulfurique Selon la mise en pratique préférée de la présente invention, des 25 bains au cuivre du type sulfate sont employés.
L'électrolyte aqueux peut incorporer en outre des ions halogénure tels que les ions chlorure et/ou bromure
en quantité allant jusqu'à environ 0,5 g/l.
Le brillantage exceptionnel obtenu dans les zones 30 d'évidement à faible densité de courant est obtenu en employant une combinaison synergique de l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine substitué et de l'agent de brillantage à base d'apo safranine à des concentrations et suivant des proportions contrôlées, de préférence combi35 née en outre avec des agents de brillantage organiques 6. supplémentaires Le radical phtalocyanine substitué peut être exempt de métal ou peut contenir un métal stable divalent ou trivalent, lié par coordination des atomes d'azote d'isoindole de la molécule, ce métal étant choisi 5 dans le groupe se composant de cobalt, de nickel, de chrome, de fer ou de cuivre, ainsi que des mélanges des métaux précédents, parmi lesquels le cuivre est le métal le plus typique et préféré Les composés de phtalocyanine convenables pour l'utilisation dans la mise en pratique du présent 10 procédé sont ceux ayant une solubilité dans le bain d'au moins environ 0, 1 mg/1 et correspondent à la formule développe: (X)b
(X) I-) I
o X est comme défini précédemment; Z est Ni, Co, Cr, Fe ou Cu; a est 0-1; et 7.
b est 0-2, pourvu cependant que le nombre total des substituants X soit 16.
Des composés de phtalocyanine substitués convenables pour l'utilisation dans la mise en pratique de la pré5 sente invention comprennent en outre ceux comme décrit dans le brevet américain n 4 272 335 Un composé de phtalocyanine particulièrement préféré comprend le produit dit
Alcian Blue.
Les agents de brillantage combinés correspondant 10 à la formule A et l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine substitué sont employés à une concentration de bain d'environ 0,0005 g/1 jusqu'à environ 1 g/l, des concentrations d'environ 0,002 g/l à environ 0,01 g/l étant préférées L'agent de brillantage à base de radical phtalo15 cyanine substitué doit constituer environ 35 jusqu'à environ % en poids du poids combiné des deux agents de brillantage employés Une combinaison particulièrement satisfaisante consiste à utiliser le produit dit Methic Turquoise en tant qu'agent de brillantage à base de phtalocyanine substituée 20 à une concentration de 3 mg/l en combinaison avec un agent de brillantage à base d'apo safranine représenté par la formule A o R comprend le groupe éthyle,également présent
à une concentration de 3 mg/l.
En plus des agents de brillantage à base de phta25 locyanine substituéeet d'apo safranine, on a trouvé avantageux selon la mise en pratique de la présente invention, d'incorporer au moins un agent de brillantage supplémentaire additionnel des types connus dans la technique pour renforcer encore la brillance, la ductilité et l'uniformisation 30 du cuivre déposé par voie électrolytique On inclut parmi ces agents de brillantage supplémentaires des composés de
polyéther, et des composés de sulfure et de disulfure organiques.
Les composés de polyéther organiques préférés sont les polyéthers solubles dans le bain et compatibles avec le bain contenant au moins 4 atomes d'oxygène d'éther, et 8. ayant au moins un poids moléculaire moyen allant d'environ jusqu'à 1 000 000 Des résultats particulièrement satisfaisants sont obtenus avec des polypropylene et polyéthylèneglycols comprenant des mélanges des précédents à poids 5 moléculaire moyen d'environ 600 à environ 6 000,et des alcools aromatiques alcoxylés ayant un poids moléculaire allant d'environ 300 à 2 500 Des exemples de ces composés de brillantage préférés à base de polyéther qui peuvent être employes de manière satisfaisante sont des polyéthylène10 glycols à poids moléculaire moyen d'environ 400 à environ 1 000 000; des naphtols éthoxylés contenant 5 à 45 moles de groupes d'oxyde d'éthylène; des naphtols propoxylés contenant 5 à moles de groupes d'oxyde de propylène; du nonylphénol éthoxylé contenant 5 à 30 moles de groupes d'oxyde d'éthylène; des propylèneglycols à poids moléculaire moyen d'environ 350 à environ 1 000; des polymères séquencés de polyoxyéthylène et de polyoxypropylèneglycols à poids moléculaire moyen d'environ 350 à 250 000; des phénols éthoxylés contenant 5 à 100 moles de groupes d'oxyde d'éthy20 lène; des phénols propoxylés contenant 5 à 15 moles de groupes d'oxyde de propylène; et des polymères séquencés d'éthylènediamine ayant un poids moléculaire d'environ 1 600 à environ 30 000 Des composés de polyéther supplémentaires convenables pour l'utilisation dans la mise en pratique du 25 présent procédé sont ceux décrits dans le brevet américain
n 4 272 335.
Les composés de brillantage à base de polyéther sont employés dans une gamme d'environ 0,001 jusqu'à environ 5 g/l, les concentrations inférieures étant générale30 ment utilisées avec les polyéthers à poids moléculaire supérieur. Les composés de brillantage à base de sulfure organique qui peuvent être employés de manière satisfaisante dans la mise en pratique du présent procédé comprennent 35 les divers composés de sulfures organiques-sulfonates cone décrit 9. dans le brevet américain n 3 278 010 et particulièrement le tableau I; les composés de soufre organiques comme décrit dans le brevet américain n 4 181 582 et particulièrement le tableau III, et les composés de polysulfure organiquescomme décrit dans le bre5 vet américain n 3 328 273 et particulièrement le tableau I. Les composés de sulfure organiques contenant des groupes sulfoniques ou phosphoniques peuvent également renfermer divers groupes substituants tels que les groupes -méthyle, chloro, bromo, méthoxy, éthoxy, carboxy ou hydroxy, sur les 10 molécules, spécialement sur les acides sulfures-sulfoniques ou phosphoniquesaromatiqueset hétérocycliques Ces composés peuvent être utilisés en tant qu'acides libres, en tant
que sels de métaux alcalins, en tant que sels d'amines organiques ou analogues.
D'autres composés de soufre divalent organiques
convenables qui peuvent être utilisés de manière satisfaisante comprennent HO 3 P-(CH 2)3-S-S-(CH 2 > 3-PO 3 H, ainsi que des mercaptans, des thiocarbamates, des thiolcarbamates, des thioxanthates, et des thiocarbonates qui contiennent 20 au moins un groupe sulfonique ou phosphonique.
Un groupe particulièrement préféré de conposs de soufre divalent organiques comme décrit dans le brevet américain n 3 328 273 estconstitué par les composés de polysulfure organique de formule X Rl-(S) n R 2503 H ou X Rl-(S)n R 2 PO 3 H, o R 1 et R 2 représentent le même groupe alkylène ou des groupes alkylènesdifférents renfermant environ 1 à 6 atomes de carbone, X est l'hydrogène, 503 H ou PO 3 H et N est un nombre d'environ 2 à 5 Ces composés de soufre divalent organiques sont des polysulfures aliphati30 ques o au moins deux atomes de soufre divalent sont vicinaux et o la molécule a un ou deux groupes d'acide phosphonique ou sulfonique terminaux La partie alkylène de la molécule peut être substituée par des groupes tels que des groupes méthyle, éthyle, chloro, bromo, éthoxy, hydroxy et 35 analogues Ces composés peuvent être ajoutés sous forme 10. d'acides libres ou sous forme de sels de métaux alcalins
ou d'amines.
Le composé de brillantage à base de sulfure organique ou le mélange de composés est présent dans l'électrolyte dans -une gamme d'environ 0,0005 à environ
1 g/l.
Selon les aspects procédés de la présente invention, un électrolyte acide aqueux au cuivre ayant la composition précédente est employé, of un substrat 10 électriquement conducteur est immerge et est chargé de manière cathodique pendant une période de temps pour déposer l'épaisseur désirée de cuivre Durant le revêtement électrolytique, le bain est contrôlé à une température d'environ 15 jusqu'à environ 50 WC et sous des densités de cou15 rant cathodique allant d'une valeur aussi faible qu'environ 0,05 jusqu'à une valeur aussi élevée qu'environ 40,0 A/dm 2 de préférence d'environ 1,0 à environ 10,0 A/dm 2 Des résultats particulièrement satisfaisants sont obtenus pour des températures de bain d'environ 20 à environ 36 C sous
des densités de courant d'environ 1,0 à environ 5,0 A/dm.
Pour illustrer encore la présente invention, les exemples typiques suivants sont prévus On appréciera que
les exemples sont prévus dans un but d'illustration, et ne sont pas destinés à limiter le domaine de protection de la 25 présente invention.
EXEMPLE 1
Un électrolyte acide aqueux au cuivre est préparé contenant environ 165 à environ 225 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre, environ 42 à environ 75 g/l d'acide sulfurique et environ 0,04 à environ 0,1 g/l d'ions chlorure A la solution aqueuse précédente, 3 mg/l du produit dit Methic Turquoise comprenant l'agent de brillantage à base de phtalocyanine sont ajoutés avec 3 mg/l de diéthyl apo safranine Comme agentsde brillantage supplémentaires, le bain contient en outre 50 mqg/l de polypropylèneqlycol, 11. à poids moléculaire moyen de 700 et 20 mg/l de bis
(sel disodique de disulfure de 3-sulfopropyle).
Un fonctionnement du bain sous une densité de courant d'environ 0,05 à environ 10,0 A/dm 2 à une tempéra5 ture d'environ 21 C à environ 27 C produisait des dépôts de cuivre à grains fins, fortement uniformisés, sans
défauts physiques.
EXEMPLE 2
Un électrolyte acide aqueux au cuivre est prépa10 ré contenant environ 165 à environ 225 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre, environ 42 à environ 75 g/l d'acide sulfurique, et environ 0,04 à environ 0,1 g/l d'ions chlorure Dans la solutionaqueuse précédente, 3 mg/l de produit dit Methic Turquoise comprenant l'agent de bril15 lantage à base de phtalocyanine sont ajoutés avec 60 mg/l d'un copolymère séquencé d'oxyde d'éthylène-propylène (poids moléculaire 3 000), 20 mg/l de bis (sel disodique de disulfure de 3-sulfopropyle) et 1,5 mg/1 du produit réactionnel
de polyéthylèneimine (poids moléculaire 600) avec du chloru20 re de benzyle,en tant qu'agents de brillantage supplémentaires.
Le fonctionnement du bain à une température d'environ 21 C à environ 27 C et sous des densités de courant d'environ 2,0 à environ 8,0 A/dm 2 produit des dépôts de cui25 vre uniformisés et brillants L'addition ultérieure de 3 mg/l de diéthyl apo safranine à l'électrolyte entraîne une amélioration importante des caractéristiques d'uniformisation du dépôt et améliore aussi sensiblement la brillance
des zones à faible densité de courant des panneaux expéri30 mentaux employant lesm mesparamètresde revêtement.
EXEMPLE 3
Un électrolyte acide aqueux au cuivre est préparé
contenant environ 165 à environ 225 g/l de pentahydrate de sulfate de cuivre, environ 42 à environ 75 g/1 d'acide sul35 furique et environ 0,04 à environ 0,1 g/l d'ions chlorure.
12. A la solution aqueuse précédente, on ajoute 2 mg/1 de diéthyl apo safranine, combinés en outre avec des agents de brillantage supplémentaires comprenant 20 mg/l de bis (sel disodique de disulfure de 3-sulfopropyle), 200 mg/i d'oxyde de polyethylene (poids moléculaire 6000) et 1,5 mg/1
d'un produit réactionnel de polyéthylèneimine (poids moléculaire 600) mis à réagir avec du chlorure de benzyle.
L'électrolyte précédent produit un dépôt de cuivre brillant, uniformisé quand on le revêt sur un panneau expérimental en forme de J sous une densité de courant moyenne d'environ 5,0 A/dm pendant une période de 15 minutes, mais le dépôt est strié dans la zone à faible densité de courant L'addition de 3 mg/1 du produit dit Methic Turquoise,comprenant l'agent de brillantage à base de radical phta15 locyanine substitué,à l'électrolyte entraîne l'élimination des stries dans la zone à faible densité de courant du panneau expérimental du type en J revêtu dans les mêmes conditions sans aucune perte de brillance et d'uniformisation du
dépôt de cuivre.
L'appréciation de certaines des valeurs des mesures indiquées ci-dessus doit tenir compte du fait qu'elles proviennent de la conversion d'unités anglo-saxonnes en unités métriques.
La présente invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation qui viennent d'être décrits, elle est au contraire susceptible de modifications et de variantes
qui apparaitront à l'homme de l'art.
13.
Claims (13)
1 Electrolyte acide aqueux contenant du cuivre en quantité suffisante pour déposer par voie électrolytique du cuivre sur un substrat, caractérisé en ce qu'on incorpore dans l'électrolyte une quantité de brillantage, suffisante pour produire un dépôt électrolytique de cuivre ductile, brillant et uniformisé,d'une combinaison d'agents de brillantage comprenant: (a) un radical phtalocyanine substitué, repré10 senté par la formule: Pc-(X)n ou: Pc est un radical phtalocyanine; X est -SO 2 NR 2,SO 3 M,-CH 2 SC(NR 2) Y-; 15 R est H, -un groupe alkyle contenant 1-6 atomes de carbone, aryle contenant 6 atomes de carbone, aralkyle contenant 6 atomes de carbone dans la partie aryle et 1 a 6 atomes de carbone dans la partie 20 alkyle, hétérocyclique contenant 2 à 5 ato-mes de carbone et au moins 1 atome d'azote, d'oxygène, de soufre ou de phosphore, et alkyle, aryle, aralkyle et hétérocyclique, comme défini ci- dessus, contenant 25 1 à 5 groupes amino, hydroxy, sulfoniques ou phosphoniques; n est 1-6; Y est un halogène, ou un sulfate d'alkyle contenant 1 à 4 atomes de carbone dans la 30 partie alkyle; et M est H, Li, Na, K ou Mg; et (b) un composé d'apo safranine représenté par la formule: 14.
(R) 2 N
à
R es-t le même ou différent et comprend: -CH 3, -C 2 H 5 et -C 3 H 7, et X est un anion choisi dans le groupe se composant de chlorure, de bromure, d'iodure, de fluoru20
re, de sulfate, de bisulfate et de nitrate.
2 Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine comprend environ 35 % à environ 80 % en poids de la quantité totale de la combinaison des agents de bril25
lantage (a) et (b) présents dans l'électrolyte.
3 Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce que la combinaison des agents de brillantage (a)
et (b) est présente dans une gamme d'environ 0,0005 à environ 1 g/l.
4 Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce que la combinaison d'agents de brillantage (a) et (b) est présente en quantité d'environ 0,002 à environ
0,01 g/l.
Electrolyte selon la revendication 3, caracté35 risé en ce que l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine (a) comprend environ 35 % à environ 80 % en poids 15. de la combinaison des agents de brillantage (a) et (b) présents. 6 Electrolyte selon la revendication 4, caractérisé en ce que l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine (a) comprend environ 35 % à environ 80 % en poids de la combinaison d'agentsde brillantage (a) et (b) présents. 7 Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre un agent de brillanta10 ge supplémentaire comprenant un composé de polyéther soluble dans le bain et compatible avec le bain, présent en
quantité d'environ 0,001 à environ 5 g/1.
8 Electrolyte selon la revendication l,caractérisé en ce qu'il comprend un agent de brillantage supplé15 mentaire comprenant un composé de sulfure organique soluble
dans le bain et compatible avec le bain, présent en quantité d'environ 0, 0005 à environ 1 g/l.
9 Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'agent de brillantage à base de radical phta20 locyanine comprend le produit dit Methic Turquoise.
Electrolyte selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'agent de brillantage à base de composé
d'apo safranine comprend la diéthyl apo safranine.
11 Electrolyte selon la revendication 1, carac25 térisé en ce que l'agent de brillantage à base de radical phtalocyanine comprend le produit dit Methic Turquoise et l'agent de brillantage à base de composé d'apo safranine
comprend de la diéthyl apo safranine.
12 Electrolyte selon la revendication 1, carac30 térisé en ce qu'il contient en outre des ions halogénure
en quantité allant jusqu'à environ 0,5 g/l.
13 Procédé pour déposer par voie électrolytique un dépôt de cuivre brillant et uniformisé sur un substrat conducteur, caractérisé en ce qu'il consiste à immerger 35 un substrat conducteur chargé de manière cathodique dans l'électrolyte de la revendication 1 et à déposer par voie 16. électrolytique un revêtement de cuivre sur le substrat
jusqu'à l'épaisseur désirée.
14 Procédé selon la revendication 13,caractérisé en ce qu'il consiste en outre à contrôler la température de l'électrolyte dans un intervalle d'environ
à environ 50 C.
Procédé selon la revendication 13,caractérisé en ce qu'il consiste en outre à contrôler la températrue de l'électrolyte dans un intervalle d'environ 20 à en10 viron 36 C.
16 Procédé selon la revendication 13,caractérisé en ce qu'il consiste en outre à contrôler la densité de courant durant l'étape de dépôt électrolytique d'un revêtement de cuivre sur le substrat dans une gamme d'en2
viron 0,05 à environ 4010 A/dm.
17 Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il consiste en outre à contrôler la densité de courant durant l'étape de dépôt électrolytique d'un revêtement de cuivre sur le substrat dans une gamme d'en2
viron 1,0 à environ 10,0 A/dm.
18 Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il consiste en outre à contrôler la température de l'électrolyte dans un intervalle d'environ 20 à environ 360 C et la densité de courant moyenne durant l'étape de dépôt électrolytique du revêtement de cuivre sur le substratdan 2 un game d |environ 1,0 à environ 5,0 A/dm 2 trat dans une gamme d'environ 1,0 à environ 5,0 A/dm 2
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US50121183A | 1983-06-10 | 1983-06-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2547318A1 true FR2547318A1 (fr) | 1984-12-14 |
| FR2547318B1 FR2547318B1 (fr) | 1990-05-04 |
Family
ID=23992559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR848409048A Expired - Lifetime FR2547318B1 (fr) | 1983-06-10 | 1984-06-08 | Composition d'electrolyte et procede pour le depot electrolytique de cuivre |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013090A (fr) |
| AU (1) | AU554236B2 (fr) |
| BR (1) | BR8402811A (fr) |
| CA (1) | CA1255621A (fr) |
| DE (1) | DE3420999A1 (fr) |
| ES (1) | ES8601336A1 (fr) |
| FR (1) | FR2547318B1 (fr) |
| GB (1) | GB2141140B (fr) |
| IT (1) | IT1177785B (fr) |
| NL (1) | NL8401841A (fr) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE4126502C1 (fr) * | 1991-08-07 | 1993-02-11 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De | |
| JPH10330983A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Fukuda Metal Foil & Powder Co Ltd | 電解銅箔及びその製造方法 |
| DE19758121C2 (de) * | 1997-12-17 | 2000-04-06 | Atotech Deutschland Gmbh | Wäßriges Bad und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von Kupferschichten |
| DE10261852B3 (de) | 2002-12-20 | 2004-06-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad |
| DE10337669B4 (de) * | 2003-08-08 | 2006-04-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Wässrige, saure Lösung und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupferüberzügen sowie Verwendung der Lösung |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| BE520209A (fr) * | 1952-05-26 | |||
| US2738318A (en) * | 1954-12-28 | 1956-03-13 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of copper from an acid bath |
| US2882209A (en) * | 1957-05-20 | 1959-04-14 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of copper from an acid bath |
| NL291575A (fr) * | 1962-04-16 | |||
| US3328273A (en) * | 1966-08-15 | 1967-06-27 | Udylite Corp | Electro-deposition of copper from acidic baths |
| US3770598A (en) * | 1972-01-21 | 1973-11-06 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of copper from acid baths |
| AU496780B2 (en) * | 1975-03-11 | 1978-10-26 | Oxy Metal Industries Corporation | Additives in baths forthe electrodeposition of copper |
| DE2746938A1 (de) * | 1977-10-17 | 1979-04-19 | Schering Ag | Saures galvanisches kupferbad |
-
1984
- 1984-06-04 AU AU29033/84A patent/AU554236B2/en not_active Ceased
- 1984-06-06 DE DE19843420999 patent/DE3420999A1/de active Granted
- 1984-06-07 JP JP59117435A patent/JPS6013090A/ja active Granted
- 1984-06-07 CA CA000456108A patent/CA1255621A/fr not_active Expired
- 1984-06-08 IT IT48351/84A patent/IT1177785B/it active
- 1984-06-08 NL NL8401841A patent/NL8401841A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-06-08 BR BR8402811A patent/BR8402811A/pt unknown
- 1984-06-08 ES ES533252A patent/ES8601336A1/es not_active Expired
- 1984-06-08 FR FR848409048A patent/FR2547318B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1984-06-11 GB GB08414862A patent/GB2141140B/en not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US2707167A (en) * | 1952-05-26 | 1955-04-26 | Udylite Corp | Electrodeposition of copper from an acid bath |
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| US4336114A (en) * | 1981-03-26 | 1982-06-22 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Electrodeposition of bright copper |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1177785B (it) | 1987-08-26 |
| ES533252A0 (es) | 1985-10-16 |
| AU2903384A (en) | 1984-12-13 |
| DE3420999C2 (fr) | 1987-10-15 |
| JPS6013090A (ja) | 1985-01-23 |
| CA1255621A (fr) | 1989-06-13 |
| NL8401841A (nl) | 1985-01-02 |
| IT8448351A0 (it) | 1984-06-08 |
| DE3420999A1 (de) | 1984-12-13 |
| AU554236B2 (en) | 1986-08-14 |
| JPS6112036B2 (fr) | 1986-04-05 |
| GB8414862D0 (en) | 1984-07-18 |
| GB2141140B (en) | 1986-12-10 |
| ES8601336A1 (es) | 1985-10-16 |
| FR2547318B1 (fr) | 1990-05-04 |
| BR8402811A (pt) | 1985-05-21 |
| GB2141140A (en) | 1984-12-12 |
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| JPH0359995B2 (fr) |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ST | Notification of lapse |