JPS6131195B2 - - Google Patents
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- JPS6131195B2 JPS6131195B2 JP57159728A JP15972882A JPS6131195B2 JP S6131195 B2 JPS6131195 B2 JP S6131195B2 JP 57159728 A JP57159728 A JP 57159728A JP 15972882 A JP15972882 A JP 15972882A JP S6131195 B2 JPS6131195 B2 JP S6131195B2
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- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 5
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N dihydroxidosulfur Chemical class OSO HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 17
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 12
- RDYMFSUJUZBWLH-UHFFFAOYSA-N endosulfan Chemical compound C12COS(=O)OCC2C2(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1(Cl)C2(Cl)Cl RDYMFSUJUZBWLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 44
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 42
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 33
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 abstract description 3
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 abstract description 3
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000012721 chromium Nutrition 0.000 description 40
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 25
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 8
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- YRTKBCIAQCXVCM-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);trithiocyanate Chemical compound [Cr+3].[S-]C#N.[S-]C#N.[S-]C#N YRTKBCIAQCXVCM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- -1 alcohol sulphates Chemical class 0.000 description 2
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- YSKGGJIUBHDGDE-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(carboxymethyl)amino]acetic acid;2-(carboxymethylamino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O.OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O YSKGGJIUBHDGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000025865 Ulcer Diseases 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONPIOWQPHWNPOQ-UHFFFAOYSA-L barium(2+);dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=S ONPIOWQPHWNPOQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAYYUXPSKDFLEC-UHFFFAOYSA-L calcium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=S FAYYUXPSKDFLEC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XHFVDZNDZCNTLT-UHFFFAOYSA-H chromium(3+);tricarbonate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O XHFVDZNDZCNTLT-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ZKJMJQVGBCLHFL-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triperchlorate Chemical compound [Cr+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O ZKJMJQVGBCLHFL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-L dioxidosulfate(2-) Chemical compound [O-]S[O-] HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L lead(II) chloride Chemical compound Cl[Pb]Cl HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000008450 motivation Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 231100000397 ulcer Toxicity 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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Description
【発明の詳細な説明】
〈序〉
本発明は3価クロム・イオンを含む電解液から
のクロム及びその合金の電気付着に関す。
のクロム及びその合金の電気付着に関す。
〈背景技術〉
工業的には、クロムは6価クロムを含む電解液
から電気メツキされるが、3価クロム塩を含む電
解液を用いた工業的に受け入れられるクロムの電
気メツキ法を開発する多くの試みが過去50年間に
わたつて行なわれて来た。3価クロム塩を含む電
解液を用いる動機は、6価クロムが深刻な健康上
及び環境上の危険を与える事から生じている。例
えば6価クロムは潰瘍の原因となる事が知られて
おり、またガンの原因であると信じられている。
さらに洗浄水及びメツキ浴の配置の費用を含む技
術的限界も存在する。
から電気メツキされるが、3価クロム塩を含む電
解液を用いた工業的に受け入れられるクロムの電
気メツキ法を開発する多くの試みが過去50年間に
わたつて行なわれて来た。3価クロム塩を含む電
解液を用いる動機は、6価クロムが深刻な健康上
及び環境上の危険を与える事から生じている。例
えば6価クロムは潰瘍の原因となる事が知られて
おり、またガンの原因であると信じられている。
さらに洗浄水及びメツキ浴の配置の費用を含む技
術的限界も存在する。
3価クロム・イオンを含む溶液からクロムを電
気メツキする事に伴なう問題は、主に陰極及び陽
極の両者における反応に関係している。工業的な
工程に関して重要な他の因子は、材料、装置及び
操業の費用である。
気メツキする事に伴なう問題は、主に陰極及び陽
極の両者における反応に関係している。工業的な
工程に関して重要な他の因子は、材料、装置及び
操業の費用である。
工業的な工程を達成するために、陰極表面にお
ける水酸化クロム種の析出は、溶解されたクロム
()錯体の充分な供給がメツキ面に存在するよ
うに最小化されなければならず、またクロム・イ
オンの還元が促進されなければならない。英国特
許明細書第1431639号は電解液がアコ・チオシア
ン酸クロム()錯体を含む3価クロム電気メツ
キ法を説明している。チオシアン酸配位子はクロ
ム・イオンを安定化して、メツキ中に陰極表面に
クロム()塩が析出するのを阻止し、またクロ
ム()イオンの還元を促進する。英国特許明細
書第1591051号は、クロム源が硫酸クロムのよう
な安価で且つ容易に得られるクロム()塩であ
るようなチオシアン酸クロム錯体を含む電解液に
ついて述べている。
ける水酸化クロム種の析出は、溶解されたクロム
()錯体の充分な供給がメツキ面に存在するよ
うに最小化されなければならず、またクロム・イ
オンの還元が促進されなければならない。英国特
許明細書第1431639号は電解液がアコ・チオシア
ン酸クロム()錯体を含む3価クロム電気メツ
キ法を説明している。チオシアン酸配位子はクロ
ム・イオンを安定化して、メツキ中に陰極表面に
クロム()塩が析出するのを阻止し、またクロ
ム()イオンの還元を促進する。英国特許明細
書第1591051号は、クロム源が硫酸クロムのよう
な安価で且つ容易に得られるクロム()塩であ
るようなチオシアン酸クロム錯体を含む電解液に
ついて述べている。
効率又はメツキ速度、メツキ範囲及び温度範囲
における改善は、チオシアン酸クロム錯体の配位
子の1つを供給する錯化剤の付加によつて達成さ
れた。英国特許明細書第1596995号で述べられて
いるこれらの錯化剤はグリシン及びアスパラギン
酸等のアミノ酸、ギ酸塩、酢酸塩又は次亜リン酸
塩から成つていた。効率の改善は使用された錯化
剤配位子に依存した。錯化剤配位子は、クロム
()種の析出をさらに阻止するために陰極表面
において有効であつた。上記文献において、効率
の改善は工業的な実行可能性を保ちながら電解液
中のクロム・イオンの濃度のかなりの減少を可能
にした事が注意されている。英国特許明細書第
2033427号及び第2038361号に、30mM以下のクロ
ムした含まれず、チオシアン酸塩及び錯化剤の割
合が減少されている、チオシアン酸クロム錯体か
ら成る実用的な電解液が説明されている。クロム
濃度の減少は2つの好ましい効果を有する。第1
に洗浄水の処理が大幅に単純化され、第2にクロ
ム付着物の色がより明るくなる。
における改善は、チオシアン酸クロム錯体の配位
子の1つを供給する錯化剤の付加によつて達成さ
れた。英国特許明細書第1596995号で述べられて
いるこれらの錯化剤はグリシン及びアスパラギン
酸等のアミノ酸、ギ酸塩、酢酸塩又は次亜リン酸
塩から成つていた。効率の改善は使用された錯化
剤配位子に依存した。錯化剤配位子は、クロム
()種の析出をさらに阻止するために陰極表面
において有効であつた。上記文献において、効率
の改善は工業的な実行可能性を保ちながら電解液
中のクロム・イオンの濃度のかなりの減少を可能
にした事が注意されている。英国特許明細書第
2033427号及び第2038361号に、30mM以下のクロ
ムした含まれず、チオシアン酸塩及び錯化剤の割
合が減少されている、チオシアン酸クロム錯体か
ら成る実用的な電解液が説明されている。クロム
濃度の減少は2つの好ましい効果を有する。第1
に洗浄水の処理が大幅に単純化され、第2にクロ
ム付着物の色がより明るくなる。
陽極におけるクロム及び電解液の他の成分の酸
化は徐々に又は急速にメツキを阻害する事が知ら
れている。さらに、ある電解液は陽極で有毒ガス
を生じる。英国特許明細書第1602404号に述べら
れている、パーフルオリネーテツド陽イオン交換
膜によつて陽極液を陰極液から分離した電気メツ
キ浴はこれらの問題をうまく克服する。あるい
は、クロム又は他の成分に優先して陽極で酸化さ
れる物質を電解液に添加する事ができる。適当な
添加剤は英国特許明細書第2034354号に述べられ
ている。添加剤を用いる事の欠点は継続的な支出
である。
化は徐々に又は急速にメツキを阻害する事が知ら
れている。さらに、ある電解液は陽極で有毒ガス
を生じる。英国特許明細書第1602404号に述べら
れている、パーフルオリネーテツド陽イオン交換
膜によつて陽極液を陰極液から分離した電気メツ
キ浴はこれらの問題をうまく克服する。あるい
は、クロム又は他の成分に優先して陽極で酸化さ
れる物質を電解液に添加する事ができる。適当な
添加剤は英国特許明細書第2034354号に述べられ
ている。添加剤を用いる事の欠点は継続的な支出
である。
特開昭54―87643号公報は、3価クロム・イオ
ンを安定化するための錯化剤としてシユウ酸、次
亜リン酸塩、又はギ酸塩が提案されたクロム電気
メツキ用電解液について述べている。安定性及び
付着速度を改善するために、分子内にS―O結合
を有する事を特徴とする化合物が電解液に添加さ
れる。この化合物はチオ硫酸塩、チオン酸塩、ス
ルホキシル酸塩、及び亜二チオン酸塩より成る群
から選ばれる。しかしながら、クロム・イオン及
び錯化剤の濃度は非常に高く、0.4M以上であ
る。
ンを安定化するための錯化剤としてシユウ酸、次
亜リン酸塩、又はギ酸塩が提案されたクロム電気
メツキ用電解液について述べている。安定性及び
付着速度を改善するために、分子内にS―O結合
を有する事を特徴とする化合物が電解液に添加さ
れる。この化合物はチオ硫酸塩、チオン酸塩、ス
ルホキシル酸塩、及び亜二チオン酸塩より成る群
から選ばれる。しかしながら、クロム・イオン及
び錯化剤の濃度は非常に高く、0.4M以上であ
る。
〈発明の開示〉
3価の電解液からクロムをメツキする試みに付
随する問題の多くに関して3つの関連する因子が
原因となつている。それらは、メツキ反応に伴な
う水素発生を引き起こす負のメツキ電位、緩やか
な電極カイネテイツクス及び電極表面に存在する
高PHの環境中でクロム()が水酸化物として析
出する傾向である。ここで説明する本発明のメツ
キ電解液の定式化はそれらの因子をいかにして抑
制し得るかの理解に基づいている。
随する問題の多くに関して3つの関連する因子が
原因となつている。それらは、メツキ反応に伴な
う水素発生を引き起こす負のメツキ電位、緩やか
な電極カイネテイツクス及び電極表面に存在する
高PHの環境中でクロム()が水酸化物として析
出する傾向である。ここで説明する本発明のメツ
キ電解液の定式化はそれらの因子をいかにして抑
制し得るかの理解に基づいている。
Cr()イオンは配位子Lと多くの錯体を形
成し得る。これは下記の一連の反応によつて特徴
付けられる。
成し得る。これは下記の一連の反応によつて特徴
付けられる。
Cr+L CrL K1
CrL+L CrL2 K2
……
……
等
但し、便宜上、電荷は省略した。K1,K2……
等は安定度定数であつて、次式から計算される。
等は安定度定数であつて、次式から計算される。
K1=〔CrL〕/〔Cr〕〔L〕
K2=〔CrL2〕/〔CrL〕〔L〕
……
等
但し、角括弧は濃度を表わしている。数値は(1)
“Stability Constants of Metal―Ion
Complexes”、Special Publication No.17、The
Chemical Society、London 1964―L・G.Sillen
and A.E.Martell;(2)“Stability Constants of
Metal―Ion Complexes”、Supplement No.1、
Suecial Publication No.25、The Chemical
Society、London 1971―L.G.Sillen and A.E.
Martell;(3)“Critical Stability Constants”
Vo1.1 and 2、Plenum Press、New York 1975
―R.M.Smith and A.E.Martellから得られる。
“Stability Constants of Metal―Ion
Complexes”、Special Publication No.17、The
Chemical Society、London 1964―L・G.Sillen
and A.E.Martell;(2)“Stability Constants of
Metal―Ion Complexes”、Supplement No.1、
Suecial Publication No.25、The Chemical
Society、London 1971―L.G.Sillen and A.E.
Martell;(3)“Critical Stability Constants”
Vo1.1 and 2、Plenum Press、New York 1975
―R.M.Smith and A.E.Martellから得られる。
メツキ過程の間、表面PHは電流密度、酸性度定
数pka及び緩衝剤(例えばホウ酸)の濃度によつ
て決定される値にまで上昇し得る。このPHに電解
質のバルク中のPHよりもはるかに高く、このよう
な条件の下では水酸化クロム種が析出するかもし
れない。K1,K2……等の値並びにクロム()
及び錯化剤配位子の全濃度は析出の起きる程度を
決定する。即ちK1,K2……等の値が高ければ高
い程、与えられた表面PHにおいて析出はより少な
くなる。メツキがソリユーシヨン・フリーの(即
ち析出されない)クロム種から起きる時は、高い
K値を持つ配位子から、より高いメツキ効率が期
待され得る。
数pka及び緩衝剤(例えばホウ酸)の濃度によつ
て決定される値にまで上昇し得る。このPHに電解
質のバルク中のPHよりもはるかに高く、このよう
な条件の下では水酸化クロム種が析出するかもし
れない。K1,K2……等の値並びにクロム()
及び錯化剤配位子の全濃度は析出の起きる程度を
決定する。即ちK1,K2……等の値が高ければ高
い程、与えられた表面PHにおいて析出はより少な
くなる。メツキがソリユーシヨン・フリーの(即
ち析出されない)クロム種から起きる時は、高い
K値を持つ配位子から、より高いメツキ効率が期
待され得る。
しかしながら、第2の考慮すべき問題は、メツ
キ過程中に採用される電極電位に関係している。
もしK値が高すぎれば、クロム錯体の熱力学的安
定性によりメツキが阻害されるであろう。従つて
安定度定数並びにクロム及び配位子の濃度の最適
範囲の選択は2つの反対の効果の間の妥協であ
る。即ち弱い錯化剤は界面に析出を生じ、低い効
率を与える(又は水酸化物によつてメツキを阻止
しさえする)が、一方では強すぎる錯化剤は過度
の安定性によりメツキを阻害する。
キ過程中に採用される電極電位に関係している。
もしK値が高すぎれば、クロム錯体の熱力学的安
定性によりメツキが阻害されるであろう。従つて
安定度定数並びにクロム及び配位子の濃度の最適
範囲の選択は2つの反対の効果の間の妥協であ
る。即ち弱い錯化剤は界面に析出を生じ、低い効
率を与える(又は水酸化物によつてメツキを阻止
しさえする)が、一方では強すぎる錯化剤は過度
の安定性によりメツキを阻害する。
第3の考慮すべき問題は、水素発生反応
(HER)及びクロム還元の電気化学的カイネテイ
ツクに関係している。メツキは後者の反応に関す
る速いカイネテイツクス及びHERに関する遅い
カイネテイツクスによつて有利にある。従つてク
ロムの還元過程を促進するか又はHERを遅らせ
る添加物が効率的なメツキ速度に関して有利であ
る。S―S基又はS―O基を有する多くのイオウ
含有種がクロム()金属への還元を加速する事
が見い出された。
(HER)及びクロム還元の電気化学的カイネテイ
ツクに関係している。メツキは後者の反応に関す
る速いカイネテイツクス及びHERに関する遅い
カイネテイツクスによつて有利にある。従つてク
ロムの還元過程を促進するか又はHERを遅らせ
る添加物が効率的なメツキ速度に関して有利であ
る。S―S基又はS―O基を有する多くのイオウ
含有種がクロム()金属への還元を加速する事
が見い出された。
本発明は、3価クロム・イオンの源、錯化剤、
緩衝剤及びクロムの付着を促進するための、分子
中にS―O基又はS―S基を有するイオウ含有種
を含むクロム電気メツキ電解液を提供する。錯化
剤はクロム錯体の安定度係数K1が106<K1<
1012M-1の範囲内にあるように選ばれ、(担しMは
モル濃度(モル/リツトル)である)イオウ含有
種はチオ硫酸塩、チオン酸塩、ポリチオン塩及び
スルホキシル酸から選択される。
緩衝剤及びクロムの付着を促進するための、分子
中にS―O基又はS―S基を有するイオウ含有種
を含むクロム電気メツキ電解液を提供する。錯化
剤はクロム錯体の安定度係数K1が106<K1<
1012M-1の範囲内にあるように選ばれ、(担しMは
モル濃度(モル/リツトル)である)イオウ含有
種はチオ硫酸塩、チオン酸塩、ポリチオン塩及び
スルホキシル酸から選択される。
K1値が106<K1<1012M-1の範囲内にある錯化
剤配位子には、例えばアスパラギン酸、イミノジ
酢酸ニトリロトリ酢酸、5―スルホサリチル酸及
びクエン酸がある。
剤配位子には、例えばアスパラギン酸、イミノジ
酢酸ニトリロトリ酢酸、5―スルホサリチル酸及
びクエン酸がある。
イオウ種は以下の物質、即ちチオ硫酸ナトリウ
ム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸バリウム、チオ
硫酸アンモニウム、チオ硫酸カルシウム、ポリチ
オン酸カリウム、ポリチオン酸ナトリウム及びス
ルホキシル酸ナトリウムのうち1つ以上を電解液
中に溶解することによつて与えられる。
ム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸バリウム、チオ
硫酸アンモニウム、チオ硫酸カルシウム、ポリチ
オン酸カリウム、ポリチオン酸ナトリウム及びス
ルホキシル酸ナトリウムのうち1つ以上を電解液
中に溶解することによつて与えられる。
3価クロム・イオンの還元を促進するめに非常
に低い濃度のイオウ種が必要である。また電解液
のメツキ効率は比較的高いので、工業的な3価ク
ロム電解液は5mM程度の低濃度のクロムを有し
得る。従つてメツキ電解液から引き出されるクロ
ムの量が非常に低いので高価な洗浄水処理をする
必要はない。
に低い濃度のイオウ種が必要である。また電解液
のメツキ効率は比較的高いので、工業的な3価ク
ロム電解液は5mM程度の低濃度のクロムを有し
得る。従つてメツキ電解液から引き出されるクロ
ムの量が非常に低いので高価な洗浄水処理をする
必要はない。
一般に電解液中の成分の濃度は次の通りであ
る。
る。
クロム()イオン 10-3〜1M
イオウ種 10-5〜10-2M
実用的なクロム/錯化剤配位子の比はほぼ1:
1である。
1である。
受け入れられるメツキ速度に必要な最小限の濃
度以上では、電解液中のクロムの濃度に比例して
イオウ種の量を増加させる必要がある。過剰のイ
オウ種はメツキ過程に有害ではないかもしれない
が、クロム金属と共に付着するイオウの量が増加
する可能性がある。これは2つの効果を有する。
即ち第1に付着物が徐々に暗くなり、第2に付着
物の延性が大きくなる。
度以上では、電解液中のクロムの濃度に比例して
イオウ種の量を増加させる必要がある。過剰のイ
オウ種はメツキ過程に有害ではないかもしれない
が、クロム金属と共に付着するイオウの量が増加
する可能性がある。これは2つの効果を有する。
即ち第1に付着物が徐々に暗くなり、第2に付着
物の延性が大きくなる。
3価クロムの好ましい源は硫酸クロムである。
これはタニング・リカーあるいはクロムタンとし
て知られている、市販の硫酸クロムと硫酸ナトリ
ウムの混合物の形で得られる。硫酸塩よりも高価
ではあるが、他の3価クロムを用いる事もでき
る。それらには塩化クロム、炭酸クロム、及び過
塩素酸クロムが含まれる。
これはタニング・リカーあるいはクロムタンとし
て知られている、市販の硫酸クロムと硫酸ナトリ
ウムの混合物の形で得られる。硫酸塩よりも高価
ではあるが、他の3価クロムを用いる事もでき
る。それらには塩化クロム、炭酸クロム、及び過
塩素酸クロムが含まれる。
バルクの電解液のPHを維持するために使われる
好ましい緩衝剤は、高濃度即ち飽和濃度に近いホ
ウ酸から成る。電解液の典型的なPH範囲は2.5〜
4.5である。
好ましい緩衝剤は、高濃度即ち飽和濃度に近いホ
ウ酸から成る。電解液の典型的なPH範囲は2.5〜
4.5である。
電解液の導電度は、電圧及び電力消費の両者を
最小化するために、できるだけ高い方が良い。電
圧は実際のメツキ環境においてしばしば決定的で
ある。というのはしばしば整流器が例えば8ボル
トといつた低い電圧に制限されるからである。硫
酸クロムが3価クロム・イオンの源であるような
電解液において、硫酸ナトリウム及び硫酸カリウ
ムの混合物が最適である。そのような混合物は英
国特許明細書第2071151号に記載されている。
最小化するために、できるだけ高い方が良い。電
圧は実際のメツキ環境においてしばしば決定的で
ある。というのはしばしば整流器が例えば8ボル
トといつた低い電圧に制限されるからである。硫
酸クロムが3価クロム・イオンの源であるような
電解液において、硫酸ナトリウム及び硫酸カリウ
ムの混合物が最適である。そのような混合物は英
国特許明細書第2071151号に記載されている。
湿潤剤は用いる事が望ましく、適当な湿潤剤は
3M社のFC98である。しかしながらスルホスクシ
ネート(sulphosuccinate)あるいはアルコー
ル・スルフエート(alcohol sulphate)等の他の
湿潤剤を用いてもよい。
3M社のFC98である。しかしながらスルホスクシ
ネート(sulphosuccinate)あるいはアルコー
ル・スルフエート(alcohol sulphate)等の他の
湿潤剤を用いてもよい。
英国特許明細書第1602404号に記載されている
ように、陽極をメツキ電解液から分離するために
パーフルオリネーテツド陽イオン交換膜を使用す
る事が好ましい。適当な陽イオン交換膜はデユポ
ン社の製品 Nafion(商標)である。陰極液がク
ロム源として硫酸クロムを用いる時、硫酸イオン
を有する陽極液を用いる事が特に有利である。と
いうのは安価な鉛又は鉛合金の陽極を用いる事が
できるからである。硫酸塩陽極液中では、陽極上
に薄い導電性の酸化鉛の膜が形成される。陰極液
中の塩化物塩は避けるべきである。というのは塩
化物陰イオンは充分に小さいのでかなりの量が膜
を通過して、陽極で塩素を発生させ且つ鉛又は鉛
合金の陽極上で高抵抗の塩化鉛の膜を形成するか
らである。陽イオン交換膜は硫酸塩電解液中でさ
らに別の利点を有する。即ち陰極における水素の
発生による陰極液のPHの増加を補償するように膜
を経由する水素イオンの輸送を許すように陽極液
のPHを調整する事によつて陰極液のPHが安定化さ
れる事である。膜並びに硫酸をベースにした陽極
液及び陰極液の組み合わせを用いて、メツキ浴は
PH調整なしに40Amp時/リツトル以上操業され
る。
ように、陽極をメツキ電解液から分離するために
パーフルオリネーテツド陽イオン交換膜を使用す
る事が好ましい。適当な陽イオン交換膜はデユポ
ン社の製品 Nafion(商標)である。陰極液がク
ロム源として硫酸クロムを用いる時、硫酸イオン
を有する陽極液を用いる事が特に有利である。と
いうのは安価な鉛又は鉛合金の陽極を用いる事が
できるからである。硫酸塩陽極液中では、陽極上
に薄い導電性の酸化鉛の膜が形成される。陰極液
中の塩化物塩は避けるべきである。というのは塩
化物陰イオンは充分に小さいのでかなりの量が膜
を通過して、陽極で塩素を発生させ且つ鉛又は鉛
合金の陽極上で高抵抗の塩化鉛の膜を形成するか
らである。陽イオン交換膜は硫酸塩電解液中でさ
らに別の利点を有する。即ち陰極における水素の
発生による陰極液のPHの増加を補償するように膜
を経由する水素イオンの輸送を許すように陽極液
のPHを調整する事によつて陰極液のPHが安定化さ
れる事である。膜並びに硫酸をベースにした陽極
液及び陰極液の組み合わせを用いて、メツキ浴は
PH調整なしに40Amp時/リツトル以上操業され
る。
〈詳細な説明〉
詳細な例を参照しながら本発明を説明する。各
例においてNafion陽イオン交換膜によつて陽極液
が陰極液から分離された浴が用いられる。陽極液
は体積濃度2%の硫酸水溶液(PH1.6)から成
る。陽極は6価クロムのメツキ工程で通常用いれ
ている型の鉛合金の平坦な棒である。
例においてNafion陽イオン交換膜によつて陽極液
が陰極液から分離された浴が用いられる。陽極液
は体積濃度2%の硫酸水溶液(PH1.6)から成
る。陽極は6価クロムのメツキ工程で通常用いれ
ている型の鉛合金の平坦な棒である。
各例に関する陰極液は、基礎電解液を作り、適
当な量のクロム()、錯化剤及びイオウ種を添
加する事によつて調整された。クロム源としては
クロムタンと呼ばれる硫酸クロムと硫酸ナトリウ
ムとの混合物が用いられた。
当な量のクロム()、錯化剤及びイオウ種を添
加する事によつて調整された。クロム源としては
クロムタンと呼ばれる硫酸クロムと硫酸ナトリウ
ムとの混合物が用いられた。
基礎電解液は1リツトルの水に以下の成分を溶
解したものから成る。
解したものから成る。
硫酸カリウム 1M
硫酸ナトリウム 0.5M
ホウ酸 1M
湿潤剤FC98 0.1g
例
以下の成分が基礎電解液に溶解された。
クロム() 10mM
イミノジ酢酸 10mM
チオ硫酸ナトリウム 1mM
PH 3.5
電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで
平衡化される事が好ましい。好適な浴の浴の温度
は25〜60℃であつた。良好な明るいクロム付着物
が得られた。
平衡化される事が好ましい。好適な浴の浴の温度
は25〜60℃であつた。良好な明るいクロム付着物
が得られた。
Claims (1)
- 1 3価クロム・イオン、錯化剤、緩衝剤及びク
ロムの付着を促進するための、S―O結合又はS
―S結合を有するイオウ含有種を含み、上記錯化
剤がイミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、5―スル
ホサリチル酸及びクエン酸から選択され、上記イ
オウ含有種がチオ硫酸塩、チオン酸塩、ポリチオ
ン酸塩及びスルホキシル酸塩から選択されれたク
ロム電気メツキ液。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8134777 | 1981-11-18 | ||
| GB08134777A GB2110242B (en) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | Electroplating chromium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5887289A JPS5887289A (ja) | 1983-05-25 |
| JPS6131195B2 true JPS6131195B2 (ja) | 1986-07-18 |
Family
ID=10525979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57159728A Granted JPS5887289A (ja) | 1981-11-18 | 1982-09-16 | クロム電気メツキ液 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4448648A (ja) |
| EP (1) | EP0079769B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5887289A (ja) |
| AT (1) | ATE32610T1 (ja) |
| AU (1) | AU556163B2 (ja) |
| CA (1) | CA1209089A (ja) |
| DE (1) | DE3278140D1 (ja) |
| GB (1) | GB2110242B (ja) |
| ZA (1) | ZA828367B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5243320A (en) * | 1988-02-26 | 1993-09-07 | Gould Inc. | Resistive metal layers and method for making same |
| US5196109A (en) * | 1991-08-01 | 1993-03-23 | Geoffrey Scott | Trivalent chromium electrolytes and plating processes employing same |
| US20080274373A1 (en) * | 2004-10-18 | 2008-11-06 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Engine Part |
| WO2007115030A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Crystalline chromium deposit |
| JP5322083B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2013-10-23 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき浴及びその製造方法 |
| MX2010003543A (es) | 2007-10-02 | 2010-05-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Deposito de aleacion de cromo cristalino. |
| US9765437B2 (en) * | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
| US9689081B2 (en) | 2011-05-03 | 2017-06-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Electroplating bath and method for producing dark chromium layers |
| CN103014784A (zh) * | 2012-12-13 | 2013-04-03 | 合肥华清方兴表面技术有限公司 | 一种常温环保型三价铬电镀液及其电镀方法 |
| US20170306515A1 (en) | 2016-04-21 | 2017-10-26 | Macdermid Acumen, Inc | Dark Colored Chromium Based Electrodeposits |
| KR20200052588A (ko) | 2018-11-07 | 2020-05-15 | 윤종오 | 3가 크롬 합금 도금액, Cr-Ti-Au 합금 도금액, Cr-Ti-Ni 합금 도금액, Cr-Ti-Co 합금 도금액 및 도금 제품 |
| CN109652827A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-04-19 | 陈建平 | 一种硫酸盐三价铬电镀液及其的制作工艺和电镀工艺 |
| GB202409943D0 (en) | 2024-07-09 | 2024-08-21 | Macdermid Inc | Trivalent chromium plating bath and method of electroplating an article |
Family Cites Families (10)
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|---|---|---|---|---|
| US4062737A (en) * | 1974-12-11 | 1977-12-13 | International Business Machines Corporation | Electrodeposition of chromium |
| US4161432A (en) * | 1975-12-03 | 1979-07-17 | International Business Machines Corporation | Electroplating chromium and its alloys |
| GB1591051A (en) * | 1977-01-26 | 1981-06-10 | Ibm | Electroplating chromium and its alloys |
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| GB2034354B (en) * | 1978-11-11 | 1982-12-01 | Ibm | Elimination of anode hydrogen cyanide formation in trivalent chromium plating |
| GB2038361B (en) * | 1978-11-11 | 1983-08-17 | Ibm | Trivalent chromium plating bath |
| JPS55119192A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-12 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Trivalent chromium plating bath |
| GB2071151B (en) * | 1980-03-10 | 1983-04-07 | Ibm | Trivalent chromium electroplating |
| DE3827831A1 (de) * | 1988-08-17 | 1990-02-22 | Thyssen Industrie | Verfahren und anlage zur aufbereitung von abwasser, insbesondere aus der rauchgasentschwefelung |
-
1981
- 1981-11-18 GB GB08134777A patent/GB2110242B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-09-16 JP JP57159728A patent/JPS5887289A/ja active Granted
- 1982-11-01 US US06/437,992 patent/US4448648A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-11 DE DE8282306019T patent/DE3278140D1/de not_active Expired
- 1982-11-11 EP EP82306019A patent/EP0079769B1/en not_active Expired
- 1982-11-11 AT AT82306019T patent/ATE32610T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-11-12 CA CA000415397A patent/CA1209089A/en not_active Expired
- 1982-11-15 ZA ZA828367A patent/ZA828367B/xx unknown
- 1982-11-17 AU AU90680/82A patent/AU556163B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3278140D1 (en) | 1988-03-31 |
| EP0079769B1 (en) | 1988-02-24 |
| GB2110242B (en) | 1985-06-12 |
| GB2110242A (en) | 1983-06-15 |
| ZA828367B (en) | 1983-10-26 |
| JPS5887289A (ja) | 1983-05-25 |
| AU9068082A (en) | 1983-05-26 |
| ATE32610T1 (de) | 1988-03-15 |
| EP0079769A1 (en) | 1983-05-25 |
| AU556163B2 (en) | 1986-10-23 |
| CA1209089A (en) | 1986-08-05 |
| US4448648A (en) | 1984-05-15 |
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