JPS6111226Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は絶縁物試料を照射するのに適したイオ
ンエツチング装置に関する。

イオンエツチング装置では、プラズマ中から負
の直流電圧が印加された引出し電極により正のイ
オンを引出し、該イオンをエツチングすべきター
ゲツト（即ち試料）に照射している。しかし、試
料が絶縁体の場合（例えば、ガラスを研磨する様
な場合）、正のイオンが絶縁体試料表面でチヤー
ジアツプする為、後続の正イオンが該絶縁体試料
表面近傍で反発し、結果的に試料にイオンが当り
にくくなり、エツチングに支障をきたす。

そこで、電子銃を新たに設け、該電子銃からの
電子ビームをチヤージアツプした絶縁体試料表面
に当て、試料表面を電気的に中和し、前記弊害を
避ける方法が考えられるが、操作が厄介となり、
又装置が大型複雑化し高価なものとなる。

本考案はこの様な点に鑑みてなされたもので、
絶縁体試料を照射するに適した新規なイオンエツ
チング装置を提供するものである。

添付図は本考案の一実施例を示したイオンエツ
チング装置の概略図である。図中１は真空容器
で、該容器の適宜な箇所にプラズマ発生室２が配
置されている。該プラズマ発生室の適宜な箇所に
ガス導入口３が設けられており、外部でガスボン
ベと接続されている。該プラズマ発生室内の中央
部よりやや下に円板状の陽極４が配置されてお
り、該陽極の支持棒５とプラズマ発生室の壁との
間に、直流電源７から正の直流電圧が印加されて
いる。尚、陽極４とプラズマ発生室の壁とは碍石
６によつて絶縁されている。８は前記プラズマ発
生室２の底面の中央部に設けられた孔である。９
は前記孔８の近傍に生じるイオン又は電子を試料
１０方向に引き出す為の引出し電極で、該電極９
と前記プラズマ発生室の壁との間には、交流電源
１１から交流電圧が印加されている。１２は試料
載置台でアースされている。

斯くの如き装置によつてガラスの如き絶縁体試
料をエツチングする場合について以下に説明す
る。

先ず、真空容器１内を外部のガスボンベ及び排
気手段（図示せず）により、所定の気圧のガス雰
囲気となし、電源７，１１をオンの状態にする。
すると、陽極４とプラズマ発生室２の壁の底面
（ここを陰極と称す。）との間に電界が生じ、該両
電極に放電が起こり、該両電極間及び孔８の近傍
にプラズマが発生する。而して、引出し電極９と
陰極間に印加される交流電源１１からの交流電圧
が、負の周期の時、前記プラズマ中の正イオンが
引き出され試料１０へ当り、正の周期の時、負イ
オンと電子が引き出され試料を照射する。従つ
て、たとえ、正のイオンが試料表面でチヤージア
ツプしても、電子及び負イオンによつて電気的に
中和され、試料表面に正イオンが当りやすくな
る。又、試料表面には負イオンも当り、エツチン
グに寄与する。

本考案によれば、簡単で安価な手段を具備する
ことにより、試料表面のチヤージアツプ現象を取
り除くことが出来る。又、正負イオンがエツチン
グに寄与するので、活発なエツチング反応を行な
うことが出来る。

尚、前記引出し電極に交流電圧又は正の直流電
圧を選択的に印加出来るようになし、試料が絶縁
体の場合に前者を印加するようになし、試料が絶
縁体以外の場合には後者を印加するようになせ
ば、装置としての使用範囲が拡大される。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本考案の一実施例を示したイオンエ
ツチング装置の概略図である。 １……真空容器、２……プラズマ発生室、４…
…陽極、８……孔、９……引出し電極、１０……
試料、１１……交流電源。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. プラズマ中から引出し電極によりイオンを引出
   し、該イオンを試料に照射して試料表面をエツチ
   ングするようにした装置において、前記引出し電
   極に交流電圧を印加したことを特徴とするイオン
   エツチング装置。