JPS61116605A - 位置合せ装置 - Google Patents
位置合せ装置Info
- Publication number
- JPS61116605A JPS61116605A JP16536685A JP16536685A JPS61116605A JP S61116605 A JPS61116605 A JP S61116605A JP 16536685 A JP16536685 A JP 16536685A JP 16536685 A JP16536685 A JP 16536685A JP S61116605 A JPS61116605 A JP S61116605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gratings
- light
- sample
- grate
- diffraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平行配置された２枚の回折格子を有効利用し比
精度の高い位置合せ装置に関する。
精度の高い位置合せ装置に関する。
近時、２枚の回折格子を用いｆＦ、積置の高い位置合せ
法が、Ｓｔ＠ｗａｒｔ Ａｕ５ｔ１ｎｅ Ｄ、Ｃ，Ｐ１
ａａｄ＠ｒｓ＊Ｈ＠ａｒｙ Ｉ、 ８ｍ１ｔｈら忙よる
著書（１） ” Ａ ｎｅｗ ｉｎｔ＊ｒｆ＠ｒｏｍ
＊ｔｒｌｃ ａｌｉｇｎｍｅｎｔｔ＠ｃｈｎｉｑｕｅ”
Ａｐｐｌｉ＠ｄ Ｐｈｙａｌｃｍ Ｌａｔｔｅｒｓ Ｍ
ｏｌ ３１Ａ７（１９７７）Ｐ、４２６ （２） ” Ａｌｌｇｎｍｓｎｔ ｏｆ Ｘ−ｒａｙ
ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｍａｓｋｓ ｕｌｉｎｇ ａ
ｎ＠ｗ ｉｎｔ＠ｒｆ＠ｒｏｍｓｔｒｉａ ｔｓｃｈ
ｎｌｑｕｅ −Ｉｚｐ＠ｒｉｍｅｔａｌ ｒ＠ａｕｌｔ
ｇ ” Ｊ、 Ｍａｃ、 ８ｃ１． Ｔｓｅｈｎｏｌ。
法が、Ｓｔ＠ｗａｒｔ Ａｕ５ｔ１ｎｅ Ｄ、Ｃ，Ｐ１
ａａｄ＠ｒｓ＊Ｈ＠ａｒｙ Ｉ、 ８ｍ１ｔｈら忙よる
著書（１） ” Ａ ｎｅｗ ｉｎｔ＊ｒｆ＠ｒｏｍ
＊ｔｒｌｃ ａｌｉｇｎｍｅｎｔｔ＠ｃｈｎｉｑｕｅ”
Ａｐｐｌｉ＠ｄ Ｐｈｙａｌｃｍ Ｌａｔｔｅｒｓ Ｍ
ｏｌ ３１Ａ７（１９７７）Ｐ、４２６ （２） ” Ａｌｌｇｎｍｓｎｔ ｏｆ Ｘ−ｒａｙ
ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｍａｓｋｓ ｕｌｉｎｇ ａ
ｎ＠ｗ ｉｎｔ＠ｒｆ＠ｒｏｍｓｔｒｉａ ｔｓｃｈ
ｎｌｑｕｅ −Ｉｚｐ＠ｒｉｍｅｔａｌ ｒ＠ａｕｌｔ
ｇ ” Ｊ、 Ｍａｃ、 ８ｃ１． Ｔｓｅｈｎｏｌ。
１５ （３） Ｍａｙ／Ｊｕｎｅ（１９７８） Ｐ、
９８４等に紹介されている。上記文献（υに示されるも
のは、その概略′ｆｃ第１図に示すよ５ｋ、平行配置さ
れ念同−格子ピッチＰを有する２枚の回折格子１．２￥
Ｃ１光源３より発せられた可干渉光を垂直に照射し、前
記回折格子Ｊｅ２による＋ｎ次方向および−ｎ次方向の
透過回折光を受光器４，５にてそれぞれ受光し、その受
光強度を指示器６で表示せんとするものである。この場
合、回折格子Ｊ、Ｊ間において格子ピッチのずれΔＸが
あると上記回折格子Ｊ 、 ｉＶｃよる各回折光の位相
にずれが生じ、これ釦よって＋ｎ次方向および−ｎ次方
向の各回折光がそれぞれ干渉する。この干渉忙よる光強
度の変化を検知することにより、前記２枚の回折格子１
．２間の位置合せを行うものである。
９８４等に紹介されている。上記文献（υに示されるも
のは、その概略′ｆｃ第１図に示すよ５ｋ、平行配置さ
れ念同−格子ピッチＰを有する２枚の回折格子１．２￥
Ｃ１光源３より発せられた可干渉光を垂直に照射し、前
記回折格子Ｊｅ２による＋ｎ次方向および−ｎ次方向の
透過回折光を受光器４，５にてそれぞれ受光し、その受
光強度を指示器６で表示せんとするものである。この場
合、回折格子Ｊ、Ｊ間において格子ピッチのずれΔＸが
あると上記回折格子Ｊ 、 ｉＶｃよる各回折光の位相
にずれが生じ、これ釦よって＋ｎ次方向および−ｎ次方
向の各回折光がそれぞれ干渉する。この干渉忙よる光強
度の変化を検知することにより、前記２枚の回折格子１
．２間の位置合せを行うものである。
一方、文献（２）に示されるものは、第２図に概略を示
すように２枚の平行配置された回折格子Ｊ 、 ２Ｖｃ
よる反射回折光を利用して文献（１）に示されるものと
同様く位置合せを行うものである。
すように２枚の平行配置された回折格子Ｊ 、 ２Ｖｃ
よる反射回折光を利用して文献（１）に示されるものと
同様く位置合せを行うものである。
これら位置合せ法は回折格子１，２の格子ピッチＰと可
干渉光の波長λとにより規定される極めて高い精度の位
置合せを行い得る利点を有する。
干渉光の波長λとにより規定される極めて高い精度の位
置合せを行い得る利点を有する。
ところが、この種の従来の装置は、一般に位置合せ毎の
位置合せ結果のバラツキが大きく、精度の高い位置合せ
を行なうことが難しかつ九。
位置合せ結果のバラツキが大きく、精度の高い位置合せ
を行なうことが難しかつ九。
本発明は、上記事情に着目してなされたもので、その目
的とするところは、位置合せ毎の／ぐ２ツキを低減して
、容易に高精度の位置合せを行ない得る位置合せ装置を
提供することにあるＯ以下、平行配置された同一格子ピ
ッチを有する２枚の回折格子による回折光について解析
し、本発明の実施的を図面を参照し【説明する。尚、以
下の説明は反射回折光を例に行５が、透過回折光忙対し
ても同様である。
的とするところは、位置合せ毎の／ぐ２ツキを低減して
、容易に高精度の位置合せを行ない得る位置合せ装置を
提供することにあるＯ以下、平行配置された同一格子ピ
ッチを有する２枚の回折格子による回折光について解析
し、本発明の実施的を図面を参照し【説明する。尚、以
下の説明は反射回折光を例に行５が、透過回折光忙対し
ても同様である。
第３図は２枚の回折格子１１ 、 Ｊ ２Ｊ／Ｃより回
折された可干渉光を示す模式図である。上記２枚の回折
格子１１．１２は同一の格子ピッチＰを有するもので、
格子１１ｅ１２の各上表面間の距離をＤに設定して平行
配置されている。これらの回折格子１１ａ１２に対して
図中上方より可干渉光、例えばレーデ光２３が垂直に照
射される。このレーデ光１３の前記回折格子１１゜１２
による＋１次方向および−ｎ次方向への回折光の主たる
ものは各々３つある。＋１次方向を例にとると、回折格
子１１１Ｃより反射されて回折した第１の回折光１４２
回折格子Ｉノを透過したのち回折格子１２に、工つて正
反射され再び回折格子１１を透過して回折した第２の回
折光１５、そして回折格子７Ｊを透過し九のち回折格子
１２にて反射回折された第３の回折光Ｊ６である。各回
折光Ｊ ４ ＃ Ｊ ６ ａ Ｊ ６の振幅を亀。
折された可干渉光を示す模式図である。上記２枚の回折
格子１１．１２は同一の格子ピッチＰを有するもので、
格子１１ｅ１２の各上表面間の距離をＤに設定して平行
配置されている。これらの回折格子１１ａ１２に対して
図中上方より可干渉光、例えばレーデ光２３が垂直に照
射される。このレーデ光１３の前記回折格子１１゜１２
による＋１次方向および−ｎ次方向への回折光の主たる
ものは各々３つある。＋１次方向を例にとると、回折格
子１１１Ｃより反射されて回折した第１の回折光１４２
回折格子Ｉノを透過したのち回折格子１２に、工つて正
反射され再び回折格子１１を透過して回折した第２の回
折光１５、そして回折格子７Ｊを透過し九のち回折格子
１２にて反射回折された第３の回折光Ｊ６である。各回
折光Ｊ ４ ＃ Ｊ ６ ａ Ｊ ６の振幅を亀。
ｂｙｃで示すとき、第１の回折光１４の複素振幅Ｅ、＋
ｎは Ｅｍ” ＝ ａ ・−（１）で示
される。またｇＸ２の回折光１５の複素振幅Ｅｂ“は、
レーデ光１３の波長をλを各回折格子１１．１２の上表
面間距離をｄ（＝Ｄ）、そして虚数単位を量としたとき ｇｂ＋ｆｌ ＝ ｂ＠ｅｘｐ ｉ（２π丁）
−（２）で示される。更に
第３の回折光１６の複素振幅Ｅｃ”は、回折格子１１．
１２の格子ピッチ長をＰ１回折格子１１．１２間のずれ
景をΔＸとしたで示される。従って＋１次方向へ向う光
ｉマ、上記３つの回折光１５ｅ１６ｅ１７の合成光（干
渉光）となり、その強度！ は λ λ／Ｐ〜Ｏ２噛−ζＩ なる近似を行５こと釦より次のよう忙示される。
ｎは Ｅｍ” ＝ ａ ・−（１）で示
される。またｇＸ２の回折光１５の複素振幅Ｅｂ“は、
レーデ光１３の波長をλを各回折格子１１．１２の上表
面間距離をｄ（＝Ｄ）、そして虚数単位を量としたとき ｇｂ＋ｆｌ ＝ ｂ＠ｅｘｐ ｉ（２π丁）
−（２）で示される。更に
第３の回折光１６の複素振幅Ｅｃ”は、回折格子１１．
１２の格子ピッチ長をＰ１回折格子１１．１２間のずれ
景をΔＸとしたで示される。従って＋１次方向へ向う光
ｉマ、上記３つの回折光１５ｅ１６ｅ１７の合成光（干
渉光）となり、その強度！ は λ λ／Ｐ〜Ｏ２噛−ζＩ なる近似を行５こと釦より次のよう忙示される。
Ｉ” ＝ ｌ Ｅａ” ＋ Ｋｂ” 十Ｅｃ” ｌ”４
πｄ ＝ ａ ＋ ｂ ＋ ｃ ＋ ２ｍｂ ｃｍ 。
πｄ ＝ ａ ＋ ｂ ＋ ｃ ＋ ２ｍｂ ｃｍ 。
同様にして−ｎ次方向への回折光１７．１’ｌｌ。
１９の各複素振幅Ｅａ−” ｅ Ｅｂ−” ｅ ’Ｈｅ
−”は１ａ″″ｎ ＝ 、
・−（５）２ｄ ・・・（６） Ｅｂ−” ＝ｂ・＠ｘｐ ｉ （２” Ｊ ）Ｅａ−”
＝ ａａ＊ｘｐ ｉ （Ｍ−Ｎ ） ＝
（７）で示される。そしてこれら回折光１７．１８゜１
９が干渉して−ｎ次方向へ向う光の強度！″″１は次の
ように示される。
−”は１ａ″″ｎ ＝ 、
・−（５）２ｄ ・・・（６） Ｅｂ−” ＝ｂ・＠ｘｐ ｉ （２” Ｊ ）Ｅａ−”
＝ ａａ＊ｘｐ ｉ （Ｍ−Ｎ ） ＝
（７）で示される。そしてこれら回折光１７．１８゜１
９が干渉して−ｎ次方向へ向う光の強度！″″１は次の
ように示される。
４πｄ
１−” ＝ ａ２＋ ｂ２＋ ｃ２＋ ２ａｂ ａｙｓ
−λ そして、以上の各光強度１＋ｎと１−ｎとの差分を求め
ると、この差分１−ｆｌ−１＋ｎはとなり、この差分か
ら格子間のずれΔｘｆ：検出して、このΔＸが０になる
ように格子間の相対位置を！ＩＪｍｌするようにしてい
る。
−λ そして、以上の各光強度１＋ｎと１−ｎとの差分を求め
ると、この差分１−ｆｌ−１＋ｎはとなり、この差分か
ら格子間のずれΔｘｆ：検出して、このΔＸが０になる
ように格子間の相対位置を！ＩＪｍｌするようにしてい
る。
とこゐが、本発明者が以上の原理に基づｈて実験を行な
い、これにより回折格子の位置ずれに対する受光強度の
差分値の変化特性を求めてみたところ、第４図に示すよ
うになった・同図において、破線Ａは±１次回折光、実
線Ｂは±３次回折光の特性を示すもので、これらの特性
から明らかなように回折格子間の位置ずれかない場合、
つまりＯのときに差分出力は確かに０になり、この点を
使用して位置合せを行なうことができる。しかしながら
、図から明らかなように上記格子間の位置すれがＯの点
よりも各格子が相互！／ｃｙ２ピッチずれた位置のｔｌ
うがシャープな変化特性が得られることが判明した。
い、これにより回折格子の位置ずれに対する受光強度の
差分値の変化特性を求めてみたところ、第４図に示すよ
うになった・同図において、破線Ａは±１次回折光、実
線Ｂは±３次回折光の特性を示すもので、これらの特性
から明らかなように回折格子間の位置ずれかない場合、
つまりＯのときに差分出力は確かに０になり、この点を
使用して位置合せを行なうことができる。しかしながら
、図から明らかなように上記格子間の位置すれがＯの点
よりも各格子が相互！／ｃｙ２ピッチずれた位置のｔｌ
うがシャープな変化特性が得られることが判明した。
本発明はこの点に着目し、第１および第２の回折格子を
、一対の位置合せ対象物間のずれが００状態で格子が捧
ピッチだけずれた状態になるよ５に上記位置′合せ対象
物にそれぞれ固定し。
、一対の位置合せ対象物間のずれが００状態で格子が捧
ピッチだけずれた状態になるよ５に上記位置′合せ対象
物にそれぞれ固定し。
この状態で位置ずれを検出して位置合せを行なうように
したものである。
したものである。
ｆａ５図は上記原理に基いて構成された本発明装置の一
実施例を示す概略図である０図において基台２１上を移
動自在に設けられた移動テーブル２２上には、試料保持
部２３を介して試料２４例えば半導体クエハが載置され
ている。そして、この試料２４の上面には第１の回折格
子２７が設けられている。尚上記移動テーブル２２はテ
ーブル移動装ｒｉ７２５Ｖｃより位置制御されて移動さ
れる。一方、試料２４の上方位置には、支持台２９に支
持された状態で基準試料（例えば半導体マスク）が対向
配置され、この基準試料には前記回折格子２７と平行に
第２の回折格子２８が設げられている。これらの回折格
子２７．２８は前記テーブル２２の移動方向と平行にな
る如く配置され念もので、その格子忙は格子ピッチ長Ｐ
が同一であるものが用いられている。また、これら第１
および第２の回折格子２７．２１１は、第６図忙示す如
く上記基準試料と試料２４との相対位置が一致している
状態で各格子が相互にＡピッチだけずれ次状態になるよ
５にそれぞれ位置決めされている。
実施例を示す概略図である０図において基台２１上を移
動自在に設けられた移動テーブル２２上には、試料保持
部２３を介して試料２４例えば半導体クエハが載置され
ている。そして、この試料２４の上面には第１の回折格
子２７が設けられている。尚上記移動テーブル２２はテ
ーブル移動装ｒｉ７２５Ｖｃより位置制御されて移動さ
れる。一方、試料２４の上方位置には、支持台２９に支
持された状態で基準試料（例えば半導体マスク）が対向
配置され、この基準試料には前記回折格子２７と平行に
第２の回折格子２８が設げられている。これらの回折格
子２７．２８は前記テーブル２２の移動方向と平行にな
る如く配置され念もので、その格子忙は格子ピッチ長Ｐ
が同一であるものが用いられている。また、これら第１
および第２の回折格子２７．２１１は、第６図忙示す如
く上記基準試料と試料２４との相対位置が一致している
状態で各格子が相互にＡピッチだけずれ次状態になるよ
５にそれぞれ位置決めされている。
この１５に配置され次回折格子２７．２８に対して、レ
ーデ装置３０より発せられた所定波長のレーデ光が垂直
に照射される。そして、この照射レーデ光の光軸忙対し
て等角度配置され走光センｔ３１，３２ＦＣより、前記
回折格子２７．２８忙よる＋１次方向および−ｎ？Ｘ方
向の回折光がそれぞれ受光される。これらの光センナ３
１．３２による受光信号は前置増幅器３３．３４を介し
たのち差動増幅３５１Ｃ人力されてその差分が演算され
る。そして、この差分出力信号は指示器３９にて表示さ
れるとともｋ。
ーデ装置３０より発せられた所定波長のレーデ光が垂直
に照射される。そして、この照射レーデ光の光軸忙対し
て等角度配置され走光センｔ３１，３２ＦＣより、前記
回折格子２７．２８忙よる＋１次方向および−ｎ？Ｘ方
向の回折光がそれぞれ受光される。これらの光センナ３
１．３２による受光信号は前置増幅器３３．３４を介し
たのち差動増幅３５１Ｃ人力されてその差分が演算され
る。そして、この差分出力信号は指示器３９にて表示さ
れるとともｋ。
テーブル移動制御情報として前記チーチル移動装置に帰
遠される。
遠される。
このような構成の装置忙よれば、レーデ光の回折格子２
７ ａ ２ ＩＩによる＋１次方向および−ｎ次方向の
回折光の干渉光が、前記回折格子２１．２８のずれ忙相
当した強度の信号として光センサ３Ｊ、３２に受光され
ることは前記し念通りである。そして、その差分が差動
増幅器３５にて求められる。この際、同増幅器３５の差
動演九作用によって光センサ３１．３２に混大した外乱
光成分が相殺され、除去される。従りて外乱光忙よる悪
影響を除去することができる。しかるのち外乱光等の不
要成分が除去された差動増幅器３５からの差分信号は、
指示器３９に供給され、これ釦より前記回折格子２７．
２１１間の位置関係が示される。また上記差分信号値に
従って前記テーブル移動制御装ｅ２５はテーブル２２を
移動制御して、同信号値が零になるようにテーブル２２
の位置決めを行う。このとき、先に述べた如く各回折格
子２７．２８の相対位置は基準試料に対する試料２４の
ずれが００とき格子ピッチのＡだけずれた状態に設定さ
れているため、前記第４図忙示した差分信号の強度変化
特性から明らかなよつ忙、試料２４と基準試料との位置
ずれが正確に０にならない限り差分信号値は０にならな
い、したがって、この差分信号値がＯとなるように試料
２４の位置を設定すれば、極めて高精度の位置合せを行
な５ことができる。
７ ａ ２ ＩＩによる＋１次方向および−ｎ次方向の
回折光の干渉光が、前記回折格子２１．２８のずれ忙相
当した強度の信号として光センサ３Ｊ、３２に受光され
ることは前記し念通りである。そして、その差分が差動
増幅器３５にて求められる。この際、同増幅器３５の差
動演九作用によって光センサ３１．３２に混大した外乱
光成分が相殺され、除去される。従りて外乱光忙よる悪
影響を除去することができる。しかるのち外乱光等の不
要成分が除去された差動増幅器３５からの差分信号は、
指示器３９に供給され、これ釦より前記回折格子２７．
２１１間の位置関係が示される。また上記差分信号値に
従って前記テーブル移動制御装ｅ２５はテーブル２２を
移動制御して、同信号値が零になるようにテーブル２２
の位置決めを行う。このとき、先に述べた如く各回折格
子２７．２８の相対位置は基準試料に対する試料２４の
ずれが００とき格子ピッチのＡだけずれた状態に設定さ
れているため、前記第４図忙示した差分信号の強度変化
特性から明らかなよつ忙、試料２４と基準試料との位置
ずれが正確に０にならない限り差分信号値は０にならな
い、したがって、この差分信号値がＯとなるように試料
２４の位置を設定すれば、極めて高精度の位置合せを行
な５ことができる。
かくして本装置によれば、外乱光の影響を受けることが
なく、シかも格子ピッチが捧ずれたとき忙現れるシャー
プな差分信号の変化特性を使用することにより、簡単に
極めて高精度の位置合せを行なうことができるー なお、本発明は上記実施例忙限定されるものではない。
なく、シかも格子ピッチが捧ずれたとき忙現れるシャー
プな差分信号の変化特性を使用することにより、簡単に
極めて高精度の位置合せを行なうことができるー なお、本発明は上記実施例忙限定されるものではない。
例えば、上記実施例では±ｎｎ次回先光用いて位置合わ
せを行な５場合忙ついて示したが、±３次回折光を使用
して行なってもよく、またこれらを併用して例えば±１
次回折光忙て粗調整を行ない、しかるのち±３次回折光
にて微調整を行なうようにしてもよい、このようにすれ
ば、比較的短時間でより高精度の調驚を行なうことがで
きる。その他、可干渉光の種類や差分信号の信号処理方
法、各回折格子の設置手段等についても、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で種々変形して実施できる。
せを行な５場合忙ついて示したが、±３次回折光を使用
して行なってもよく、またこれらを併用して例えば±１
次回折光忙て粗調整を行ない、しかるのち±３次回折光
にて微調整を行なうようにしてもよい、このようにすれ
ば、比較的短時間でより高精度の調驚を行なうことがで
きる。その他、可干渉光の種類や差分信号の信号処理方
法、各回折格子の設置手段等についても、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で種々変形して実施できる。
以上詳述したよ５に本発明によれば、ｇｌおよび第２の
回折格子全、一対の位置合せ対象物間の位置すれが０の
状態で格子ピッチが相互に捧だけずれるように上記位置
合せ対象物忙それぞれ設け、この状態で上記各回折格子
による＋ｎ次方向の各回折光の干渉強度の差分を求めて
位置合せを行なうようにしたことによって、位置合せ毎
のバラツキが少なく常に高精度の位置合せを行ない得る
位置合せ装置を提供することができる。
回折格子全、一対の位置合せ対象物間の位置すれが０の
状態で格子ピッチが相互に捧だけずれるように上記位置
合せ対象物忙それぞれ設け、この状態で上記各回折格子
による＋ｎ次方向の各回折光の干渉強度の差分を求めて
位置合せを行なうようにしたことによって、位置合せ毎
のバラツキが少なく常に高精度の位置合せを行ない得る
位置合せ装置を提供することができる。
第１図および第２図はそれぞれ従来の位置合せ原理を説
明するための模式図、第３図は本発明の位置合せ原理を
説明するために模式図、第４図は回折格子のずれに対す
る検出強度の差分信号の変化特性を示す図、第５図は本
発明の一実施例に１？ける位置合せ装置の概略構成図、
第６図は同装置の要部構成図である。 １１．１２・・・回折格子、１３・・・レーデ光（可干
渉光）、７４，１５．１６・・・回折光（＋ｎ次方向）
、１７，１１１．１９−・・回折光（−ｎ次方向）、２
２−・・移動テーブル、２３・・・試料保持部、２７．
２８・・・回折格子、３０・・・レーデ装置、３１．３
２・・・光センサ、３５…差動増幅器。 ３９・・・指示器。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦（Ｊ）
ｔ。 第４図 ％ 第５図 Ｃソー 第６図
明するための模式図、第３図は本発明の位置合せ原理を
説明するために模式図、第４図は回折格子のずれに対す
る検出強度の差分信号の変化特性を示す図、第５図は本
発明の一実施例に１？ける位置合せ装置の概略構成図、
第６図は同装置の要部構成図である。 １１．１２・・・回折格子、１３・・・レーデ光（可干
渉光）、７４，１５．１６・・・回折光（＋ｎ次方向）
、１７，１１１．１９−・・回折光（−ｎ次方向）、２
２−・・移動テーブル、２３・・・試料保持部、２７．
２８・・・回折格子、３０・・・レーデ装置、３１．３
２・・・光センサ、３５…差動増幅器。 ３９・・・指示器。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦（Ｊ）
ｔ。 第４図 ％ 第５図 Ｃソー 第６図
Claims (1)
- 相互に対向して平行配置されかつ一対の位置合せ対象物
間の位置ずれが零の状態で相互の対向状態が格子ピッチ
の１／２だけずれるようにそれぞれ位置合せ対象物に設
けられた同一格子ピッチを有する第１および第２の回折
格子と、これら第１および第２の回折格子に可干渉光を
垂直に照射する光源と、前記第１の回折格子による回折
光および前記第２の回折格子による回折光による＋ｎ次
方向の干渉光強度と−ｎ次方向の干渉光強度の差分から
前記第１および第２の回折格子間の位置ずれを検知する
手段とを具備したことを特徴とする位置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16536685A JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16536685A JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1008079A Division JPS55101804A (en) | 1979-01-31 | 1979-01-31 | Positioning apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116605A true JPS61116605A (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0132441B2 JPH0132441B2 (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=15811001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16536685A Granted JPS61116605A (ja) | 1985-07-26 | 1985-07-26 | 位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116605A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744457U (ja) * | 1994-08-29 | 1995-11-21 | エヌティエヌ株式会社 | スライド装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332759A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method |
-
1985
- 1985-07-26 JP JP16536685A patent/JPS61116605A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332759A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744457U (ja) * | 1994-08-29 | 1995-11-21 | エヌティエヌ株式会社 | スライド装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0132441B2 (ja) | 1989-06-30 |
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