JPH0220714B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0220714B2 JPH0220714B2 JP57019523A JP1952382A JPH0220714B2 JP H0220714 B2 JPH0220714 B2 JP H0220714B2 JP 57019523 A JP57019523 A JP 57019523A JP 1952382 A JP1952382 A JP 1952382A JP H0220714 B2 JPH0220714 B2 JP H0220714B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodeposition liquid
- group
- liquid according
- acid
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 29
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 ester thiocyanate Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Chemical compound CC(N)=S YUKQRDCYNOVPGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N thioacetamide Natural products CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VXLFMCZPFIKKDZ-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)thiourea Chemical compound CC1=CC=C(NC(N)=S)C=C1 VXLFMCZPFIKKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethyldisulfanyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CSSCC(O)=O DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CSJDJKUYRKSIDY-UHFFFAOYSA-N 1-sulfanylpropane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(S)S(O)(=O)=O CSJDJKUYRKSIDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 claims 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 claims 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims 1
- PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N methimazole Chemical compound CN1C=CNC1=S PMRYVIKBURPHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N orthotelluric acid Chemical compound O[Te](O)(O)(O)(O)O FXADMRZICBQPQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N selenic acid Chemical compound O[Se](O)(=O)=O QYHFIVBSNOWOCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 claims 1
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L tellurite Chemical compound [O-][Te]([O-])=O SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229960002178 thiamazole Drugs 0.000 claims 1
- UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N thiodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CSCC(O)=O UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical class [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical class [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011669 selenium Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052714 tellurium Chemical class 0.000 abstract description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical class [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 abstract description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 abstract 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M Saccharin sodium Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)[N-]S(=O)(=O)C2=C1 WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N carbamothioylsulfanyl carbamodithioate Chemical compound NC(=S)SSC(N)=S CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COS([O-])(=O)=O DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N (2,4,5-trichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- PMYDPQQPEAYXKD-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-n-naphthalen-2-ylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC(=O)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3O)=CC=C21 PMYDPQQPEAYXKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000359 chromic chloride Drugs 0.000 description 1
- LJAOOBNHPFKCDR-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] LJAOOBNHPFKCDR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000007831 chromium(III) chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011636 chromium(III) chloride Substances 0.000 description 1
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- RZMWTGFSAMRLQH-UHFFFAOYSA-L disodium;2,2-dihexyl-3-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCC(C([O-])=O)(C(C([O-])=O)S(O)(=O)=O)CCCCCC RZMWTGFSAMRLQH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000008521 reorganization Effects 0.000 description 1
- 229940085605 saccharin sodium Drugs 0.000 description 1
- 229940091258 selenium supplement Drugs 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960001881 sodium selenate Drugs 0.000 description 1
- 235000018716 sodium selenate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011655 sodium selenate Substances 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
本発明は三価のクロムイオンを含有する水系電
解液からのクロム電着に関し、更に詳しくは電着
組成物及び斯る組成物を利用する電着法に関す
る。 従来、クロムを電着させるには六価のクロムと
少量の硫酸を含有する溶液を用いていた。しかし
ながら、六価のクロムは環境及び健康状重大な危
険を伴いしかも斯る溶液自体も非常に毒性がつよ
くかつ腐食性であるという欠点がある。又、六価
クロムは均一電着性(即ち、つきまわり)が劣
り、被覆力にも限界がありかつ電気効率も悪く、
しかも電流遮断に対して敏感であつて析出物が所
謂白色流出(white−washing)するという欠点
があるとされていた。 上記諸欠点を少くとも部分的に解決するものと
して、三価クロムの錯塩類を用いた電着浴が使用
されている。斯る電着浴は均一電着力に秀れかつ
電流の中断にも耐えることができる。しかしなが
ら、得られるメツキの色調は六価クロムの浴から
得られるものより往々にして濃く、従つて三価ク
ロム錯塩類を含有する浴は用途が限られている。 一方、Cr:NCSのモル比を1:1〜1.6、好ま
しくは約1.2としてCr+++イオンをチオシアン酸塩
で錯塩化した溶液を用いて電着して最適の効率及
び色調を達成すると同時に好ましくないガスの発
生を最少限とする方法が提案されている。チオシ
アネート錯体は生成速度が遅いので、電着に使用
するに先だちクロム酸塩溶液をチオシアネートと
共に80℃で2〜4時間一定のPH条件で加熱して安
定平衡化することが必要であつた。 本発明者による研究の結果、前以つて安定平衡
化することなくチオシアン酸塩を非常に低濃度で
使用できること及び更に他の硫黄含有化合物、好
ましくは硫黄含有有機化合物(これらの化合物は
従来クロム電着には使用されていない)も又当量
的観点から低濃度で添加剤として使用する時効果
的かつ許容し得る電着物が得られることを見出し
た。本発明によれば上記化合物の濃度は常にチオ
シアネート錯体に関して前記したモル比1:1よ
り小であり、好ましくは1桁以下モル比は小さ
い。従つて、チオシアネート錯体生成とは異る機
構が本発明の場合作用してあると考えられる。金
属の析出層の極く近辺では急速かつ平衡化された
錯体の形成、分解及び再構成が行なわれ、少量の
上記化合物は効果的な触媒作用を有するものと考
えられるが、勿論本発明はこの様な作用に関する
水底に限定されるものでないことは言うまでもな
い。 本発明では、硫黄含有化合物の含量は1:1よ
り小であるので、存在する三価のクロムのすべて
とは錯体を形成することはできない。この場合、
種類の異る他の錯化剤を添加することは可能であ
るが必ずしも必要ではない。錯体化していない三
価のクロムイオンは緑色を呈し、本発明に置いて
は通常この様なイオンは存在している。 従つて、本発明は三価のクロムイオン及びこの
三価のクロムイオンに対して当モルより少ない量
の後記群()〜()の化合物を溶解した状態
を含有する電着液を提供するものである。 三価クロムと前記化合物との相対モル濃度は、
従来例のチオシアネート錯体に関して記載した比
率1:1より常に大であり、通常1:0.1より大
である。多くの化合物はクロムの比率が非常に大
きい1:0.01あるいは1:0.001又場合によりそ
れ以上でも効果的である。 実際には、クロムイオン濃度は、0.01〜1.0モ
ル範囲であり、従つて前記化合物は通常1〜500
mg/1、特に10〜100mg/1である。 前記化合物は好ましくは有機物質であつて硫黄
を含有するものである。 各群の化合物について以下詳しく説明する。 ()群の化合物は分子内に
解液からのクロム電着に関し、更に詳しくは電着
組成物及び斯る組成物を利用する電着法に関す
る。 従来、クロムを電着させるには六価のクロムと
少量の硫酸を含有する溶液を用いていた。しかし
ながら、六価のクロムは環境及び健康状重大な危
険を伴いしかも斯る溶液自体も非常に毒性がつよ
くかつ腐食性であるという欠点がある。又、六価
クロムは均一電着性(即ち、つきまわり)が劣
り、被覆力にも限界がありかつ電気効率も悪く、
しかも電流遮断に対して敏感であつて析出物が所
謂白色流出(white−washing)するという欠点
があるとされていた。 上記諸欠点を少くとも部分的に解決するものと
して、三価クロムの錯塩類を用いた電着浴が使用
されている。斯る電着浴は均一電着力に秀れかつ
電流の中断にも耐えることができる。しかしなが
ら、得られるメツキの色調は六価クロムの浴から
得られるものより往々にして濃く、従つて三価ク
ロム錯塩類を含有する浴は用途が限られている。 一方、Cr:NCSのモル比を1:1〜1.6、好ま
しくは約1.2としてCr+++イオンをチオシアン酸塩
で錯塩化した溶液を用いて電着して最適の効率及
び色調を達成すると同時に好ましくないガスの発
生を最少限とする方法が提案されている。チオシ
アネート錯体は生成速度が遅いので、電着に使用
するに先だちクロム酸塩溶液をチオシアネートと
共に80℃で2〜4時間一定のPH条件で加熱して安
定平衡化することが必要であつた。 本発明者による研究の結果、前以つて安定平衡
化することなくチオシアン酸塩を非常に低濃度で
使用できること及び更に他の硫黄含有化合物、好
ましくは硫黄含有有機化合物(これらの化合物は
従来クロム電着には使用されていない)も又当量
的観点から低濃度で添加剤として使用する時効果
的かつ許容し得る電着物が得られることを見出し
た。本発明によれば上記化合物の濃度は常にチオ
シアネート錯体に関して前記したモル比1:1よ
り小であり、好ましくは1桁以下モル比は小さ
い。従つて、チオシアネート錯体生成とは異る機
構が本発明の場合作用してあると考えられる。金
属の析出層の極く近辺では急速かつ平衡化された
錯体の形成、分解及び再構成が行なわれ、少量の
上記化合物は効果的な触媒作用を有するものと考
えられるが、勿論本発明はこの様な作用に関する
水底に限定されるものでないことは言うまでもな
い。 本発明では、硫黄含有化合物の含量は1:1よ
り小であるので、存在する三価のクロムのすべて
とは錯体を形成することはできない。この場合、
種類の異る他の錯化剤を添加することは可能であ
るが必ずしも必要ではない。錯体化していない三
価のクロムイオンは緑色を呈し、本発明に置いて
は通常この様なイオンは存在している。 従つて、本発明は三価のクロムイオン及びこの
三価のクロムイオンに対して当モルより少ない量
の後記群()〜()の化合物を溶解した状態
を含有する電着液を提供するものである。 三価クロムと前記化合物との相対モル濃度は、
従来例のチオシアネート錯体に関して記載した比
率1:1より常に大であり、通常1:0.1より大
である。多くの化合物はクロムの比率が非常に大
きい1:0.01あるいは1:0.001又場合によりそ
れ以上でも効果的である。 実際には、クロムイオン濃度は、0.01〜1.0モ
ル範囲であり、従つて前記化合物は通常1〜500
mg/1、特に10〜100mg/1である。 前記化合物は好ましくは有機物質であつて硫黄
を含有するものである。 各群の化合物について以下詳しく説明する。 ()群の化合物は分子内に
【式】基を
有する化合物であり、好ましくは塩又はエステル
状のチオシアネート又は下記式 (上式において、Xは(a)−R,−S又は−NR2
もしくは(b)−S−又は−S−S−により前記式の
化合物に結合される式、
状のチオシアネート又は下記式 (上式において、Xは(a)−R,−S又は−NR2
もしくは(b)−S−又は−S−S−により前記式の
化合物に結合される式、
【式】で表わさ
れる別の基を表わし、各Rは同一又は異つていて
もよく、水素、それぞれ直鎖又は分岐のアルキ
ル、アルケニル又はアルキニルの各基、及び単環
(単核)又は複核炭素環式芳香族基を表わし、カ
ルボン酸基、その塩又はエステルで置換されてい
ても又は置換されていなくともよい)で表わされ
る化合物である。これらの有機化合物は水溶性で
なければならず、従つて通常Rが好ましくは水素
あるいは炭素数6以下、例えばC1ないしC3のア
ルキル基であるような比較的分子量が小さいもの
(例えば、300以下)である。本発明で使用する適
当な()群の化合物例は以下のものである。
もよく、水素、それぞれ直鎖又は分岐のアルキ
ル、アルケニル又はアルキニルの各基、及び単環
(単核)又は複核炭素環式芳香族基を表わし、カ
ルボン酸基、その塩又はエステルで置換されてい
ても又は置換されていなくともよい)で表わされ
る化合物である。これらの有機化合物は水溶性で
なければならず、従つて通常Rが好ましくは水素
あるいは炭素数6以下、例えばC1ないしC3のア
ルキル基であるような比較的分子量が小さいもの
(例えば、300以下)である。本発明で使用する適
当な()群の化合物例は以下のものである。
下記成分を水に溶解し、得られた溶液を水を用
いて1に希釈した。 クロメタン(Chrometan、クロム含量16.2%)
10g (クロメタンは硫酸クロムと硫酸ナトリウムを
含有する市販品の登録商標である。) ホウ酸 60g 硫酸カリ 100g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 1.0ml 従つて、クロム含量は1.62g(32.2ミリモル)
であつた。溶液のPHを3.2に調整し、次いで50℃
まで加熱した。白金被覆したチタン陽極と黄銅陰
極を用いかつ前記溶液を使用して3分間全電流
5Aの条件下でハルセルテストを行つた。得られ
たメツキは非常に悪いものであつた。即ち、黄銅
板は変色しかつ金属コーテイングは得られなかつ
た。前記溶液にチオウレア(分子量76)を100
mg/(即ち1.32mM)添加してハルセルテスト
を行つた時、淡色で光沢のある一様なクロム電着
物が得られた。クロムとチオウレアのモル比は
1:0.0423であつた。 〔実施例 2〕 チオウレアの代りに分子量75のチオアセトアミ
ドを50mg/(0.67mM)添加した以外実施例1
と同様にして溶液を調製した。ハルテストにより
淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得られ
た。クロムとチオアセトアミドとのモル比は1:
0.0214であつた。 〔実施例 3〕 チオウレアの代りに分子量80のチオシアン酸ナ
トリウムを50mg/(0.625mM)添加した以外
実施例1と同様にして溶液を調製した。ハルセル
テストにより淡色で光沢のある均一なクロム電着
物が得られた。クロとチオシアン酸ナトリウムと
のモル比は1:0.02であつた。 〔実施例 4〕 下記成分を水に溶解し、得られた溶液を水で1
に希釈した。 クロメタン 100g ホウ酸 60g リンゴ酸 10g 硫酸カリ 100g 塩化カリ 50g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 0.5ml クロム含量は16.2g(312mM)であつた。 溶液のPHを3.5にした後、50℃に加熱した。ハ
ルセルテストを行つたところメツキの状態は非常
に悪く、高電流密度域では金属コーテイングが形
成されたが低電流密度域では緑色及び黒色のスジ
となつていた。分子量166のモノ−N−p−トリ
ルチオウレアを20mg/添加してハルセルテスト
を行つたところ淡色で光沢のある均一なクロム電
着物が得られた。クロムとp−トリル−チオウレ
アのモル比は1:0.00038であつた。 〔実施例 5〕 トリル誘導体の代りにモノ−N−アリルチオウ
レア20mg(分子量116であるので0.172mM)を用
いた以外実施例4と同様にして、同様の結果が得
られた。クロムとアリルチオウレアのモル比は
1:0.00055であつた。 〔実施例 6〕 トリルチオウレアの代りに分子量170のジエチ
ルジチオカルバミン酸ナトリウムを50mg/
(0.294mM)使用した以外実施例4と同様にして
溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で光
沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前記
ジチオカルバミン酸塩のモル比は1:0.00094で
あつた。 〔実施例 7〕 下記成分を水に溶解して、この溶液を水で1
とした。 塩化第二クロム 5g (Cr含量1.64g,31.5mM) ホウ酸 60g 塩化カリ 100g 硫酸ナトリウム 150g ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム(60%溶
液) 0.5ml 溶液のPHを2.5に調整し、50℃まで加熱した。
ハルセルテストで得られたメツキは非常に悪い状
態であつた。即ち、黄銅板は変色し、金属コーテ
イングは得られなかつた。分子量286のテトラエ
チルチウラムジサルフアイドを10mg/
(0.035mM)添加してハルセルテストを行つた
時、色調がよく光沢のある均一なクロム電着物が
得られた。クロムと前記チウラムジサルフアイド
とのモル比は1:0.00111であつた。 〔実施例 8〕 チウラムジサルフアイドの代りに分子量208の
テトラメチルチウラムモノサルフアイドを10mg/
(0.048mM)用いた以外実施例6と同様にし
て溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で
光沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前
記チウラムサルフアイドとのモル比は1:
0.00152であつた。 〔実施例 9〕 チオウレアの代りに下記7種類の化合物を用い
た以外実施例1と同様の方法を行つた。 (a) アリルスルホン酸ナトリウム2g/
(13.9mM) クロム:サツカリンのモル比は 1:0.432。 (b) ナトリウムサツカリン5g/(24.4mM) クロム:ナトリウムサツカリンのモル比は 1:0.758。 (c) ジチオジグリコール酸10mg/
(0.0549mM) (モル比1:0.0017)。 (d) O−メルカプト安息香酸50mg/(0.325ml) (モル比1:0.0101)。 (e) 亜二チオン酸ナトリウム200mg/
(1.149mM) (モル比1:0.0357)。 (f) セレン酸ナトリウム500mg/(2.646mM) (モル比1:0.0822)。 (g) チオウレア30mg/(0.395mM、クロムと
のモル比1:0.0123)及びサツカリンナトリウ
ム3g/(14.6mM、クロムとのモル比1:
0.453)の混合物。 すべての組成において、メツキ改良効果があ
り、淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得ら
れた。 以上の如く、本発明は三価のクロムを電着する
のに有効な三価のクロムと下記成分を含有する水
系電着浴を提供するものである。即ち、 ()
いて1に希釈した。 クロメタン(Chrometan、クロム含量16.2%)
10g (クロメタンは硫酸クロムと硫酸ナトリウムを
含有する市販品の登録商標である。) ホウ酸 60g 硫酸カリ 100g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 1.0ml 従つて、クロム含量は1.62g(32.2ミリモル)
であつた。溶液のPHを3.2に調整し、次いで50℃
まで加熱した。白金被覆したチタン陽極と黄銅陰
極を用いかつ前記溶液を使用して3分間全電流
5Aの条件下でハルセルテストを行つた。得られ
たメツキは非常に悪いものであつた。即ち、黄銅
板は変色しかつ金属コーテイングは得られなかつ
た。前記溶液にチオウレア(分子量76)を100
mg/(即ち1.32mM)添加してハルセルテスト
を行つた時、淡色で光沢のある一様なクロム電着
物が得られた。クロムとチオウレアのモル比は
1:0.0423であつた。 〔実施例 2〕 チオウレアの代りに分子量75のチオアセトアミ
ドを50mg/(0.67mM)添加した以外実施例1
と同様にして溶液を調製した。ハルテストにより
淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得られ
た。クロムとチオアセトアミドとのモル比は1:
0.0214であつた。 〔実施例 3〕 チオウレアの代りに分子量80のチオシアン酸ナ
トリウムを50mg/(0.625mM)添加した以外
実施例1と同様にして溶液を調製した。ハルセル
テストにより淡色で光沢のある均一なクロム電着
物が得られた。クロとチオシアン酸ナトリウムと
のモル比は1:0.02であつた。 〔実施例 4〕 下記成分を水に溶解し、得られた溶液を水で1
に希釈した。 クロメタン 100g ホウ酸 60g リンゴ酸 10g 硫酸カリ 100g 塩化カリ 50g 2−エチルヘキシル硫酸ナトリウム(40%溶
液) 0.5ml クロム含量は16.2g(312mM)であつた。 溶液のPHを3.5にした後、50℃に加熱した。ハ
ルセルテストを行つたところメツキの状態は非常
に悪く、高電流密度域では金属コーテイングが形
成されたが低電流密度域では緑色及び黒色のスジ
となつていた。分子量166のモノ−N−p−トリ
ルチオウレアを20mg/添加してハルセルテスト
を行つたところ淡色で光沢のある均一なクロム電
着物が得られた。クロムとp−トリル−チオウレ
アのモル比は1:0.00038であつた。 〔実施例 5〕 トリル誘導体の代りにモノ−N−アリルチオウ
レア20mg(分子量116であるので0.172mM)を用
いた以外実施例4と同様にして、同様の結果が得
られた。クロムとアリルチオウレアのモル比は
1:0.00055であつた。 〔実施例 6〕 トリルチオウレアの代りに分子量170のジエチ
ルジチオカルバミン酸ナトリウムを50mg/
(0.294mM)使用した以外実施例4と同様にして
溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で光
沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前記
ジチオカルバミン酸塩のモル比は1:0.00094で
あつた。 〔実施例 7〕 下記成分を水に溶解して、この溶液を水で1
とした。 塩化第二クロム 5g (Cr含量1.64g,31.5mM) ホウ酸 60g 塩化カリ 100g 硫酸ナトリウム 150g ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム(60%溶
液) 0.5ml 溶液のPHを2.5に調整し、50℃まで加熱した。
ハルセルテストで得られたメツキは非常に悪い状
態であつた。即ち、黄銅板は変色し、金属コーテ
イングは得られなかつた。分子量286のテトラエ
チルチウラムジサルフアイドを10mg/
(0.035mM)添加してハルセルテストを行つた
時、色調がよく光沢のある均一なクロム電着物が
得られた。クロムと前記チウラムジサルフアイド
とのモル比は1:0.00111であつた。 〔実施例 8〕 チウラムジサルフアイドの代りに分子量208の
テトラメチルチウラムモノサルフアイドを10mg/
(0.048mM)用いた以外実施例6と同様にし
て溶液を調製した。ハルセルテストにより淡色で
光沢のある均一な電着物が得られた。クロムと前
記チウラムサルフアイドとのモル比は1:
0.00152であつた。 〔実施例 9〕 チオウレアの代りに下記7種類の化合物を用い
た以外実施例1と同様の方法を行つた。 (a) アリルスルホン酸ナトリウム2g/
(13.9mM) クロム:サツカリンのモル比は 1:0.432。 (b) ナトリウムサツカリン5g/(24.4mM) クロム:ナトリウムサツカリンのモル比は 1:0.758。 (c) ジチオジグリコール酸10mg/
(0.0549mM) (モル比1:0.0017)。 (d) O−メルカプト安息香酸50mg/(0.325ml) (モル比1:0.0101)。 (e) 亜二チオン酸ナトリウム200mg/
(1.149mM) (モル比1:0.0357)。 (f) セレン酸ナトリウム500mg/(2.646mM) (モル比1:0.0822)。 (g) チオウレア30mg/(0.395mM、クロムと
のモル比1:0.0123)及びサツカリンナトリウ
ム3g/(14.6mM、クロムとのモル比1:
0.453)の混合物。 すべての組成において、メツキ改良効果があ
り、淡色で光沢のある均一なクロム電着物が得ら
れた。 以上の如く、本発明は三価のクロムを電着する
のに有効な三価のクロムと下記成分を含有する水
系電着浴を提供するものである。即ち、 ()
【式】基を含む化合物類、好まし
くはチオシアネート又は式、X−CSNR2、で
表わされる化合物(上式において、Xは−R,
−S又は−NR2もしくは−S−又は−S−S
−で結合された−CSNR2,RはH、アルキル、
アルケニル、アルキニル又は芳香族の各基を表
わす)。 () 式、(X)−SO2−(Y)、で表わされる化
合物(上式において、Xは(a)末端メルカプト基
を有する飽和又は不飽和の脂肪族基であつて炭
素数2又は3のもの、(b)式、Y−(SO2)−X−
S−S−X−(SO2)−Y、で表わされる上式に
対応するジサルフアイド又は(C)単一の未置
換ベンゼン環、及びYは−ONa,−OH,−NH2
又はXが単一の未置換ベンゼン環である時、前
記ベンゼン環のオルト位への直接−NH−結合
あるいは間接−NH−CO−結合を表わす)。 () 式、HOOC−(CH2)n−Sm−(CH2)
n−COOH、で表わされる化合物(上式にお
いて、n及びmは1又は2を表わす)。 () O−メルカプト安息香酸又は同様の水溶
性 O−置換芳香族メルカプト化合物類。 () 硫黄、セレン及びテルルのナトリウム
塩。
表わされる化合物(上式において、Xは−R,
−S又は−NR2もしくは−S−又は−S−S
−で結合された−CSNR2,RはH、アルキル、
アルケニル、アルキニル又は芳香族の各基を表
わす)。 () 式、(X)−SO2−(Y)、で表わされる化
合物(上式において、Xは(a)末端メルカプト基
を有する飽和又は不飽和の脂肪族基であつて炭
素数2又は3のもの、(b)式、Y−(SO2)−X−
S−S−X−(SO2)−Y、で表わされる上式に
対応するジサルフアイド又は(C)単一の未置
換ベンゼン環、及びYは−ONa,−OH,−NH2
又はXが単一の未置換ベンゼン環である時、前
記ベンゼン環のオルト位への直接−NH−結合
あるいは間接−NH−CO−結合を表わす)。 () 式、HOOC−(CH2)n−Sm−(CH2)
n−COOH、で表わされる化合物(上式にお
いて、n及びmは1又は2を表わす)。 () O−メルカプト安息香酸又は同様の水溶
性 O−置換芳香族メルカプト化合物類。 () 硫黄、セレン及びテルルのナトリウム
塩。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 三価のクロムイオンを含有する電着液であつ
て、下記()〜()群の溶解化合物を前記三
価のクロムイオンに対して等モル比未満の量を溶
解含有し、十分な錯化量の錯化剤においても遊離
しており、前記溶解化合物はそれぞれ、 () Xは(a)−R,−Sもしくは−NR2、又は
(b)式【式】で表されかつ−S−もしくは −S−S−により最初の式の基と結合される基
であり、各R基は同じであつても異なつていて
もよい、水素、直鎖若しくは分岐したアルキル
基、アルケニル基若しくはアルキニル基、又は
単核若しくは複核炭素環芳香族基を表わし、こ
の基Rはカルボン酸基若しくはカルボン酸の塩
あるいはエステルで置換されていてもいなくと
もよい下記式、 で表わされる塩もしくはエステル状のチオシア
ネート又はその化合物、 () Xは(a)メルカプト末端基を有する飽和若
しくは不飽和の脂肪酸基であつて炭素数2〜3
の基を、又は(b)単一の未置換ベンゼン環であ
り、Yは−ONa,−OH,−NH2であり、又はX
が単一の未置換ベンゼン環である時、このベン
ゼン環のオルソ位に直接結合する−NH−基若
しくは間接結合する−NH−CO−基である式、 (X)−SO2−(Y) で表わされる硫黄含有有機化合物、又は、 (Y)−(SO2)−X−S−S−X(SO2)−Y で表わされる対応するジサルフアイド、 () n及びmはそれぞれ1又は2である下記
式、 HOOC−(CH2)n−Sm−(CH2)n−
COOH で表わされる硫黄含有有機化合物、 () オルソーメルカプト安息香酸、オルソー
メルカプトフエノール又はオルソーメルカプト
ベンゼンスルホン酸、及び () チオエーテル、セレン酸、亜セレン酸、
テルル酸及び亜テルル酸から選ばれるいずれか
のナトリウム塩であることを特徴とする電着
液。 2 前記三価のクロムイオンと前記溶解化合物と
のモル比が1:0.1より大であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の電着液。 3 前記三価のクロムイオンと前記溶解化合物と
のモル比が1:0.01より大であることを特徴をす
る特許請求の範囲第2項記載の電着液。 4 三価のクロムが0.01〜1.0モル含有されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2
項または第3項のいずれかに記載の電着液。 5 前記電着液には1〜500mg/の前記溶解化
合物が含有されていることを特徴とする特許請求
の範囲第4項記載の電着液。 6 前記電着液には10〜100mg/の前記溶解化
合物が含有されていることを特徴とする特許請求
の範囲第3項記載の電着液。 7 前記有機化合物がチオシアン酸ナトリウム、
チオウレア、N−モノアリルチオウレア、N−モ
ノ−p−トリルチオウレア、チオアセトアミド、
テトラメチルチウラムモノサルフアイド、テトラ
エチルチウラムジサルフアイド又はジエチルジチ
オカルバミン酸ナトリウムであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか
1項に記載の電着液。 8 前記有機化合物がアリルスルホン酸ナトリウ
ムCH2=CHCH2SO3Na、ビニルスルホン酸ナト
リウムCH2=CHSO3Na、メルカプトプロパンス
ルホン酸HS−CH2CH2CH2SO3H、ビス−(ナト
リウムスルホプロピル)ジサルフアイドHO3S−
CH2CH2CH2−S−S−CH2CH2CH2−SO3H、
ベンゼンスルホンアミドC6H5SO2NH2、チアマ
ゾール、 又はサツカリン、 であることを特徴とする特許請求の範囲第1項な
いし第6項のいずれか1項に記載の電着液。 9 前記有機化合物がジチオジグリコール酸又は
チオジグリコール酸であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか1項に
記載の電着液。 10 前記溶解化合物が有機物質でありその分子
量が300より小であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項ないし第6項のいずれか1項に記載
の電着液。 11 前記電着液は、そのPHが1.5〜4.5の範囲で
あり、更に緩衝剤、飽和濃度までの範囲の導電性
塩、湿潤剤及び/又は消泡剤を含有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項ないし第10項の
いずれか1項記載の電着液。 12 前記電着液は、更に還元剤を含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第11
項のいずれか1項に記載の電着液。 13 前記還元剤が硫酸塩、重亜硫酸塩、ホルム
アルデヒド、グリオキザール又はこれらの二以上
化合物の混合物であることを特徴とする特許請求
の範囲第12項に記載の電着液。 14 処理部材を電解液中に浸漬し、この電解液
を介して陽極から陰極としての処理部材通電して
電着クロムメツキを行う方法であつて、電解液が
特許請求の範囲第1項ないし第12項のいずれか
に記載の電着液であることを特徴とする方法。 15 処理部材にかかる電流密度は1〜100A/
0.1m2の範囲であり、浴温度は10〜90℃の範囲で
あり、かつPHは約2.5〜4.0の範囲に保持されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第14項に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8103886A GB2093861B (en) | 1981-02-09 | 1981-02-09 | Bath for electrodeposition of chromium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57152483A JPS57152483A (en) | 1982-09-20 |
JPH0220714B2 true JPH0220714B2 (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=10519547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57019523A Granted JPS57152483A (en) | 1981-02-09 | 1982-02-09 | Chromium electrodeposition |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4473448A (ja) |
EP (1) | EP0058044B1 (ja) |
JP (1) | JPS57152483A (ja) |
AT (1) | ATE20482T1 (ja) |
AU (1) | AU8028082A (ja) |
DE (1) | DE3271717D1 (ja) |
GB (1) | GB2093861B (ja) |
ZA (1) | ZA82769B (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2109816B (en) * | 1981-11-18 | 1985-01-23 | Ibm | Electrodeposition of chromium |
GB2109815B (en) * | 1981-11-18 | 1985-09-04 | Ibm | Electrodepositing chromium |
ATE33686T1 (de) * | 1982-02-09 | 1988-05-15 | Ibm | Elektrolytische abscheidung von chrom und seinen legierungen. |
US4450052A (en) * | 1982-07-28 | 1984-05-22 | M&T Chemicals Inc. | Zinc and nickel tolerant trivalent chromium plating baths |
US5196109A (en) * | 1991-08-01 | 1993-03-23 | Geoffrey Scott | Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same |
US6258241B1 (en) * | 1997-12-10 | 2001-07-10 | Lucent Technologies, Inc. | Process for electroplating metals |
JP3756778B2 (ja) | 2000-06-01 | 2006-03-15 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
KR101367924B1 (ko) * | 2006-03-31 | 2014-03-17 | 아토테크 도이칠란드 게엠베하 | 결정형 크롬 고착물 |
JP5322083B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2013-10-23 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき浴及びその製造方法 |
ES2491517T3 (es) * | 2007-10-02 | 2014-09-08 | Atotech Deutschland Gmbh | Depósito de aleación de cromo cristalino |
JP2011099126A (ja) * | 2008-01-24 | 2011-05-19 | Okuno Chemical Industries Co Ltd | 3価クロムめっき浴 |
US7780840B2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-08-24 | Trevor Pearson | Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath |
JP5652585B2 (ja) * | 2009-02-16 | 2015-01-14 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき浴 |
US9765437B2 (en) | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
DE102010055968A1 (de) | 2010-12-23 | 2012-06-28 | Coventya Spa | Substrat mit korrosionsbeständigem Überzug und Verfahren zu dessen Herstellung |
US9689081B2 (en) | 2011-05-03 | 2017-06-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Electroplating bath and method for producing dark chromium layers |
US9758884B2 (en) * | 2012-02-16 | 2017-09-12 | Stacey Hingley | Color control of trivalent chromium deposits |
GB2534883A (en) | 2015-02-03 | 2016-08-10 | Univ Leicester | Electrolyte for electroplating |
US20170306515A1 (en) | 2016-04-21 | 2017-10-26 | Macdermid Acumen, Inc | Dark Colored Chromium Based Electrodeposits |
CN111465719A (zh) * | 2017-12-13 | 2020-07-28 | 株式会社杰希优 | 三价铬镀液以及使用其的镀铬方法 |
KR20200096932A (ko) * | 2017-12-14 | 2020-08-14 | 가부시끼가이샤 제이씨유 | 3 가 크롬 도금액 및 이를 사용한 3 가 크롬 도금 방법 |
EP3728701A1 (en) * | 2017-12-22 | 2020-10-28 | Tata Steel IJmuiden B.V. | Method for manufacturing chromium-chromium oxide coated blackplate |
CN111304702A (zh) * | 2020-04-21 | 2020-06-19 | 重庆中会表面处理有限公司 | 一种零件镀铬工艺方法 |
JP2023018744A (ja) * | 2021-07-28 | 2023-02-09 | 株式会社Jcu | 白色3価クロムめっき浴およびこれを利用した被めっき物への白色3価クロムめっき方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5175631A (en) * | 1974-12-11 | 1976-06-30 | Ibm | Kuromu mataha kuromugokin no denkimetsukyoeki |
JPS5265138A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Int Lead Zinc Res | Plating bath of trivalent chromium |
JPS5395134A (en) * | 1976-12-16 | 1978-08-19 | Ibm | Chrome or chrome alloy electroplating liquid |
JPS5395834A (en) * | 1977-01-26 | 1978-08-22 | Ibm | Chrome or chrome alloy electroplating liquid |
JPS5487643A (en) * | 1977-12-26 | 1979-07-12 | Mitsui Mining & Smelting Co | Additive to three valency chromium plating solution |
JPS5565387A (en) * | 1978-11-11 | 1980-05-16 | Ibm | Chromium alloy electroplating bath |
JPS5565386A (en) * | 1978-11-11 | 1980-05-16 | Ibm | Chromium electroplating bath |
JPS55119192A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-12 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Trivalent chromium plating bath |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2088615A (en) * | 1932-06-29 | 1937-08-03 | Schlotter Max | Electrodeposition of chromium |
US3772170A (en) * | 1966-10-31 | 1973-11-13 | N Bharucha | Electrodeposition of chromium |
US3706641A (en) * | 1971-02-19 | 1972-12-19 | Du Pont | Chromium plating with chromic compound and organic additive |
US3943040A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-09 | The Harshaw Chemical Company | Microcracked chromium from a bath using an organic sulfur compound |
US4062737A (en) * | 1974-12-11 | 1977-12-13 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium |
GB1488381A (en) * | 1975-09-01 | 1977-10-12 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating bath |
GB1552263A (en) * | 1977-03-04 | 1979-09-12 | Bnf Metals Tech Centre | Trivalent chromium plating baths |
US4184929A (en) * | 1978-04-03 | 1980-01-22 | Oxy Metal Industries Corporation | Trivalent chromium plating bath composition and process |
GB2038361B (en) * | 1978-11-11 | 1983-08-17 | Ibm | Trivalent chromium plating bath |
EP0079711A3 (en) * | 1981-11-16 | 1984-10-03 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Touch sensitive switches |
-
1981
- 1981-02-09 GB GB8103886A patent/GB2093861B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-02-02 EP EP82300536A patent/EP0058044B1/en not_active Expired
- 1982-02-02 AT AT82300536T patent/ATE20482T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-02-02 DE DE8282300536T patent/DE3271717D1/de not_active Expired
- 1982-02-03 US US06/345,399 patent/US4473448A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-02-08 ZA ZA82769A patent/ZA82769B/xx unknown
- 1982-02-09 AU AU80280/82A patent/AU8028082A/en not_active Abandoned
- 1982-02-09 JP JP57019523A patent/JPS57152483A/ja active Granted
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5175631A (en) * | 1974-12-11 | 1976-06-30 | Ibm | Kuromu mataha kuromugokin no denkimetsukyoeki |
JPS5265138A (en) * | 1975-11-25 | 1977-05-30 | Int Lead Zinc Res | Plating bath of trivalent chromium |
JPS5395134A (en) * | 1976-12-16 | 1978-08-19 | Ibm | Chrome or chrome alloy electroplating liquid |
JPS5395834A (en) * | 1977-01-26 | 1978-08-22 | Ibm | Chrome or chrome alloy electroplating liquid |
JPS5487643A (en) * | 1977-12-26 | 1979-07-12 | Mitsui Mining & Smelting Co | Additive to three valency chromium plating solution |
JPS5565387A (en) * | 1978-11-11 | 1980-05-16 | Ibm | Chromium alloy electroplating bath |
JPS5565386A (en) * | 1978-11-11 | 1980-05-16 | Ibm | Chromium electroplating bath |
JPS55119192A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-12 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Trivalent chromium plating bath |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3271717D1 (en) | 1986-07-24 |
EP0058044A1 (en) | 1982-08-18 |
EP0058044B1 (en) | 1986-06-18 |
AU8028082A (en) | 1982-08-19 |
ZA82769B (en) | 1982-12-29 |
GB2093861B (en) | 1984-08-22 |
JPS57152483A (en) | 1982-09-20 |
GB2093861A (en) | 1982-09-08 |
ATE20482T1 (de) | 1986-07-15 |
US4473448A (en) | 1984-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0220714B2 (ja) | ||
EP0611840B1 (en) | Cyanide-free plating solutions for monovalent metals | |
US6165342A (en) | Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys | |
US5196109A (en) | Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same | |
CN105829583B (zh) | 从电解质中沉积铜-锡合金和铜-锡-锌合金 | |
KR20110031183A (ko) | 개선된 구리-주석 전해질 및 청동층의 침착 방법 | |
JP2003535222A (ja) | 錫−銀合金層を電着させるための電解液および方法 | |
EP0079768B1 (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
EP0085771B1 (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
EP0079769B1 (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
GB2109817A (en) | Electrodeposition of chromium | |
US3002903A (en) | Electrodeposition of nickel | |
US20050077186A1 (en) | Electrolysis bath for electrodepositing silver-tin alloys | |
JPS5887291A (ja) | クロム電気メツキ液 | |
US3804729A (en) | Electrolyte and process for electro-depositing copper | |
US3767539A (en) | Acid galvanic copper bath | |
JPS6112036B2 (ja) | ||
JPH08232081A (ja) | 水栓金具 | |
KR810002127B1 (ko) | 전착물 제조용 조성물 | |
GB2171114A (en) | Trivalent chromium electroplating baths and rejuvenation thereof |