NL178453B - Werkwijze voor het elektrostatisch copieren. - Google Patents

Werkwijze voor het elektrostatisch copieren.

Info

Publication number
NL178453B
NL178453B NLAANVRAGE7804190,A NL178453DA NL178453B NL 178453 B NL178453 B NL 178453B NL 178453D A NL178453D A NL 178453DA NL 178453 B NL178453 B NL 178453B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
electrostatic copying
copying
electrostatic
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7804190,A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Mita Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Publication of NL178453B publication Critical patent/NL178453B/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
NLAANVRAGE7804190,A 1952-05-26 Werkwijze voor het elektrostatisch copieren. NL178453B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US290091A US2707166A (en) 1952-05-26 1952-05-26 Electrodeposition of copper from an acid bath

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL178453B true NL178453B (nl)

Family

ID=23114498

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL83873D NL83873C (nl) 1952-05-26
NLAANVRAGE7804190,A NL178453B (nl) 1952-05-26 Werkwijze voor het elektrostatisch copieren.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL83873D NL83873C (nl) 1952-05-26

Country Status (6)

Country Link
US (1) US2707166A (nl)
BE (1) BE520209A (nl)
DE (1) DE947656C (nl)
FR (1) FR1077492A (nl)
GB (1) GB736252A (nl)
NL (2) NL178453B (nl)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE934508C (de) * 1954-04-23 1955-10-27 Dehydag Gmbh Verfahren zur Herstellung galvanischer Metallueberzuege
US2738318A (en) * 1954-12-28 1956-03-13 Udylite Res Corp Electrodeposition of copper from an acid bath
US2882209A (en) * 1957-05-20 1959-04-14 Udylite Res Corp Electrodeposition of copper from an acid bath
US3288690A (en) * 1962-04-16 1966-11-29 Udylite Corp Electrodeposition of copper from acidic baths
NL291575A (nl) * 1962-04-16
US3328273A (en) * 1966-08-15 1967-06-27 Udylite Corp Electro-deposition of copper from acidic baths
DE2039831C3 (de) * 1970-06-06 1979-09-06 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen Saures Bad zur galvanischen Abscheidung glänzender Kupferüberzüge
US4316778A (en) * 1980-09-24 1982-02-23 Rca Corporation Method for the manufacture of recording substrates for capacitance electronic discs
US4376685A (en) * 1981-06-24 1983-03-15 M&T Chemicals Inc. Acid copper electroplating baths containing brightening and leveling additives
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
AU554236B2 (en) * 1983-06-10 1986-08-14 Omi International Corp. Electrolyte composition and process for electrodepositing copper
US4551212A (en) * 1985-03-11 1985-11-05 Rca Corporation Bath and process for the electrodeposition of micromachinable copper and additive for said bath
US7264698B2 (en) * 1999-04-13 2007-09-04 Semitool, Inc. Apparatus and methods for electrochemical processing of microelectronic workpieces
US7438788B2 (en) 1999-04-13 2008-10-21 Semitool, Inc. Apparatus and methods for electrochemical processing of microelectronic workpieces
US6709568B2 (en) 2002-06-13 2004-03-23 Advanced Technology Materials, Inc. Method for determining concentrations of additives in acid copper electrochemical deposition baths
US20060266648A1 (en) * 2002-12-17 2006-11-30 King Mackenzie E Process analyzer for monitoring electrochemical deposition solutions
DE10261852B3 (de) 2002-12-20 2004-06-03 Atotech Deutschland Gmbh Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad
US20050067304A1 (en) * 2003-09-26 2005-03-31 King Mackenzie E. Electrode assembly for analysis of metal electroplating solution, comprising self-cleaning mechanism, plating optimization mechanism, and/or voltage limiting mechanism
DE10354860B4 (de) * 2003-11-19 2008-06-26 Atotech Deutschland Gmbh Halogenierte oder pseudohalogenierte monomere Phenaziniumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie diese Verbindungen enthaltendes saures Bad und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages
US20050109624A1 (en) * 2003-11-25 2005-05-26 Mackenzie King On-wafer electrochemical deposition plating metrology process and apparatus
US20050224370A1 (en) * 2004-04-07 2005-10-13 Jun Liu Electrochemical deposition analysis system including high-stability electrode
US6984299B2 (en) * 2004-04-27 2006-01-10 Advanced Technology Material, Inc. Methods for determining organic component concentrations in an electrolytic solution
US7435320B2 (en) 2004-04-30 2008-10-14 Advanced Technology Materials, Inc. Methods and apparatuses for monitoring organic additives in electrochemical deposition solutions
US7427346B2 (en) * 2004-05-04 2008-09-23 Advanced Technology Materials, Inc. Electrochemical drive circuitry and method
DE102005011708B3 (de) 2005-03-11 2007-03-01 Atotech Deutschland Gmbh Polyvinylammoniumverbindung und Verfahren zu deren Herstellung sowie diese Verbindung enthaltende saure Lösung und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages
EP3415664B1 (en) 2017-06-16 2019-09-18 ATOTECH Deutschland GmbH Aqueous acidic copper electroplating bath and method for electrolytically depositing of a copper coating
PT3483307T (pt) 2017-11-09 2020-07-03 Atotech Deutschland Gmbh Composições de revestimento para deposição de cobre eletrolítico, a sua utilização e um método para depósito electrolítico de uma camada de cobre ou liga de cobre na pelo menos uma superfície de um substrato

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2291590A (en) * 1940-03-11 1942-07-28 Harshaw Chem Corp Electrodeposition of metals
US2326999A (en) * 1940-03-11 1943-08-17 Harshaw Chem Corp Nickel plating
US2563360A (en) * 1941-05-24 1951-08-07 Gen Motors Corp Electrodeposition of copper
US2489538A (en) * 1941-05-24 1949-11-29 Gen Motors Corp Electrodeposition of copper
USRE24253E (en) * 1948-05-11 1956-12-11 Method of producing a composite liquid

Also Published As

Publication number Publication date
BE520209A (nl)
NL83873C (nl)
US2707166A (en) 1955-04-26
FR1077492A (fr) 1954-11-08
DE947656C (de) 1956-08-23
GB736252A (en) 1955-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL178453B (nl) Werkwijze voor het elektrostatisch copieren.
NL183478B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van glaswerk.
NL174651B (nl) Werkwijze voor het bereiden van antistatische samenstellingen op basis van polyesters.
NL178359B (nl) Elektrostatische kopie-inrichting.
NL181914B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van getrokken voorwerpen.
NL168782B (nl) Transporteur voor stortgoed.
NL172991B (nl) Drooginrichting voor bladvormig fotografisch materiaal.
FR72968E (fr) Installation de projection électrostatique
NL179121B (nl) Oprijginrichting voor geperforeerde bladen.
NL180358C (nl) Overdrachtsorgaan voor een xerografische kopieerinrichting.
NL166477B (nl) Werkwijze voor het bereiden van 1-halogeenfosfolenen.
NL179681B (nl) Inrichting voor het verbranden van afvalgassen.
FR1179253A (fr) Embrayage électrostatique
NL179062B (nl) Werkwijze voor het door lijmen tot stand brengen van sterke, elastische verbindingen.
NL178869B (nl) Werkwijze voor het bereiden van 5-oxohexaannitrile.
NL175141B (nl) Elektromedisch toestel voor interferentiestroomtherapie.
NL175317B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een amylase-inhibitor.
NL7411607A (nl) Werkwijze voor het bereiden van 18-alkyloes- traanverbindingen.
NL170670B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een ferromagnetische toner.
NL175295B (nl) Werkwijze voor het bereiden van cyaanacetylcarbamaten.
NL183202C (nl) Doek voor de papierindustrie.
NL143703B (nl) Inrichting voor het ontwikkelen van elektrostatische ladingsbeelden.
CH312320A (de) Harmonikaartiger Faltenbalg.
NL171049B (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2-ethylhexanal-1.
NL178307B (nl) Wikkelinrichting voor materiaalbanen.