JPH0336288A - 電気スズめっきのスラッジ発生防止方法 - Google Patents
電気スズめっきのスラッジ発生防止方法Info
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- JPH0336288A JPH0336288A JP16810889A JP16810889A JPH0336288A JP H0336288 A JPH0336288 A JP H0336288A JP 16810889 A JP16810889 A JP 16810889A JP 16810889 A JP16810889 A JP 16810889A JP H0336288 A JPH0336288 A JP H0336288A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は鋼板または鋼部の表面に高品質のスズ析出物を
めっきする方法に関し、特にスズスラッジの生成が少な
い酸性ハロゲン電気スズめっき浴を用いる、電気スズめ
っきのスラッジ発生防止方法に関する。
めっきする方法に関し、特にスズスラッジの生成が少な
い酸性ハロゲン電気スズめっき浴を用いる、電気スズめ
っきのスラッジ発生防止方法に関する。
〈従来技術とその問題点〉
酸性ハロゲン電気スズめっき浴は一般にほぼ１００％の
陽極効率と８０〜９０％の陰極効率を有し、塩化第一錫
、塩化ナトリウム、弗化すＩ・リウムおよび弗化水素す
Ｉ・リウムを含むハロゲン溺てあり、この浴中の塩化物
濃度を高くして高導電率を保ち、錯化イオンである弗化
物により、一般式Ｎ ａ ４Ｓ １１ Ｆ６て表さ利る
弗化スズ酸（ＩＩ）すトリウム錯塩を生成させることに
よりｍ個スズイオンを安定させている。 まためっきに
必要な二価スズイオンは、スズ陽極および定期的に力Ｕ
えられる塩化第一錫により供給される。 尚、浴のｐＨ
は一般に塩酸と苛性ソーダにより一定に保たれる。
陽極効率と８０〜９０％の陰極効率を有し、塩化第一錫
、塩化ナトリウム、弗化すＩ・リウムおよび弗化水素す
Ｉ・リウムを含むハロゲン溺てあり、この浴中の塩化物
濃度を高くして高導電率を保ち、錯化イオンである弗化
物により、一般式Ｎ ａ ４Ｓ １１ Ｆ６て表さ利る
弗化スズ酸（ＩＩ）すトリウム錯塩を生成させることに
よりｍ個スズイオンを安定させている。 まためっきに
必要な二価スズイオンは、スズ陽極および定期的に力Ｕ
えられる塩化第一錫により供給される。 尚、浴のｐＨ
は一般に塩酸と苛性ソーダにより一定に保たれる。
ところて、高速のメツキラインで１．：ｌ、鋼板もしく
は銅帯（以下鋼板という）を高速で処・理するのて、浴
中に空気が取込まわ浴か鋼板によす攪拌されるのと相俟
って、空気中の酸素により、浴中の二価スズイオンが酸
化されて弗化物錯塩の形をした四価スズイオンとなる。
は銅帯（以下鋼板という）を高速で処・理するのて、浴
中に空気が取込まわ浴か鋼板によす攪拌されるのと相俟
って、空気中の酸素により、浴中の二価スズイオンが酸
化されて弗化物錯塩の形をした四価スズイオンとなる。
このような塩は浴中にわずかしか溶解せず、スズメツ
キには不適であり、また溶解度を超えると、弗化物錯塩
としてスラッジの形でめっき洛中に沈殿することになる
。 このスラッジの主成分は一般式Ｎａ２５ｎＦ６で表
される弗化スズ酸（ＩＶ ）すｌ・リウムである。
キには不適であり、また溶解度を超えると、弗化物錯塩
としてスラッジの形でめっき洛中に沈殿することになる
。 このスラッジの主成分は一般式Ｎａ２５ｎＦ６で表
される弗化スズ酸（ＩＶ ）すｌ・リウムである。
一方、スズスラッジ発生の別の要因に浴中の第一鉄イオ
ンが挙げられる。 即ち、上述のようにして洛中に溶解
した酸素により、二価鉄イオンが酸化されて三価鉄イオ
ンになり、との三価鉄イオンが洛中で還元されて二価鉄
イオンになる時に、二価スズイオンが四価スズイオンへ
と酸化されて、スズスラッジの発生へと結びつくのであ
る。 尚、浴中の二価鉄イオンはスズめっきの前処理で
ある酸洗槽から持ち込まれるか、酸性めっき浴自身の中
で鋼板が溶解することにより存在するもので、こわをな
くすことは現実には不可能である。
ンが挙げられる。 即ち、上述のようにして洛中に溶解
した酸素により、二価鉄イオンが酸化されて三価鉄イオ
ンになり、との三価鉄イオンが洛中で還元されて二価鉄
イオンになる時に、二価スズイオンが四価スズイオンへ
と酸化されて、スズスラッジの発生へと結びつくのであ
る。 尚、浴中の二価鉄イオンはスズめっきの前処理で
ある酸洗槽から持ち込まれるか、酸性めっき浴自身の中
で鋼板が溶解することにより存在するもので、こわをな
くすことは現実には不可能である。
以上述べたように、スズめっきに必要な二価スズイオン
は酸化されることにより減少し、また浴中の可溶性弗化
物も減るため、塩化第錫、弗化ナトリウムおよび弗化水
素すｌ・リウムを補給する必要があり、薬品コスｌ−が
高いという問題がある。 更にめっきタンク中に大量の
スズスラッジが堆積するので、定期的にラインを停めて
スラッジを除去しなければならず、従って作業負荷が大
きく、また生産性を阻害するなどの問題点がある。 更
にスズスラッジは錫と弗化物を含有しているが、スズス
ラッジ中の錫は元の値の数分の１でしか売却できず、ま
た弗化物は回収できず工業的損失となっている。
は酸化されることにより減少し、また浴中の可溶性弗化
物も減るため、塩化第錫、弗化ナトリウムおよび弗化水
素すｌ・リウムを補給する必要があり、薬品コスｌ−が
高いという問題がある。 更にめっきタンク中に大量の
スズスラッジが堆積するので、定期的にラインを停めて
スラッジを除去しなければならず、従って作業負荷が大
きく、また生産性を阻害するなどの問題点がある。 更
にスズスラッジは錫と弗化物を含有しているが、スズス
ラッジ中の錫は元の値の数分の１でしか売却できず、ま
た弗化物は回収できず工業的損失となっている。
そこで、二価スズイオンの酸化を防止するために、フェ
ロシアン化すｌ・ソウムを浴に加えて鉄イオンと結合さ
せて、溶解度の極めて小さなフェロシアン化す］・リウ
ム鉄錯塙として沈殿させること（マスキング〉が一般に
行われている。 この方法であると、二価スズイオンの
四価スズイオンへの酸化を促進する鉄イオンを除去でき
るか、浴中酸素による二価スズイオンの酸化を防止する
ことはできない。
ロシアン化すｌ・ソウムを浴に加えて鉄イオンと結合さ
せて、溶解度の極めて小さなフェロシアン化す］・リウ
ム鉄錯塙として沈殿させること（マスキング〉が一般に
行われている。 この方法であると、二価スズイオンの
四価スズイオンへの酸化を促進する鉄イオンを除去でき
るか、浴中酸素による二価スズイオンの酸化を防止する
ことはできない。
これを解決するものとして、特開昭５３−４８９４２号
に開示されためっき浴が提案されている。 即ち、酸性
ハロゲン電気スズめっき浴にＰ−ア稟ノアセトアニリド
（以下、ＦＡＡと略記する）を適量添加することにより
、二価スズイオンの酸化を抑制しようとするものである
。 しかしながら、ＦＡＡを浴中に添加することによ
り、陰極効率が低下する。 即ち、後に実施例２で詳述
する第２図の結果かられかるように、同じ？！！流を流
しても、無添加の浴に比べ、スズ付着量が少ない、とい
った問題がある。
に開示されためっき浴が提案されている。 即ち、酸性
ハロゲン電気スズめっき浴にＰ−ア稟ノアセトアニリド
（以下、ＦＡＡと略記する）を適量添加することにより
、二価スズイオンの酸化を抑制しようとするものである
。 しかしながら、ＦＡＡを浴中に添加することによ
り、陰極効率が低下する。 即ち、後に実施例２で詳述
する第２図の結果かられかるように、同じ？！！流を流
しても、無添加の浴に比べ、スズ付着量が少ない、とい
った問題がある。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、高品質のスズめっき鋼を得るための電
気スズめっきのスラッジ発生防止方法を提供しようとす
る。
気スズめっきのスラッジ発生防止方法を提供しようとす
る。
く課題を解決するための手段〉
すなわち本発明は、少むくとも塩化第一錫およびハロゲ
ン塩を含む酸性ハロゲン浴を用いて鋼にスズめっきを施
す際に、フェノールスルノオン酸およびその誘導体から
選ば枦た少なくとも１稲の化合物を添加して、二価スズ
イオンの酸化を抑制してスラッジの発生を防止すること
を特徴とする電気スズめっきのスラッジ発生防止方法を
提供する。
ン塩を含む酸性ハロゲン浴を用いて鋼にスズめっきを施
す際に、フェノールスルノオン酸およびその誘導体から
選ば枦た少なくとも１稲の化合物を添加して、二価スズ
イオンの酸化を抑制してスラッジの発生を防止すること
を特徴とする電気スズめっきのスラッジ発生防止方法を
提供する。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明に用いるめっき浴は、少なくとも塩化第一錫およ
びハロゲン塩を含む酸性ハロゲン浴であれば特に限定さ
むない。 １例を挙げると、塩化第一錫および弗化ナ
トリウム、弗化水素ナトリウム、塩化すＩ・ソウムなど
のハロゲン塩を含み、浴のｐＨを塩酸により一定に保つ
酸性ハロゲンメツキ浴等である。 また浴には必要に
応して光沢剤、安定剤が添加されてもよい。
びハロゲン塩を含む酸性ハロゲン浴であれば特に限定さ
むない。 １例を挙げると、塩化第一錫および弗化ナ
トリウム、弗化水素ナトリウム、塩化すＩ・ソウムなど
のハロゲン塩を含み、浴のｐＨを塩酸により一定に保つ
酸性ハロゲンメツキ浴等である。 また浴には必要に
応して光沢剤、安定剤が添加されてもよい。
本発明のスラッジ発生防止方法は、酸性ハロゲン電気ス
ズめっき浴に、フェノールスルフォン酸およびその誘導
体から選ばれた少なくとも１種の化合物を添加すること
に特徴がある。
ズめっき浴に、フェノールスルフォン酸およびその誘導
体から選ばれた少なくとも１種の化合物を添加すること
に特徴がある。
フェノールスルフォン酸およびその誘導体としては、フ
ェノールスルフォン酸、フェノールスルフオン酸ナトリ
ウム等のフェノールスルフォン酸のアルカリ塩、アルカ
リ土類塩等が例示される。
ェノールスルフォン酸、フェノールスルフオン酸ナトリ
ウム等のフェノールスルフォン酸のアルカリ塩、アルカ
リ土類塩等が例示される。
添加する量は、微量でも効果があるが、濃度管理上０．
１ｇ／Ｉ１以上が好ましく、また上限については特に限
定しないが経済性を考慮し、フェノールスルホン酸とし
て１５０ ｇ／、、１２以下とする。
１ｇ／Ｉ１以上が好ましく、また上限については特に限
定しないが経済性を考慮し、フェノールスルホン酸とし
て１５０ ｇ／、、１２以下とする。
めっき浴に、フェノールスルフォン酸およびその誘導体
く以下フェノールスルフォン酸等という）より選ばれた
少くとも１種の化合物を浴に添加することにより、二価
スズイオンの四価スズイオンへの酸化は実質的に減少す
る。 その機能としては、定かてはないが、フェノール
スルフォン酸等が二価スズイオンを配位することによっ
て、二価スズイオンがより安定な状態になるためではな
いかと考えられる。
く以下フェノールスルフォン酸等という）より選ばれた
少くとも１種の化合物を浴に添加することにより、二価
スズイオンの四価スズイオンへの酸化は実質的に減少す
る。 その機能としては、定かてはないが、フェノール
スルフォン酸等が二価スズイオンを配位することによっ
て、二価スズイオンがより安定な状態になるためではな
いかと考えられる。
〈実施例〉
以下に実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
一裕組成
（試薬） 浴中濃度
塩化第一錫 ５５．０ ｇ／、ｆ２弗化
ナトリウム ４５．２ 、ｇ／ｌ／化水素す
］・リウム １９．５ Ｓ／氾基塩化ナトリウム
３２ 、５ ｇ／ Ｉｔ光沢剤
５ｍｆｔ／、Ｑ（ポリエチレンオキサイド） フェロシアン化ナトリウム １．０ ｇ／ｕ（貧血ソ
ーダ） フェノールスルフ１ン １．０ ８／Ｊ２酸ソーダ ｐＨ３，［ｉ 上記の如く調製したスズめっき液５００ｍ、ＱにＯ，ｓ
ｇの塩化第一鉄を添加し、５５℃恒温にて、純酸素を３
００ ｍｆｌ ／ｍｉｎの流速で通じ、価スズイオン
の初期濃度と諸水準における２４時間後の二価スズイオ
ン濃度を測定して、スラッジ抑制効果を評価した。 そ
の結果を表１および第１図に示す。 この結果かられか
るように、フェノールスルフオン酸ソーダを１ｇ／ｆｌ
添加したとき二価スズイオンの酸化速度は通祁のフェロ
シアン化す］・リウム（貧血ソーダ）添加に比へて小さ
くなった。 また、フェノールスルフォン酸ソーダ添
加浴では、Ｓｎ”濃度変化が貧血ソーダのみのものに比
べ小さい。
ナトリウム ４５．２ 、ｇ／ｌ／化水素す
］・リウム １９．５ Ｓ／氾基塩化ナトリウム
３２ 、５ ｇ／ Ｉｔ光沢剤
５ｍｆｔ／、Ｑ（ポリエチレンオキサイド） フェロシアン化ナトリウム １．０ ｇ／ｕ（貧血ソ
ーダ） フェノールスルフ１ン １．０ ８／Ｊ２酸ソーダ ｐＨ３，［ｉ 上記の如く調製したスズめっき液５００ｍ、ＱにＯ，ｓ
ｇの塩化第一鉄を添加し、５５℃恒温にて、純酸素を３
００ ｍｆｌ ／ｍｉｎの流速で通じ、価スズイオン
の初期濃度と諸水準における２４時間後の二価スズイオ
ン濃度を測定して、スラッジ抑制効果を評価した。 そ
の結果を表１および第１図に示す。 この結果かられか
るように、フェノールスルフオン酸ソーダを１ｇ／ｆｌ
添加したとき二価スズイオンの酸化速度は通祁のフェロ
シアン化す］・リウム（貧血ソーダ）添加に比へて小さ
くなった。 また、フェノールスルフォン酸ソーダ添
加浴では、Ｓｎ”濃度変化が貧血ソーダのみのものに比
べ小さい。
酸化速度Ｖ ［ｇ／文・Ｈｒコ
、 ＝ ［Ｓｎ”コ（、−［Ｓｎ”］２゜４
但し、［Ｓｎ”コ、は、初期Ｓｎ”濃度［Ｓｎ”１２４
は、２４時間後のＳｎ”１ｙｌＪ度（実施例２） 実施例１で用いたと同様の浴を用いて、次の条件でハル
セルめっきを行い、第２図に示す３稲の添加物を用い、
それぞれの添加物ごとのスズ付着量への影響を調べた。
は、２４時間後のＳｎ”１ｙｌＪ度（実施例２） 実施例１で用いたと同様の浴を用いて、次の条件でハル
セルめっきを行い、第２図に示す３稲の添加物を用い、
それぞれの添加物ごとのスズ付着量への影響を調べた。
結果を第２図に示す。
ハルセルめっき条件
・供試材ＤＴ４−ＣＡ−Ｂ
・脱脂 ： Ｎａ０ｔｌ （５０ｇ／Ｉｔ ）中、陰極
’Ａ理（８Ａ／ｄｍ’ ｘ １０秒）・酸洗 ： ｔ１
２ｓＯ４（４０ｇ／氾）浸漬処理・めっき・５５℃、２
６７ｍｊ２セル、静止浴、 通電＋４Ａｘ３０秒 これにより、Ｐ−アミノアセトアニリド（ＰＡＡ）を添
加した浴では、スズ付着量の低下が見られるが、本発明
例では、従来法（貧血ソーダのみ添加）と同等の陰極効
率が保たれることがわかった。
’Ａ理（８Ａ／ｄｍ’ ｘ １０秒）・酸洗 ： ｔ１
２ｓＯ４（４０ｇ／氾）浸漬処理・めっき・５５℃、２
６７ｍｊ２セル、静止浴、 通電＋４Ａｘ３０秒 これにより、Ｐ−アミノアセトアニリド（ＰＡＡ）を添
加した浴では、スズ付着量の低下が見られるが、本発明
例では、従来法（貧血ソーダのみ添加）と同等の陰極効
率が保たれることがわかった。
〈発明の効果〉
本発明の方法は、フェノールスルフォン酸等が添加され
ためっき浴を用いるので、二価スズイオンの四価スズイ
オンへの酸化が印制され、スラッジが激減するため、次
のような、多くの利点がもたらされる。
ためっき浴を用いるので、二価スズイオンの四価スズイ
オンへの酸化が印制され、スラッジが激減するため、次
のような、多くの利点がもたらされる。
１）塩化第一錫の供給が不要となる。
２）めっきオ曹およびストレージタンクからのスラッジ
除去回数が激減する。
除去回数が激減する。
３）スラッジによる配管詰まりトラブルの発生が減少す
る。
る。
第１図は、実施例１の測定結果による、二価スズイオン
の経時変化を示すグラフである。 第２図は、実施例２の測定結果によるスズ付着量（陰極
効率）への添加物の影響を示すグラフである。
の経時変化を示すグラフである。 第２図は、実施例２の測定結果によるスズ付着量（陰極
効率）への添加物の影響を示すグラフである。
Claims (1)
- （１）少なくとも塩化第一錫およびハロゲン塩を含む酸
性ハロゲン浴を用いて鋼にスズめっきを施す際に、フェ
ノールスルフォン酸およびその誘導体から選ばれた少な
くとも１種の化合物を添加して、二価スズイオンの酸化
を抑制してスラッジの発生を防止することを特徴とする
電気スズめっきのスラッジ発生防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16810889A JPH0336288A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 電気スズめっきのスラッジ発生防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16810889A JPH0336288A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 電気スズめっきのスラッジ発生防止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336288A true JPH0336288A (ja) | 1991-02-15 |
Family
ID=15862000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16810889A Pending JPH0336288A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | 電気スズめっきのスラッジ発生防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0336288A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0775764A1 (en) * | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Atotech USA Inc. | Halogen tin composition and electrolytic plating process |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP16810889A patent/JPH0336288A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0775764A1 (en) * | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Atotech USA Inc. | Halogen tin composition and electrolytic plating process |
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