JPH0220714B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0220714B2
JPH0220714B2 JP57019523A JP1952382A JPH0220714B2 JP H0220714 B2 JPH0220714 B2 JP H0220714B2 JP 57019523 A JP57019523 A JP 57019523A JP 1952382 A JP1952382 A JP 1952382A JP H0220714 B2 JPH0220714 B2 JP H0220714B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrodeposition liquid
group
liquid according
acid
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57019523A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57152483A (en
Inventor
Deiiman Niiru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DABURYU KYANINGU MATERIARUZU Ltd
Original Assignee
DABURYU KYANINGU MATERIARUZU Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DABURYU KYANINGU MATERIARUZU Ltd filed Critical DABURYU KYANINGU MATERIARUZU Ltd
Publication of JPS57152483A publication Critical patent/JPS57152483A/ja
Publication of JPH0220714B2 publication Critical patent/JPH0220714B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/06Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は三価のクロムイオンを含有する水系電
解液からのクロム電着に関し、更に詳しくは電着
組成物及び斯る組成物を利用する電着法に関す
る。 従来、クロムを電着させるには六価のクロムと
少量の硫酸を含有する溶液を用いていた。しかし
ながら、六価のクロムは環境及び健康状重大な危
険を伴いしかも斯る溶液自体も非常に毒性がつよ
くかつ腐食性であるという欠点がある。又、六価
クロムは均一電着性(即ち、つきまわり)が劣
り、被覆力にも限界がありかつ電気効率も悪く、
しかも電流遮断に対して敏感であつて析出物が所
謂白色流出(white−washing)するという欠点
があるとされていた。 上記諸欠点を少くとも部分的に解決するものと
して、三価クロムの錯塩類を用いた電着浴が使用
されている。斯る電着浴は均一電着力に秀れかつ
電流の中断にも耐えることができる。しかしなが
ら、得られるメツキの色調は六価クロムの浴から
得られるものより往々にして濃く、従つて三価ク
ロム錯塩類を含有する浴は用途が限られている。 一方、Cr:NCSのモル比を1:1〜1.6、好ま
しくは約1.2としてCr+++イオンをチオシアン酸塩
で錯塩化した溶液を用いて電着して最適の効率及
び色調を達成すると同時に好ましくないガスの発
生を最少限とする方法が提案されている。チオシ
アネート錯体は生成速度が遅いので、電着に使用
するに先だちクロム酸塩溶液をチオシアネートと
共に80℃で2〜4時間一定のPH条件で加熱して安
定平衡化することが必要であつた。 本発明者による研究の結果、前以つて安定平衡
化することなくチオシアン酸塩を非常に低濃度で
使用できること及び更に他の硫黄含有化合物、好
ましくは硫黄含有有機化合物(これらの化合物は
従来クロム電着には使用されていない)も又当量
的観点から低濃度で添加剤として使用する時効果
的かつ許容し得る電着物が得られることを見出し
た。本発明によれば上記化合物の濃度は常にチオ
シアネート錯体に関して前記したモル比1:1よ
り小であり、好ましくは1桁以下モル比は小さ
い。従つて、チオシアネート錯体生成とは異る機
構が本発明の場合作用してあると考えられる。金
属の析出層の極く近辺では急速かつ平衡化された
錯体の形成、分解及び再構成が行なわれ、少量の
上記化合物は効果的な触媒作用を有するものと考
えられるが、勿論本発明はこの様な作用に関する
水底に限定されるものでないことは言うまでもな
い。 本発明では、硫黄含有化合物の含量は1:1よ
り小であるので、存在する三価のクロムのすべて
とは錯体を形成することはできない。この場合、
種類の異る他の錯化剤を添加することは可能であ
るが必ずしも必要ではない。錯体化していない三
価のクロムイオンは緑色を呈し、本発明に置いて
は通常この様なイオンは存在している。 従つて、本発明は三価のクロムイオン及びこの
三価のクロムイオンに対して当モルより少ない量
の後記群()〜()の化合物を溶解した状態
を含有する電着液を提供するものである。 三価クロムと前記化合物との相対モル濃度は、
従来例のチオシアネート錯体に関して記載した比
率1:1より常に大であり、通常1:0.1より大
である。多くの化合物はクロムの比率が非常に大
きい1:0.01あるいは1:0.001又場合によりそ
れ以上でも効果的である。 実際には、クロムイオン濃度は、0.01〜1.0モ
ル範囲であり、従つて前記化合物は通常1〜500
mg/1、特に10〜100mg/1である。 前記化合物は好ましくは有機物質であつて硫黄
を含有するものである。 各群の化合物について以下詳しく説明する。 ()群の化合物は分子内に
【式】基を 有する化合物であり、好ましくは塩又はエステル
状のチオシアネート又は下記式 (上式において、Xは(a)−R,−S又は−NR2
もしくは(b)−S−又は−S−S−により前記式の
化合物に結合される式、
【式】で表わさ れる別の基を表わし、各Rは同一又は異つていて
もよく、水素、それぞれ直鎖又は分岐のアルキ
ル、アルケニル又はアルキニルの各基、及び単環
(単核)又は複核炭素環式芳香族基を表わし、カ
ルボン酸基、その塩又はエステルで置換されてい
ても又は置換されていなくともよい)で表わされ
る化合物である。これらの有機化合物は水溶性で
なければならず、従つて通常Rが好ましくは水素
あるいは炭素数6以下、例えばC1ないしC3のア
ルキル基であるような比較的分子量が小さいもの
(例えば、300以下)である。本発明で使用する適
当な()群の化合物例は以下のものである。
〔実施例 1〕
下記成分を水に溶解し、得られた溶液を水を用
いて1に希釈した。 クロメタン(Chrometan、クロム含量16.2%)
10g (クロメタンは硫酸クロムと硫酸ナトリウムを
含有する市販品の登録商標である。) ホウ酸 60g 硫酸カリ 100g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 1.0ml 従つて、クロム含量は1.62g(32.2ミリモル)
であつた。溶液のPHを3.2に調整し、次いで50℃
まで加熱した。白金被覆したチタン陽極と黄銅陰
極を用いかつ前記溶液を使用して3分間全電流
5Aの条件下でハルセルテストを行つた。得られ
たメツキは非常に悪いものであつた。即ち、黄銅
板は変色しかつ金属コーテイングは得られなかつ
た。前記溶液にチオウレア(分子量76)を100
mg/(即ち1.32mM)添加してハルセルテスト
を行つた時、淡色で光沢のある一様なクロム電着
物が得られた。クロムとチオウレアのモル比は
1:0.0423であつた。 〔実施例 2〕 チオウレアの代りに分子量75のチオアセトアミ
ドを50mg/(0.67mM)添加した以外実施例1
と同様にして溶液を調製した。ハルテストにより
淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得られ
た。クロムとチオアセトアミドとのモル比は1:
0.0214であつた。 〔実施例 3〕 チオウレアの代りに分子量80のチオシアン酸ナ
トリウムを50mg/(0.625mM)添加した以外
実施例1と同様にして溶液を調製した。ハルセル
テストにより淡色で光沢のある均一なクロム電着
物が得られた。クロとチオシアン酸ナトリウムと
のモル比は1:0.02であつた。 〔実施例 4〕 下記成分を水に溶解し、得られた溶液を水で1
に希釈した。 クロメタン 100g ホウ酸 60g リンゴ酸 10g 硫酸カリ 100g 塩化カリ 50g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 0.5ml クロム含量は16.2g(312mM)であつた。 溶液のPHを3.5にした後、50℃に加熱した。ハ
ルセルテストを行つたところメツキの状態は非常
に悪く、高電流密度域では金属コーテイングが形
成されたが低電流密度域では緑色及び黒色のスジ
となつていた。分子量166のモノ−N−p−トリ
ルチオウレアを20mg/添加してハルセルテスト
を行つたところ淡色で光沢のある均一なクロム電
着物が得られた。クロムとp−トリル−チオウレ
アのモル比は1:0.00038であつた。 〔実施例 5〕 トリル誘導体の代りにモノ−N−アリルチオウ
レア20mg(分子量116であるので0.172mM)を用
いた以外実施例4と同様にして、同様の結果が得
られた。クロムとアリルチオウレアのモル比は
1:0.00055であつた。 〔実施例 6〕 トリルチオウレアの代りに分子量170のジエチ
ルジチオカルバミン酸ナトリウムを50mg/
(0.294mM)使用した以外実施例4と同様にして
溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で光
沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前記
ジチオカルバミン酸塩のモル比は1:0.00094で
あつた。 〔実施例 7〕 下記成分を水に溶解して、この溶液を水で1
とした。 塩化第二クロム 5g (Cr含量1.64g,31.5mM) ホウ酸 60g 塩化カリ 100g 硫酸ナトリウム 150g ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム(60%溶
液) 0.5ml 溶液のPHを2.5に調整し、50℃まで加熱した。
ハルセルテストで得られたメツキは非常に悪い状
態であつた。即ち、黄銅板は変色し、金属コーテ
イングは得られなかつた。分子量286のテトラエ
チルチウラムジサルフアイドを10mg/
(0.035mM)添加してハルセルテストを行つた
時、色調がよく光沢のある均一なクロム電着物が
得られた。クロムと前記チウラムジサルフアイド
とのモル比は1:0.00111であつた。 〔実施例 8〕 チウラムジサルフアイドの代りに分子量208の
テトラメチルチウラムモノサルフアイドを10mg/
(0.048mM)用いた以外実施例6と同様にし
て溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で
光沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前
記チウラムサルフアイドとのモル比は1:
0.00152であつた。 〔実施例 9〕 チオウレアの代りに下記7種類の化合物を用い
た以外実施例1と同様の方法を行つた。 (a) アリルスルホン酸ナトリウム2g/
(13.9mM) クロム:サツカリンのモル比は 1:0.432。 (b) ナトリウムサツカリン5g/(24.4mM) クロム:ナトリウムサツカリンのモル比は 1:0.758。 (c) ジチオジグリコール酸10mg/
(0.0549mM) (モル比1:0.0017)。 (d) O−メルカプト安息香酸50mg/(0.325ml) (モル比1:0.0101)。 (e) 亜二チオン酸ナトリウム200mg/
(1.149mM) (モル比1:0.0357)。 (f) セレン酸ナトリウム500mg/(2.646mM) (モル比1:0.0822)。 (g) チオウレア30mg/(0.395mM、クロムと
のモル比1:0.0123)及びサツカリンナトリウ
ム3g/(14.6mM、クロムとのモル比1:
0.453)の混合物。 すべての組成において、メツキ改良効果があ
り、淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得ら
れた。 以上の如く、本発明は三価のクロムを電着する
のに有効な三価のクロムと下記成分を含有する水
系電着浴を提供するものである。即ち、 ()
【式】基を含む化合物類、好まし くはチオシアネート又は式、X−CSNR2、で
表わされる化合物(上式において、Xは−R,
−S又は−NR2もしくは−S−又は−S−S
−で結合された−CSNR2,RはH、アルキル、
アルケニル、アルキニル又は芳香族の各基を表
わす)。 () 式、(X)−SO2−(Y)、で表わされる化
合物(上式において、Xは(a)末端メルカプト基
を有する飽和又は不飽和の脂肪族基であつて炭
素数2又は3のもの、(b)式、Y−(SO2)−X−
S−S−X−(SO2)−Y、で表わされる上式に
対応するジサルフアイド又は(C)単一の未置
換ベンゼン環、及びYは−ONa,−OH,−NH2
又はXが単一の未置換ベンゼン環である時、前
記ベンゼン環のオルト位への直接−NH−結合
あるいは間接−NH−CO−結合を表わす)。 () 式、HOOC−(CH2)n−Sm−(CH2
n−COOH、で表わされる化合物(上式にお
いて、n及びmは1又は2を表わす)。 () O−メルカプト安息香酸又は同様の水溶
性 O−置換芳香族メルカプト化合物類。 () 硫黄、セレン及びテルルのナトリウム
塩。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 三価のクロムイオンを含有する電着液であつ
    て、下記()〜()群の溶解化合物を前記三
    価のクロムイオンに対して等モル比未満の量を溶
    解含有し、十分な錯化量の錯化剤においても遊離
    しており、前記溶解化合物はそれぞれ、 () Xは(a)−R,−Sもしくは−NR2、又は
    (b)式【式】で表されかつ−S−もしくは −S−S−により最初の式の基と結合される基
    であり、各R基は同じであつても異なつていて
    もよい、水素、直鎖若しくは分岐したアルキル
    基、アルケニル基若しくはアルキニル基、又は
    単核若しくは複核炭素環芳香族基を表わし、こ
    の基Rはカルボン酸基若しくはカルボン酸の塩
    あるいはエステルで置換されていてもいなくと
    もよい下記式、 で表わされる塩もしくはエステル状のチオシア
    ネート又はその化合物、 () Xは(a)メルカプト末端基を有する飽和若
    しくは不飽和の脂肪酸基であつて炭素数2〜3
    の基を、又は(b)単一の未置換ベンゼン環であ
    り、Yは−ONa,−OH,−NH2であり、又はX
    が単一の未置換ベンゼン環である時、このベン
    ゼン環のオルソ位に直接結合する−NH−基若
    しくは間接結合する−NH−CO−基である式、 (X)−SO2−(Y) で表わされる硫黄含有有機化合物、又は、 (Y)−(SO2)−X−S−S−X(SO2)−Y で表わされる対応するジサルフアイド、 () n及びmはそれぞれ1又は2である下記
    式、 HOOC−(CH2)n−Sm−(CH2)n−
    COOH で表わされる硫黄含有有機化合物、 () オルソーメルカプト安息香酸、オルソー
    メルカプトフエノール又はオルソーメルカプト
    ベンゼンスルホン酸、及び () チオエーテル、セレン酸、亜セレン酸、
    テルル酸及び亜テルル酸から選ばれるいずれか
    のナトリウム塩であることを特徴とする電着
    液。 2 前記三価のクロムイオンと前記溶解化合物と
    のモル比が1:0.1より大であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の電着液。 3 前記三価のクロムイオンと前記溶解化合物と
    のモル比が1:0.01より大であることを特徴をす
    る特許請求の範囲第2項記載の電着液。 4 三価のクロムが0.01〜1.0モル含有されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2
    項または第3項のいずれかに記載の電着液。 5 前記電着液には1〜500mg/の前記溶解化
    合物が含有されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第4項記載の電着液。 6 前記電着液には10〜100mg/の前記溶解化
    合物が含有されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第3項記載の電着液。 7 前記有機化合物がチオシアン酸ナトリウム、
    チオウレア、N−モノアリルチオウレア、N−モ
    ノ−p−トリルチオウレア、チオアセトアミド、
    テトラメチルチウラムモノサルフアイド、テトラ
    エチルチウラムジサルフアイド又はジエチルジチ
    オカルバミン酸ナトリウムであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか
    1項に記載の電着液。 8 前記有機化合物がアリルスルホン酸ナトリウ
    ムCH2=CHCH2SO3Na、ビニルスルホン酸ナト
    リウムCH2=CHSO3Na、メルカプトプロパンス
    ルホン酸HS−CH2CH2CH2SO3H、ビス−(ナト
    リウムスルホプロピル)ジサルフアイドHO3S−
    CH2CH2CH2−S−S−CH2CH2CH2−SO3H、
    ベンゼンスルホンアミドC6H5SO2NH2、チアマ
    ゾール、 又はサツカリン、 であることを特徴とする特許請求の範囲第1項な
    いし第6項のいずれか1項に記載の電着液。 9 前記有機化合物がジチオジグリコール酸又は
    チオジグリコール酸であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか1項に
    記載の電着液。 10 前記溶解化合物が有機物質でありその分子
    量が300より小であることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項ないし第6項のいずれか1項に記載
    の電着液。 11 前記電着液は、そのPHが1.5〜4.5の範囲で
    あり、更に緩衝剤、飽和濃度までの範囲の導電性
    塩、湿潤剤及び/又は消泡剤を含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項ないし第10項の
    いずれか1項記載の電着液。 12 前記電着液は、更に還元剤を含有すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第11
    項のいずれか1項に記載の電着液。 13 前記還元剤が硫酸塩、重亜硫酸塩、ホルム
    アルデヒド、グリオキザール又はこれらの二以上
    化合物の混合物であることを特徴とする特許請求
    の範囲第12項に記載の電着液。 14 処理部材を電解液中に浸漬し、この電解液
    を介して陽極から陰極としての処理部材通電して
    電着クロムメツキを行う方法であつて、電解液が
    特許請求の範囲第1項ないし第12項のいずれか
    に記載の電着液であることを特徴とする方法。 15 処理部材にかかる電流密度は1〜100A/
    0.1m2の範囲であり、浴温度は10〜90℃の範囲で
    あり、かつPHは約2.5〜4.0の範囲に保持されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第14項に記載の
    方法。
JP57019523A 1981-02-09 1982-02-09 Chromium electrodeposition Granted JPS57152483A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8103886A GB2093861B (en) 1981-02-09 1981-02-09 Bath for electrodeposition of chromium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57152483A JPS57152483A (en) 1982-09-20
JPH0220714B2 true JPH0220714B2 (ja) 1990-05-10

Family

ID=10519547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57019523A Granted JPS57152483A (en) 1981-02-09 1982-02-09 Chromium electrodeposition

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4473448A (ja)
EP (1) EP0058044B1 (ja)
JP (1) JPS57152483A (ja)
AT (1) ATE20482T1 (ja)
AU (1) AU8028082A (ja)
DE (1) DE3271717D1 (ja)
GB (1) GB2093861B (ja)
ZA (1) ZA82769B (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2109816B (en) * 1981-11-18 1985-01-23 Ibm Electrodeposition of chromium
GB2109815B (en) * 1981-11-18 1985-09-04 Ibm Electrodepositing chromium
ATE33686T1 (de) * 1982-02-09 1988-05-15 Ibm Elektrolytische abscheidung von chrom und seinen legierungen.
US4450052A (en) * 1982-07-28 1984-05-22 M&T Chemicals Inc. Zinc and nickel tolerant trivalent chromium plating baths
US5196109A (en) * 1991-08-01 1993-03-23 Geoffrey Scott Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same
US6258241B1 (en) * 1997-12-10 2001-07-10 Lucent Technologies, Inc. Process for electroplating metals
JP3756778B2 (ja) 2000-06-01 2006-03-15 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドの製造方法
KR101367924B1 (ko) * 2006-03-31 2014-03-17 아토테크 도이칠란드 게엠베하 결정형 크롬 고착물
JP5322083B2 (ja) * 2007-07-12 2013-10-23 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき浴及びその製造方法
ES2491517T3 (es) * 2007-10-02 2014-09-08 Atotech Deutschland Gmbh Depósito de aleación de cromo cristalino
JP2011099126A (ja) * 2008-01-24 2011-05-19 Okuno Chemical Industries Co Ltd 3価クロムめっき浴
US7780840B2 (en) * 2008-10-30 2010-08-24 Trevor Pearson Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath
JP5652585B2 (ja) * 2009-02-16 2015-01-14 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき浴
US9765437B2 (en) 2009-03-24 2017-09-19 Roderick D. Herdman Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments
DE102010055968A1 (de) 2010-12-23 2012-06-28 Coventya Spa Substrat mit korrosionsbeständigem Überzug und Verfahren zu dessen Herstellung
US9689081B2 (en) 2011-05-03 2017-06-27 Atotech Deutschland Gmbh Electroplating bath and method for producing dark chromium layers
US9758884B2 (en) * 2012-02-16 2017-09-12 Stacey Hingley Color control of trivalent chromium deposits
GB2534883A (en) 2015-02-03 2016-08-10 Univ Leicester Electrolyte for electroplating
US20170306515A1 (en) 2016-04-21 2017-10-26 Macdermid Acumen, Inc Dark Colored Chromium Based Electrodeposits
CN111465719A (zh) * 2017-12-13 2020-07-28 株式会社杰希优 三价铬镀液以及使用其的镀铬方法
KR20200096932A (ko) * 2017-12-14 2020-08-14 가부시끼가이샤 제이씨유 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 3 가 크롬 도금 방법
EP3728701A1 (en) * 2017-12-22 2020-10-28 Tata Steel IJmuiden B.V. Method for manufacturing chromium-chromium oxide coated blackplate
CN111304702A (zh) * 2020-04-21 2020-06-19 重庆中会表面处理有限公司 一种零件镀铬工艺方法
JP2023018744A (ja) * 2021-07-28 2023-02-09 株式会社Jcu 白色3価クロムめっき浴およびこれを利用した被めっき物への白色3価クロムめっき方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5175631A (en) * 1974-12-11 1976-06-30 Ibm Kuromu mataha kuromugokin no denkimetsukyoeki
JPS5265138A (en) * 1975-11-25 1977-05-30 Int Lead Zinc Res Plating bath of trivalent chromium
JPS5395134A (en) * 1976-12-16 1978-08-19 Ibm Chrome or chrome alloy electroplating liquid
JPS5395834A (en) * 1977-01-26 1978-08-22 Ibm Chrome or chrome alloy electroplating liquid
JPS5487643A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Mitsui Mining & Smelting Co Additive to three valency chromium plating solution
JPS5565387A (en) * 1978-11-11 1980-05-16 Ibm Chromium alloy electroplating bath
JPS5565386A (en) * 1978-11-11 1980-05-16 Ibm Chromium electroplating bath
JPS55119192A (en) * 1979-03-09 1980-09-12 Toyo Soda Mfg Co Ltd Trivalent chromium plating bath

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2088615A (en) * 1932-06-29 1937-08-03 Schlotter Max Electrodeposition of chromium
US3772170A (en) * 1966-10-31 1973-11-13 N Bharucha Electrodeposition of chromium
US3706641A (en) * 1971-02-19 1972-12-19 Du Pont Chromium plating with chromic compound and organic additive
US3943040A (en) * 1974-09-20 1976-03-09 The Harshaw Chemical Company Microcracked chromium from a bath using an organic sulfur compound
US4062737A (en) * 1974-12-11 1977-12-13 International Business Machines Corporation Electrodeposition of chromium
GB1488381A (en) * 1975-09-01 1977-10-12 Bnf Metals Tech Centre Trivalent chromium plating bath
GB1552263A (en) * 1977-03-04 1979-09-12 Bnf Metals Tech Centre Trivalent chromium plating baths
US4184929A (en) * 1978-04-03 1980-01-22 Oxy Metal Industries Corporation Trivalent chromium plating bath composition and process
GB2038361B (en) * 1978-11-11 1983-08-17 Ibm Trivalent chromium plating bath
EP0079711A3 (en) * 1981-11-16 1984-10-03 The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and Touch sensitive switches

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5175631A (en) * 1974-12-11 1976-06-30 Ibm Kuromu mataha kuromugokin no denkimetsukyoeki
JPS5265138A (en) * 1975-11-25 1977-05-30 Int Lead Zinc Res Plating bath of trivalent chromium
JPS5395134A (en) * 1976-12-16 1978-08-19 Ibm Chrome or chrome alloy electroplating liquid
JPS5395834A (en) * 1977-01-26 1978-08-22 Ibm Chrome or chrome alloy electroplating liquid
JPS5487643A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Mitsui Mining & Smelting Co Additive to three valency chromium plating solution
JPS5565387A (en) * 1978-11-11 1980-05-16 Ibm Chromium alloy electroplating bath
JPS5565386A (en) * 1978-11-11 1980-05-16 Ibm Chromium electroplating bath
JPS55119192A (en) * 1979-03-09 1980-09-12 Toyo Soda Mfg Co Ltd Trivalent chromium plating bath

Also Published As

Publication number Publication date
DE3271717D1 (en) 1986-07-24
EP0058044A1 (en) 1982-08-18
EP0058044B1 (en) 1986-06-18
AU8028082A (en) 1982-08-19
ZA82769B (en) 1982-12-29
GB2093861B (en) 1984-08-22
JPS57152483A (en) 1982-09-20
GB2093861A (en) 1982-09-08
ATE20482T1 (de) 1986-07-15
US4473448A (en) 1984-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0220714B2 (ja)
EP0611840B1 (en) Cyanide-free plating solutions for monovalent metals
US6165342A (en) Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys
US5196109A (en) Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same
CN105829583B (zh) 从电解质中沉积铜-锡合金和铜-锡-锌合金
KR20110031183A (ko) 개선된 구리-주석 전해질 및 청동층의 침착 방법
JP2003535222A (ja) 錫−銀合金層を電着させるための電解液および方法
EP0079768B1 (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
EP0085771B1 (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
EP0079769B1 (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
GB2109817A (en) Electrodeposition of chromium
US3002903A (en) Electrodeposition of nickel
US20050077186A1 (en) Electrolysis bath for electrodepositing silver-tin alloys
JPS5887291A (ja) クロム電気メツキ液
US3804729A (en) Electrolyte and process for electro-depositing copper
US3767539A (en) Acid galvanic copper bath
JPS6112036B2 (ja)
JPH08232081A (ja) 水栓金具
KR810002127B1 (ko) 전착물 제조용 조성물
GB2171114A (en) Trivalent chromium electroplating baths and rejuvenation thereof