JPS5887291A - クロム電気メツキ液 - Google Patents

クロム電気メツキ液

Info

Publication number
JPS5887291A
JPS5887291A JP57180082A JP18008282A JPS5887291A JP S5887291 A JPS5887291 A JP S5887291A JP 57180082 A JP57180082 A JP 57180082A JP 18008282 A JP18008282 A JP 18008282A JP S5887291 A JPS5887291 A JP S5887291A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chromium
electrolyte
ions
thiocyanate
plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57180082A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6131196B2 (ja
Inventor
ドナルド・ジヨン・バ−クレイ
ウイリアム・モ−リス・モ−ガン
ジエ−ムズ・マイケル・ヴイガ−
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JPS5887291A publication Critical patent/JPS5887291A/ja
Publication of JPS6131196B2 publication Critical patent/JPS6131196B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/06Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く序〉 本発明は3価クロム・イオンを含む電解液からのクロム
及びその合金の電気付着に関する。
く背景技術〉 ゛工業的には、クロムは6価クロムを含む電解液から電
気メッキされるが、3価クロム塩を含む電解液を用いた
工業的に受は入れられるクロム′の電気メッキ法を開発
する多くの試みが過去50年間にわたって行なわれて来
た。3価クロム塩を含む電解液を用いる動機は、6価ク
ロムが深刻な健康上及び環境上の危険を与える事から生
じている。
例えば6価クロムは潰瘍の原因となる事が知られており
、またガンの原因であると信じられている。
さらに洗浄水及びメッキ浴の配置の費用を含む技術的限
界も存在する。
3価クロム・イオンを含む溶液からクロムを電気メッキ
する事に伴なう問題は、主に陰極及び陽極の両者に終る
反応に関係している。工業的な工程に関して重要な他の
因子は、材料、装置及び操業の費用でおる。
工業的な工程を達成するために、陰極表面における水酸
化クロム種の析出は、溶解されたクロム(III)錯体
の充分な供給がメッキ面に存在するように最小化石れな
ければならず、またクロム・イオンの還元が促進されな
、ければならない。英国特許明細書第1431639号
は電解液がアコ・チオシアン酸クロム([1)錯体を含
む3価クロム電気メッキ法を説明している。チオシアン
酸配位子はクロム・イオンを安定化して、メッキ中に陰
極界面にクロム([[l)塩が析出するのを阻止し、ま
たクロム([[0イオンの還元を促進する。英国特許明
細書第1591051号は、クロム源が硫酸クロムのよ
うな安価で且つ容易に得られるクロム(叫塩であるよう
なチオシアン酸クロム錯体を含む電解液について述べて
い″る。
、効率又はメッキ速度、メッキ範囲及び温度範囲におけ
る改善は、チオシアン酸クロム錯体の配位子の1一つを
供給する錯化剤の付加によって達成式れた。英国特許明
細1第1596995号で述べられているこれらの錯化
剤はグリ7ン及びアスノくラギ/酸等のアミノ酸、ギ酸
塩、酢酸塩又は次亜リン酸塩から成っていた。効率の改
°善は使用嘔れれ錯化剤配位子に依存した。錯化剤配位
子は、クロム(III)種の析出をさらに阻止するため
に陰極界面において有効でめった。上記文献において、
効率の改善は工業的な実行可能性を保ちながら電解液中
のり―ム・イオンの濃度のかなりの減少を可能にした事
が注意ぢれている。英国特許明細書第2031427号
及び第2038361号に、60mD/19下のクロム
しか含まれず、チオシアン酸塩及び酸化剤の割合が減少
嘔れている、チオシアン酸クロム錯体から成る実用的な
電解液が説明でれている。クロム濃度の減少は2つの好
ましい効果を有する。第1に洗浄水の処理が大幅に単純
化石れ、第2にクロム付着物の色がより明るくなる。
陽極におけるクロム及び電解液の他の成分の酸化は徐々
に又は急速にメッキを阻害する事が知られている。嘔ら
に、ある電解液は陽極で有毒ガヌを生じるっ英国特許明
細1第1602404号に述べられている、パーフルオ
リ子−テッド陽イオン交換膜によって陽極液を陰極液か
ら分離した電気メッキ浴はこれらの問題をうまく克服す
る。企るいは、クロム又は他の成分に優先して陽極で酸
化石れる物質金電解液に添加する事ができる。適当な添
加剤は英国特許明細書第2034354号に述べられて
いる。添加剤を用いる事の欠点は継続的な支出である。
英国特許明細1第1552263号は0,1M以上の濃
度の6価クロム・イオン及びクロム・イ第4乏安定化す
るための「弱い」錯化剤を含む5.りdムの電気メッキ
のための電解液を記載している。
メッキ速度を増加式せるためにこの電解液に、クロムよ
りもかなり低いモル濃度のチオシアン酸塩−が添加嘔れ
る。このチオシアン酸塩は電解液の酸性条件において分
解し、溶解とれた硫化物を生成する事が述べられている
。上記特許の単なるチオシアン酸塩の例は、顕著なメ・
ンキ速度を得るためニ非常に高い濃度の、クロム・イオ
ンを必要とした。
従って洗浄水処理が高価になり、又クロムの損失が生じ
た。
〈発明の開示〉 6価の電解液からクロムをメッキする試みに付随する問
題の多くに関して3・っの関連する因子が原因となって
いる。それらは、メッキ反応に伴なう水素発生を引き起
こす負のメッキ電位、緩やかな電極力イネティツクス及
び電極表面に存在する高pHの環境中でクロム(In)
が水酸化物として析出する傾向である。吃こで説明する
本発明のメッキ電解液の定式化はそれらq因子をいかに
して抑制し得るかの理解に基づいている。
Cr([lI)イオンは配位子りと多くの錯体を形成し
得る。これは下記の一連p反応によって特徴付けら−ね
−る。
Cr+L″Cr L     K I Cr、L+L二CrL2   2 但し、便宜上、電荷は省略した。K1、K2・・・・・
・等は安定速度室数でるって、次式から計算てれる。
K1=〔CrL〕/〔Cr〕〔L〕 K2=(CrL2:I/ [CrL)CL)等 但し角括弧は濃度を表わしている。数値は(1)”5t
ability Con5tants  of  Me
tal’−1on  Complexes”、5pec
ial  Publication&17、The  
Chemical  5ociety、Londonl
 964− L、G、5illen  and  A、
、EE、Marte、11:(2)”5tabilit
y Con5tants  of Metal−Ion
 Complexed’、Supplement A1
.5pecial  PubliCation A25
、T h −eChemical  5ociety、
London  1971−L、G、5illen  
and A、E、M、artell:(3)′Cr1t
ical  5tability Con5tants
”Vol、 1  anci  2、plPnnm P
ress、NewYork  1 975− R,M、
Sm1th  and  A、F、。
Martell、から得られる。
メッキ過程の間、界面pHFi電流密度、酸性度定数p
Ka及び緩衝剤(例えばホウ酸)の濃度によって決定で
れる値にまで上昇し得る。このpHは電解質のバルク中
のpHより7も遥かに高く、このような条件の下では水
酸化クロム種が析出するかもしれない。KK  ・・・
・等の値並びにクロム1′2 (1)及び錯化剤配位子の全濃度は析出の起−きる程度
を決定する。即ちKK  ・・・・等の値が高けれ1ゝ
   2 ば高い程、与えられた界面pHにおいて析出はより少な
くなる。メッキがソリュー7ヨン・フリーの(即ち析出
でれない)クロム種から起きる時は、高いに値を持つ配
位子から、より高いメッキ効率が期待され得る。
しかしながら第2の考慮すべき問題は、メッキ過程中に
採用きれる電極電位に関係している。もしに値が高すぎ
れば、クロム錯体の熱力学的安定性によりメッキが阻害
されるであろう。従って安定度定数並びにクロム及び配
位子の濃度の最適範囲の選択は2つの反対の効果の間の
妥協である。
即ち弱い錯化剤゛は界面に析出を生じ、低い効率を与え
る(又は水酸化物によってメッキを阻止し嘔えする)が
、一方では強すぎる錯化剤は過度の安定性によりメッキ
を阻害する。
第6の考慮すべき問題は、水素発生反応()IgR)及
びクロム還元の電気化学的カイネテイツクスに関係して
いる。メーツキは後者の反応に関する速いカイネテイツ
クヌ及びHERK関する遅いカイネティツクスによって
有刺になる。従ってクロムの還元過程を促進するか又は
HERを遅らせる添加物が効率的なメッキ速度に関して
有利で乏る。非常に低い濃度のチオシアン酸塩がクロム
(I[0のクロム金属への還元を加速し効率を改善する
事、従って非常に低いクロム濃度で工業的に操業できる
事か見い出された。
本発明は、3価クロム・イオンの源、錯化剤、緩衝剤及
びクロムの付着を促撤するためのチオ7アン酸イオンを
含むクロム電気メツキ電解液を提供する。このチオシア
ン酸イオンはクロムのモル濃度よりも低いモル濃度を有
し、クロムは、01Mよりも低い濃度を有する。
錯化剤は好ましくはクロム錯体の安定度定数に1がI 
O’<K 1< 1012M−’  の範囲内にあるよ
うVC選ばれる。例えば10a<K 1<10”の範囲
内のに1値を持つ錯化剤配位子としては、アスパラギン
酸、イミノジ昨憾、ニトリロトリ酢酸及び5−スルホサ
リチル酸かめる。
本発明はさらに、3価クロム・イオンの源、錯化剤、緩
衝剤及びクロム付着促進用のチオシアン酸イオンを含み
、チオ7ア/酸塩のモル濃度がクロムのそれよりも低く
、錯化剤がアヌパラギ/r1!、イミノジ酢酸、ニトリ
ロトリ酢酸及び5−スルホサリチル酸から選ばれたクロ
ム電気メツキ電解液を提供する。
3価クロム・イオンの還元を促進するために非常に低い
濃度のチオ7アン酸イオンが必要である。
また電解液のメッキ効率が比較的高いので、工業的な3
価クロム電解液は5mM程度の低濃度のり1ムを有し得
る。従ってメッキ電解液から引出芒れるクロムの量が非
常に低いので高価な洗浄水処理をする必要はない。
一般に電解液中の成分の濃度は次の通りである。
クロム(1■)イオン   10−3〜1Mチオシアン
酸イオン 10−5〜10”−2M実用的なりロム/錯
化剤配位子の比はほぼ1:1である。
受入れられるメッキ速度に必要な最小限の濃度以上では
、電解液中のクロムの濃度に比例してチオ77ン酸塩の
量を増加埒せる必要がめる。過剰のチオ7アン酸塩はメ
ッキ過程に有害ではないが、クロム金属と共に付着する
イオウの址が増加する可能性がめる。これは2つの効果
を有する。即ち第1に付着物が徐々に暗くなり、第2に
付着物の延性が大きくなる。
6価クロムの好ましい源は硫酸クロムである。
これはタニング・リカーめるいはクロムタンとして知ら
れている、市販の硫酸クロムと硫酸ナトリウムの混合物
の形で得られる。硫酸塩よりも高価++ ではめるが、他の3価クロムを用いることもてきる。そ
れらには塩化クロム、炭酸クロム、及び過塩素酸クロム
が含まれる。
バルクの電解液のpHを維持するために使われる好まし
い緩衝剤は、高濃度即ち飽和濃度に近いホウ酸から成る
。電解欣の典型的なpH範囲は2゜5〜45でるる。
電解液の導電度は、電圧及び成力消費の両者を最小化す
るために、出来るだけ高い方が良い。電圧は実際のメッ
キ域境においてしばしば決定的である。というのはしば
しば整流器が例えば8ボルトといった低い電圧に制限で
れるからでるる。硫酸クロムが31dfiクロム・イオ
ンの源であるような′電解液において、硫酸ナトリウム
及び硫酸カリウムの混合物が最適である。そのような混
合物は英国吟許明細書第2071151号に記載されて
いる。
湿潤剤は用いる事が望ましく、適当及湿潤剤は3M社の
F’C98でるる。しかしながらヌルホヌクシネ−ト(
5ulphosuccinate)あるいはアル:l−
外・スにフェート(alcohol  5ulph、a
te)等の他の湿潤剤を用いてもよい。
英国特許明細1第1602404号に記載されているよ
うに、陽極をメッキ電解液から分離するためにパーフル
オリネーテツド陽イオン交換膜を使用する事が好ましい
。適当な陽イオン交換膜はデュポン社の製品Nafio
n(商標)である。陰極液がクローム源として硫酸クロ
ムを用いる時、硫酸イオンを有する陽極液を用いる事が
特に有利である。というのは安価な鉛又は鉛合金の陽極
を用いる事ができるからである。硫酸塩陽極液中では、
陽極上に薄い導′亀性の酸化鉛の膜が形成はねる。
陰極液中の塩化物塩は避けるべきである。というのは塩
化物陰イオンは充分に小さいのでかなりの量が膜を通過
して、陽極で塩素を発生嘔せ且つ鉛又は鉛合金の陽極上
で高抵抗の塩化鉛の膜を形成するからである。陽イオン
交換膜は硫酸塩電解液中でさらに別の利点を有、する。
即ち陰極における水素の発生による陰極液のpHの増加
を補償するように膜を経由する水素イオンの輸送を許す
ように陽極液のpHを調整する事によって陰極液のpH
が安定化される事である。膜並びに硫酸をベースにした
陽極液及び陰極液の組み合せを用いて、メッキ浴はpH
調整なしに4DAmp時/リットル以上操業でれた。
く詳細な説明〉 詳細な例を参照しながら本発明を説明する。各側におい
てNafion陽イオン交換膜によって陽極液が陰極液
から分離てれた浴が用いられる。陽極液は体積濃度2チ
の硫酸水溶液< p Ht Is )から成る。陽極は
6価クロムのメッキ工程で通常用いられている型の鉛合
金の平坦な棒である。
各側に関する陰極液は基礎電解液を作り、適当な量のク
ロム(III)、錯化剤及びチオシアン酸塩を添加する
事によって調製された。
基礎電解液は1リツトルの水に以下の成分を溶解したも
のから成る。
硫酸カリウム     1M 硫酸ナトリウム   0.5 M ホウ酸      1M 湿潤剤FC980,1g 例  1 以下の成分が基礎電解液中に浴解嘔れた。
クロム(III)      10mM(クロムタンか
ら)DLアスパラギン酸 10mM チオシアン酸ナトリウム 1mM pH3,5 普通の使用状態で平衡は急速に生じるが、検出可能セス
ベクトルの変化か存在しなくなるまで最初に電解質が平
衡化される事か好ましい。浴は25〜60℃の温度範囲
にわたって働く事か見い出きれた。10〜800 mA
/crn2の電流密度範囲にわたって良好な明るいクロ
ムの付着物カミ得られ。
た。
例 2 以下の成分が基礎電解液に溶解きね、た。
クロム(In)      10mM(クロムタン力)
ら)イミノジ酢酸  IDmM チオシアン酸ナトリウム 1mM pH’          3.5 電解液はスペクトル変化が存在しなく・なるまで平衡化
される事が好ましい。浴は25〜60℃の温度範囲にわ
たって働く事が見い出てねた。10〜800 m A 
7cm”の電流密度範囲にわたって良好な明るいクロム
付着゛物が得られた。
例  6 以下の成分が基礎電解液に溶解芒れた。
クロム([11)     150mM(クロムタンか
ら)DLアスパラギン酸150mM チオシアン酸ナトリウム 1mM p H4,0 電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで平衡化き
れるのが打着しい。浴は25〜60℃の温度範囲で働く
事が見い出された。10〜800m A / Cm 2
の電流密度において良好な明るい付着物が得られた。
例  4 以下の成分が基礎電解液に溶解でれた。
クロム([1)      125 m M (クロム
タンから)DLアヌパラギン酸125mM チオシアン酸ナトリウム 1mM p )(5,5 °電解液はスペクトル変化が存在しなくなるまで平衡化
される事が好ましい。浴は25〜65℃の温度範囲で働
く事が見い出された。10〜800m A / cm2
の電流密度範囲にわたって良好な明るい付着物が得られ
た。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)6価クロム・イオン、錯化剤、緩衝剤及びクロム
    の付着を促進するためのチオシアン酸イオンを含み、上
    記チオシアン酸イオンのモル濃度が上記クロム・イオン
    のモル濃度よりも低く、上記クロム・イオンの濃度が0
    .1Mよりも低いクロム電気メツキ液。
  2. (2)上記錯化剤が、10’ <K 1<10”M”の
    範囲内にクロム錯体の安定度定数に1含有するように選
    択された特許請求の範囲第(1)項記載のクロム電気メ
    ツキ液。
JP57180082A 1981-11-18 1982-10-15 クロム電気メツキ液 Granted JPS5887291A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB34778/81 1981-11-18
GB08134778A GB2109816B (en) 1981-11-18 1981-11-18 Electrodeposition of chromium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5887291A true JPS5887291A (ja) 1983-05-25
JPS6131196B2 JPS6131196B2 (ja) 1986-07-18

Family

ID=10525980

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57180082A Granted JPS5887291A (ja) 1981-11-18 1982-10-15 クロム電気メツキ液

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4472250A (ja)
EP (1) EP0079770B1 (ja)
JP (1) JPS5887291A (ja)
AT (1) ATE15239T1 (ja)
AU (1) AU550891B2 (ja)
CA (1) CA1208159A (ja)
DE (1) DE3265889D1 (ja)
GB (1) GB2109816B (ja)
ZA (1) ZA828368B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012521495A (ja) * 2009-03-24 2012-09-13 マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド 塩化カルシウム環境における耐食性が強化されたクロム合金コーティング
CN113818053A (zh) * 2014-01-24 2021-12-21 科文特亚共同股份公司 含三价铬的电镀槽液和沉积铬的方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3685999B2 (ja) * 2001-02-16 2005-08-24 株式会社太洋工作所 メッキ成形品の製造方法
TW554086B (en) * 2001-02-16 2003-09-21 Taiyo Mfg Co Ltd Method for producing plated molded product
KR101367924B1 (ko) * 2006-03-31 2014-03-17 아토테크 도이칠란드 게엠베하 결정형 크롬 고착물
US8187448B2 (en) 2007-10-02 2012-05-29 Atotech Deutschland Gmbh Crystalline chromium alloy deposit
US7780840B2 (en) 2008-10-30 2010-08-24 Trevor Pearson Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath
CN103510130B (zh) * 2012-06-26 2016-08-24 武汉材料保护研究所 三价铬硬铬电镀方法
WO2019121582A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 Tata Steel Ijmuiden B.V. Method for manufacturing chromium-chromium oxide coated blackplate
KR20200052588A (ko) 2018-11-07 2020-05-15 윤종오 3가 크롬 합금 도금액, Cr-Ti-Au 합금 도금액, Cr-Ti-Ni 합금 도금액, Cr-Ti-Co 합금 도금액 및 도금 제품

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4062737A (en) * 1974-12-11 1977-12-13 International Business Machines Corporation Electrodeposition of chromium
US4161432A (en) * 1975-12-03 1979-07-17 International Business Machines Corporation Electroplating chromium and its alloys
GB1591051A (en) * 1977-01-26 1981-06-10 Ibm Electroplating chromium and its alloys
GB1552263A (en) * 1977-03-04 1979-09-12 Bnf Metals Tech Centre Trivalent chromium plating baths
GB1602404A (en) * 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
GB2038361B (en) * 1978-11-11 1983-08-17 Ibm Trivalent chromium plating bath
GB2034354B (en) * 1978-11-11 1982-12-01 Ibm Elimination of anode hydrogen cyanide formation in trivalent chromium plating
JPS55119192A (en) * 1979-03-09 1980-09-12 Toyo Soda Mfg Co Ltd Trivalent chromium plating bath
GB2071151B (en) * 1980-03-10 1983-04-07 Ibm Trivalent chromium electroplating
GB2093861B (en) * 1981-02-09 1984-08-22 Canning Materials W Ltd Bath for electrodeposition of chromium

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012521495A (ja) * 2009-03-24 2012-09-13 マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド 塩化カルシウム環境における耐食性が強化されたクロム合金コーティング
US9765437B2 (en) 2009-03-24 2017-09-19 Roderick D. Herdman Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments
CN113818053A (zh) * 2014-01-24 2021-12-21 科文特亚共同股份公司 含三价铬的电镀槽液和沉积铬的方法
CN113818053B (zh) * 2014-01-24 2024-07-05 科文特亚共同股份公司 含三价铬的电镀槽液和沉积铬的方法

Also Published As

Publication number Publication date
ZA828368B (en) 1983-09-28
AU9068182A (en) 1983-05-26
GB2109816B (en) 1985-01-23
AU550891B2 (en) 1986-04-10
DE3265889D1 (en) 1985-10-03
ATE15239T1 (de) 1985-09-15
JPS6131196B2 (ja) 1986-07-18
CA1208159A (en) 1986-07-22
EP0079770A1 (en) 1983-05-25
US4472250A (en) 1984-09-18
GB2109816A (en) 1983-06-08
EP0079770B1 (en) 1985-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3917517A (en) Chromium plating electrolyte and method
US4473448A (en) Electrodeposition of chromium
US4161432A (en) Electroplating chromium and its alloys
US4157945A (en) Trivalent chromium plating baths
US4448649A (en) Trivalent chromium electroplating baths
JPS608315B2 (ja) 錫・金電気メッキ水性浴
CA1209088A (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
JPS5887291A (ja) クロム電気メツキ液
US4374007A (en) Trivalent chromium electroplating solution and process
US4448648A (en) Trivalent chromium electroplating baths
CA1209086A (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
CA1214426A (en) Trivalent chromium electroplating solution and bath
JPS6344837B2 (ja)
JPS6123783A (ja) イオン交換膜を用いるクロムメツキ法