JPS61111444A - 化学分析装置 - Google Patents
化学分析装置Info
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- JPS61111444A JPS61111444A JP23251184A JP23251184A JPS61111444A JP S61111444 A JPS61111444 A JP S61111444A JP 23251184 A JP23251184 A JP 23251184A JP 23251184 A JP23251184 A JP 23251184A JP S61111444 A JPS61111444 A JP S61111444A
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- Japan
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- cuvettes
- cuvette
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- steps
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/02—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
- G01N35/025—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations having a carousel or turntable for reaction cells or cuvettes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は化学分析装置に関するものである。
（従来技術）
従来の化学分析装置として、例えば特開昭５８−１１３
７３７号公報に記載されているものがある。この化学分
析装置は、同一円周上に沿って装填した複数の反応容器
を具えるターンテーブルを、ある点を反応容器の全数よ
り一つ多い数の反応容器が通過するに必要な角度だけ順
次回転させ、その順次の回転周期の間で、実際にターン
テーブルが回転している期間に所定の位置に配置した光
度計を通過する反応容器内の反応液の吸光度を順次測定
し、ターンテーブルの停止期間においてそれぞれ所定の
位置にある反応容器に対してサンプルおよび第１の反応
試薬の分注、第２の反応試薬の分注、反応容器内の液体
の排出および洗浄液の分注動作を行なうようにしている
。
７３７号公報に記載されているものがある。この化学分
析装置は、同一円周上に沿って装填した複数の反応容器
を具えるターンテーブルを、ある点を反応容器の全数よ
り一つ多い数の反応容器が通過するに必要な角度だけ順
次回転させ、その順次の回転周期の間で、実際にターン
テーブルが回転している期間に所定の位置に配置した光
度計を通過する反応容器内の反応液の吸光度を順次測定
し、ターンテーブルの停止期間においてそれぞれ所定の
位置にある反応容器に対してサンプルおよび第１の反応
試薬の分注、第２の反応試薬の分注、反応容器内の液体
の排出および洗浄液の分注動作を行なうようにしている
。
しかし、かかる化学分析装置においては、順次の動作周
期においてターンテーブルを一回転と反応容器−個分回
転させるため、個々の反応容器に対してはその停止位置
が順次の動作周期において一個ずつずれることになる。
期においてターンテーブルを一回転と反応容器−個分回
転させるため、個々の反応容器に対してはその停止位置
が順次の動作周期において一個ずつずれることになる。
このため、サンプルおよび第１の反応試薬の分注位置、
第２の反応試薬の分注位置、排出位置、洗浄位置等を分
析操作に従ってターンテーブルの円周に沿って順次膜け
なければならず、したがって所要の操作を行なうための
各種機器の配置の自由度が制限される不具合がある。
第２の反応試薬の分注位置、排出位置、洗浄位置等を分
析操作に従ってターンテーブルの円周に沿って順次膜け
なければならず、したがって所要の操作を行なうための
各種機器の配置の自由度が制限される不具合がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、上述した不具合を解決し、分析操作を
行なうための各種機器を比較的自由に配置できるよう適
切に構成した化学分析装置を提供しようとするものであ
る。
行なうための各種機器を比較的自由に配置できるよう適
切に構成した化学分析装置を提供しようとするものであ
る。
（発明の概要）
本発明の化学分析装置は、公約数が１以外に存在しない
正の整数をＮ、 ｎ （Ｎ＞ｎ ）として、エンドレ
スの反応ラインに沿って複数Ｎ個のキュベツトを装填し
、各動作周期内で所定の位置にある１ ′″１″°
６′″′″″Ｌ、 Ｔ ？ ＞ ’７ ／Ｌ＝ ｅ ｕ
・“ゝ”１０行なうと共に、順次の動作周期でキュベツ
トがｎステップずれるように、各動作周期内でキュベツ
トを複数回移送して所定の測光位置で複数のキュベツト
を順次静止状態で一回測光して、前記動作周期を繰返し
行なうことにより全てのキュベツトの各々に対して複数
回の測光を行なうよう構成したことを特徴とするもので
ある。
正の整数をＮ、 ｎ （Ｎ＞ｎ ）として、エンドレ
スの反応ラインに沿って複数Ｎ個のキュベツトを装填し
、各動作周期内で所定の位置にある１ ′″１″°
６′″′″″Ｌ、 Ｔ ？ ＞ ’７ ／Ｌ＝ ｅ ｕ
・“ゝ”１０行なうと共に、順次の動作周期でキュベツ
トがｎステップずれるように、各動作周期内でキュベツ
トを複数回移送して所定の測光位置で複数のキュベツト
を順次静止状態で一回測光して、前記動作周期を繰返し
行なうことにより全てのキュベツトの各々に対して複数
回の測光を行なうよう構成したことを特徴とするもので
ある。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例を示すものである。
本例では、正逆方向に回転可能なターンテーブル１に４
１個のキュベツト２−１〜２−４１を同一円周上に沿っ
て等間隔に装填し、各動作周期内で所定の位置にあるキ
ュベツトに対してサンプル分注、試薬分注等を行なうと
共に、順次の動作周期でキュベツトが８ステツプずれる
ように、各動作周期内でキュベツトを８回移送して所定
の測光位置で８個のキュベツトを順次静止状態で一回測
光して、その動作周期を繰返し行なうことにより全ての
キュベツトの各々に対して８回の測光を行なって各キュ
ベツトに分注したサンプルをレイトアッセイあるいはエ
ンドポイントアッセイにより分析する。
１個のキュベツト２−１〜２−４１を同一円周上に沿っ
て等間隔に装填し、各動作周期内で所定の位置にあるキ
ュベツトに対してサンプル分注、試薬分注等を行なうと
共に、順次の動作周期でキュベツトが８ステツプずれる
ように、各動作周期内でキュベツトを８回移送して所定
の測光位置で８個のキュベツトを順次静止状態で一回測
光して、その動作周期を繰返し行なうことにより全ての
キュベツトの各々に対して８回の測光を行なって各キュ
ベツトに分注したサンプルをレイトアッセイあるいはエ
ンドポイントアッセイにより分析する。
各キュベツトに対する分析操作は、先ず分析項目に応じ
た第１の反応試薬（Ｒ１）を注入した後これを攪拌して
から分析項目に応じたフィルタを選択して第１回目の測
光を行ない、次にサンプル（Ｓ）を注入した後これを攪
拌し、その後分析項目に応じた第２の反応試薬（Ｒ２）
を注入した後これを攪拌してから分析項目に応じたフィ
ルタを選択して第２回目〜第８回目の測光を行ない、第
８回目の測光が終了した後はキュベツト内の反応液を廃
液してから洗浄液を注入し、その後これを吸引した後乾
燥を行なって次のサンプルの分析にそなえる。
た第１の反応試薬（Ｒ１）を注入した後これを攪拌して
から分析項目に応じたフィルタを選択して第１回目の測
光を行ない、次にサンプル（Ｓ）を注入した後これを攪
拌し、その後分析項目に応じた第２の反応試薬（Ｒ２）
を注入した後これを攪拌してから分析項目に応じたフィ
ルタを選択して第２回目〜第８回目の測光を行ない、第
８回目の測光が終了した後はキュベツト内の反応液を廃
液してから洗浄液を注入し、その後これを吸引した後乾
燥を行なって次のサンプルの分析にそなえる。
本例では、第１図に示すターンテーブル１の停止状態下
において、キュベツト２−１が位置するステーションで
Ｒ１を注入し、キュベツト２−３が位置するステーショ
ンで反応液を廃液し、キュベツト２−６が位置するステ
ーションでＲ２を攪拌し、キュベツト２−８が位置する
ステーションでＳを攪拌し、キュベツト２−９が位置す
るステーションでＲ１を攪拌し、キュベツト２−１１が
位置するステーションで洗浄液を注入し、キュベツト２
−１７が位置するステーションで分析項目に応じたフィ
ルタを選択してキュベツトを通して測光を行ない、キュ
ベツト２−１９が位置するステーションでキュベツト内
の洗浄液を吸引し、キュベツト２−２５が位置するステ
ーションでＳを注入し、キュベツト２−２７が位置する
ステーションでキュベツトを乾燥し、キュベツト２−３
９が位置するステーションでＲ２を注入する。これらの
各操作は、各動作周期においてターンテーブル１が停止
している状態で、各ステーションに位置するキュベツト
に対して行なう。各動作周期は、例えば第２図に示すよ
うに２０秒とし、０〜４秒の間にＲ１注入、廃液、Ｒ２
攪拌、Ｓ攪拌、Ｒｕｔ拌、洗浄液注入、洗浄液吸引、Ｓ
注入、乾燥、Ｒ２注大の所要の操作を行ない、その後タ
ーンテーブル１を時計方向に４ステツプ、１ステツプ、
６ステツプ、９ステツプ、１ステツプ、９ステツプ、６
ステツプ順次回動させた後、反時計方向に３ステツプ回
動させて、その順次の回動後において測光ステーション
に位置するキュベツトを測光し、その最後の測光終了後
におけるターンテーブル１の停止状態を次の動作周期の
開始状態とする。なお、各動作周期において１ステツプ
の回動は例えば０．３秒で行ない、各回の測光は０．５
秒で行なう。
において、キュベツト２−１が位置するステーションで
Ｒ１を注入し、キュベツト２−３が位置するステーショ
ンで反応液を廃液し、キュベツト２−６が位置するステ
ーションでＲ２を攪拌し、キュベツト２−８が位置する
ステーションでＳを攪拌し、キュベツト２−９が位置す
るステーションでＲ１を攪拌し、キュベツト２−１１が
位置するステーションで洗浄液を注入し、キュベツト２
−１７が位置するステーションで分析項目に応じたフィ
ルタを選択してキュベツトを通して測光を行ない、キュ
ベツト２−１９が位置するステーションでキュベツト内
の洗浄液を吸引し、キュベツト２−２５が位置するステ
ーションでＳを注入し、キュベツト２−２７が位置する
ステーションでキュベツトを乾燥し、キュベツト２−３
９が位置するステーションでＲ２を注入する。これらの
各操作は、各動作周期においてターンテーブル１が停止
している状態で、各ステーションに位置するキュベツト
に対して行なう。各動作周期は、例えば第２図に示すよ
うに２０秒とし、０〜４秒の間にＲ１注入、廃液、Ｒ２
攪拌、Ｓ攪拌、Ｒｕｔ拌、洗浄液注入、洗浄液吸引、Ｓ
注入、乾燥、Ｒ２注大の所要の操作を行ない、その後タ
ーンテーブル１を時計方向に４ステツプ、１ステツプ、
６ステツプ、９ステツプ、１ステツプ、９ステツプ、６
ステツプ順次回動させた後、反時計方向に３ステツプ回
動させて、その順次の回動後において測光ステーション
に位置するキュベツトを測光し、その最後の測光終了後
におけるターンテーブル１の停止状態を次の動作周期の
開始状態とする。なお、各動作周期において１ステツプ
の回動は例えば０．３秒で行ない、各回の測光は０．５
秒で行なう。
次に、本実施例の動作を説明する。第１図に示すターン
テーブル１の停止状態で、キュベツト２−１に対しては
分析項目に応じたＲ１を注入し、キュベツト２−３に対
しては収容されている反応液を廃液し、キュベツト２−
６に対しては前回の動作周期において注入されたＲ２を
攪拌し、キュベツト２−８に対しては先に注入されたＳ
を攪拌し、キュベツト２−９に対しては前回の動作周期
において注入されたＲ１を攪拌し、キュベツト２−１１
に対しては洗浄液を注入し、キュベツト２−１９に対し
ては前回の動作周期において注入された洗浄液を吸引し
、キュベツト２−２５に対してはＳを注入し、キュベラ
ｌ−２−２７に対してはキュベラ１ “ｏｉ＊ｔ“”
２°゛１“６′“ｐ−３９１，、］Ｌｒ°“収容されて
いるＳの分析項目に応じたＲ２を注入する。これらの所
要の操作を行なった後、所定のタイミングでターンテー
ブル１を時計方向に４ステツプ回動じてキュベツト２−
２１を静止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動して
キュベツト２−２２を静止状態で測光し、次に更に６ス
テツプ回動じてキュベツト２−２８を静止状態で測光し
、次に更に９ステツプ回動じてキュベツト２−３７を静
止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動してキュベツ
ト２−３８を静止状態で測光し、次に更に９ステツプ回
動じてＲ２の攪拌操作を行なったキュベツト２−６を静
止状態で測光し、次に更に６ステツプ回動じてキュベツ
ト２−１２を静止状態で測光し、その後ターンテーブル
１を反時計方向に３ステツプ回動してＲ１の攪拌操作を
行なったキュベツト２−９を静止状−で測光する。なお
、各キュベツトの測光はそれぞれ分析項目に応じて所要
のフィルタを選択して行なう。キュベツト２−９が測光
位置にある状態は、当該動作周期の開始状態からターン
テーブル１が時計方向に３３ステツプ、すなわち反時計
方向に８ステツプずれた状態であり、この状態を次の動
作周期の開始状態として同様の操作を行なう。
テーブル１の停止状態で、キュベツト２−１に対しては
分析項目に応じたＲ１を注入し、キュベツト２−３に対
しては収容されている反応液を廃液し、キュベツト２−
６に対しては前回の動作周期において注入されたＲ２を
攪拌し、キュベツト２−８に対しては先に注入されたＳ
を攪拌し、キュベツト２−９に対しては前回の動作周期
において注入されたＲ１を攪拌し、キュベツト２−１１
に対しては洗浄液を注入し、キュベツト２−１９に対し
ては前回の動作周期において注入された洗浄液を吸引し
、キュベツト２−２５に対してはＳを注入し、キュベラ
ｌ−２−２７に対してはキュベラ１ “ｏｉ＊ｔ“”
２°゛１“６′“ｐ−３９１，、］Ｌｒ°“収容されて
いるＳの分析項目に応じたＲ２を注入する。これらの所
要の操作を行なった後、所定のタイミングでターンテー
ブル１を時計方向に４ステツプ回動じてキュベツト２−
２１を静止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動して
キュベツト２−２２を静止状態で測光し、次に更に６ス
テツプ回動じてキュベツト２−２８を静止状態で測光し
、次に更に９ステツプ回動じてキュベツト２−３７を静
止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動してキュベツ
ト２−３８を静止状態で測光し、次に更に９ステツプ回
動じてＲ２の攪拌操作を行なったキュベツト２−６を静
止状態で測光し、次に更に６ステツプ回動じてキュベツ
ト２−１２を静止状態で測光し、その後ターンテーブル
１を反時計方向に３ステツプ回動してＲ１の攪拌操作を
行なったキュベツト２−９を静止状−で測光する。なお
、各キュベツトの測光はそれぞれ分析項目に応じて所要
のフィルタを選択して行なう。キュベツト２−９が測光
位置にある状態は、当該動作周期の開始状態からターン
テーブル１が時計方向に３３ステツプ、すなわち反時計
方向に８ステツプずれた状態であり、この状態を次の動
作周期の開始状態として同様の操作を行なう。
すなわち、次の動作周期においては、先ずターンテーブ
ル１の停止状態下で、キュベツト２−３４に対して分析
項目に応じたＲ１を注入し、キュベツト２−３６に対し
ては収容されている反応液を廃液し、キュベツト２−３
９に対しては前回の動作周期において注入されたＲ２を
攪拌し、キュベツト２−４１に対しては先に注入された
Ｓを攪拌し、キュベツト２−１に対しては前回の動作周
期において注入されたＲ１を攪拌し、キュベツト２−３
に対しては洗浄液を注入し、キュベツト２−１１に対し
ては前回の動作周期において注入された洗浄液を吸引し
、キュベツト２−１７に対してはＳを注入し、キュベツ
ト２−１９に対してはキュベツトの乾燥を行ない、キュ
ベツト２−３１に対しては収容されているＳの分析項目
に応じたＲ２を注入する。
ル１の停止状態下で、キュベツト２−３４に対して分析
項目に応じたＲ１を注入し、キュベツト２−３６に対し
ては収容されている反応液を廃液し、キュベツト２−３
９に対しては前回の動作周期において注入されたＲ２を
攪拌し、キュベツト２−４１に対しては先に注入された
Ｓを攪拌し、キュベツト２−１に対しては前回の動作周
期において注入されたＲ１を攪拌し、キュベツト２−３
に対しては洗浄液を注入し、キュベツト２−１１に対し
ては前回の動作周期において注入された洗浄液を吸引し
、キュベツト２−１７に対してはＳを注入し、キュベツ
ト２−１９に対してはキュベツトの乾燥を行ない、キュ
ベツト２−３１に対しては収容されているＳの分析項目
に応じたＲ２を注入する。
これらの所要の操作を行なった後、所定のタイミングで
ターンテーブル１を時計方向に４ステツプ回動じてキュ
ベツト２−１３を静止状態で測光し、次に更に１ステツ
プ回動してキュベツト２−１４を静止状態で測光し、次
に更に６ステツプ回動してキュベツト２−２０を静止状
態で測光し、次に更に９ステツプ回動してキュベツト２
−２９を静止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動じ
てキュベツト２−３０を静止状態で測光し、次に更に９
ステツプ回動してＲ２の攪拌操作を行なったキ・ユベッ
ト２−３９を静止状態で測光し、次に更に６ステツプ回
動してキュベツト２−４を静止状態で測光し、その後タ
ーンテーブル１を反時計方向に３ステツプ回動じてＲ１
の攪拌操作を行なったキュベツト２−１を静止状態で測
光する。なお、各キュベツトの測光は同様に分析項目に
応じたフィルタを選択して行なう。以下、同様にして最
後の測光を行なった状態を次の動作周期の開始状態とし
て同様の動作を行なう。この順次の動作周期において各
キュベツトに対して行なわれる操作の内容を下表に示す
。なお、下表においてＡはＲ１注入、ＢはＲ１＠拌、Ｃ
はＳ注入、ＤはＳ攪拌、ＥはＲ２注入、ＦはＲ２攪伴、
Ｇは廃液、Ｈは洗浄液注入、■は洗浄液吸引、Ｊは乾燥
の各操作をそれぞれ表わすと共に、Ｋは測光操作を表わ
し、Ｋの後の番号は各動作周期内での測光順番を示す。
ターンテーブル１を時計方向に４ステツプ回動じてキュ
ベツト２−１３を静止状態で測光し、次に更に１ステツ
プ回動してキュベツト２−１４を静止状態で測光し、次
に更に６ステツプ回動してキュベツト２−２０を静止状
態で測光し、次に更に９ステツプ回動してキュベツト２
−２９を静止状態で測光し、次に更に１ステツプ回動じ
てキュベツト２−３０を静止状態で測光し、次に更に９
ステツプ回動してＲ２の攪拌操作を行なったキ・ユベッ
ト２−３９を静止状態で測光し、次に更に６ステツプ回
動してキュベツト２−４を静止状態で測光し、その後タ
ーンテーブル１を反時計方向に３ステツプ回動じてＲ１
の攪拌操作を行なったキュベツト２−１を静止状態で測
光する。なお、各キュベツトの測光は同様に分析項目に
応じたフィルタを選択して行なう。以下、同様にして最
後の測光を行なった状態を次の動作周期の開始状態とし
て同様の動作を行なう。この順次の動作周期において各
キュベツトに対して行なわれる操作の内容を下表に示す
。なお、下表においてＡはＲ１注入、ＢはＲ１＠拌、Ｃ
はＳ注入、ＤはＳ攪拌、ＥはＲ２注入、ＦはＲ２攪伴、
Ｇは廃液、Ｈは洗浄液注入、■は洗浄液吸引、Ｊは乾燥
の各操作をそれぞれ表わすと共に、Ｋは測光操作を表わ
し、Ｋの後の番号は各動作周期内での測光順番を示す。
上表から明らかなように、各キュベツトは４２動作周期
目で最初の動作周期と同じになり、その操作内容はＲ１
１回後、次の動作周期でＲ１の攪拌が行なわれると共に
第１回目の測光が行なわれ、その後２動作周期目でＳが
注入され、その後３動作周期目でＳが攪拌され、その後
９動作周期目でＲ２が注入され、その次の動作周期でＲ
２の攪拌が行なわれると共に第２回目の測光が行なわれ
、その後２動作周期目で第３回目の測光が行なわれ、そ
の後２動作周期目で第４回目の測光が行なわれ、その後
３動作周期目で第５回目の測光で行なわれ、その後２動
作周期目毎に第６回目、第７回目、第８回目の測光が行
なわれ、この第８回目の測光後の２動作周期目以降の順
次の動作周期で廃液、洗浄液注入、洗浄液吸引、乾燥が
行なわれ、この乾燥操作の終了後７動作周期目で再びＲ
１が注入されて次のサンプルに対する分析操作が開始さ
れる。
目で最初の動作周期と同じになり、その操作内容はＲ１
１回後、次の動作周期でＲ１の攪拌が行なわれると共に
第１回目の測光が行なわれ、その後２動作周期目でＳが
注入され、その後３動作周期目でＳが攪拌され、その後
９動作周期目でＲ２が注入され、その次の動作周期でＲ
２の攪拌が行なわれると共に第２回目の測光が行なわれ
、その後２動作周期目で第３回目の測光が行なわれ、そ
の後２動作周期目で第４回目の測光が行なわれ、その後
３動作周期目で第５回目の測光で行なわれ、その後２動
作周期目毎に第６回目、第７回目、第８回目の測光が行
なわれ、この第８回目の測光後の２動作周期目以降の順
次の動作周期で廃液、洗浄液注入、洗浄液吸引、乾燥が
行なわれ、この乾燥操作の終了後７動作周期目で再びＲ
１が注入されて次のサンプルに対する分析操作が開始さ
れる。
！ なお、各動作周期内での各分析操作は、所要の
操作が行なわれたキュベツトに対して行なうようにする
。すなわち、Ｒ１の注入は洗浄乾燥の終了したキュベツ
トに対して行ない、廃液は８回の測光が終了したキュベ
・シトに対して行ない、Ｒ２′Ｗ１痒はＲ１、Ｓおよび
Ｒ２が注入されたキュベツトに対して行ない、ＳＷ＆拌
はＲ１およびＳが注入されたキュベツトに対して行ない
、Ｒ１攪拌はＲ１が注入されたキュベツトに対して行な
い、洗浄液注入は廃液が行なわれたキュベツトに対して
行ない、測光はＲ１が注入されたキュベツトおよびＲ１
、ＳおよびＲ２が注入されたキュベツトに対して分析項
目に応じたフィルタを選択して行ない、洗浄液吸引は洗
浄液が注入されたキュベツトに対して行ない、Ｓ注入は
Ｒ１が注入されたキュベツトに対して行ない、乾燥は洗
浄液が吸引されたキュベツトに対して行ない、またＲ２
注入はＲ１およびＳが注入されたキュベツトに対して行
なう。
操作が行なわれたキュベツトに対して行なうようにする
。すなわち、Ｒ１の注入は洗浄乾燥の終了したキュベツ
トに対して行ない、廃液は８回の測光が終了したキュベ
・シトに対して行ない、Ｒ２′Ｗ１痒はＲ１、Ｓおよび
Ｒ２が注入されたキュベツトに対して行ない、ＳＷ＆拌
はＲ１およびＳが注入されたキュベツトに対して行ない
、Ｒ１攪拌はＲ１が注入されたキュベツトに対して行な
い、洗浄液注入は廃液が行なわれたキュベツトに対して
行ない、測光はＲ１が注入されたキュベツトおよびＲ１
、ＳおよびＲ２が注入されたキュベツトに対して分析項
目に応じたフィルタを選択して行ない、洗浄液吸引は洗
浄液が注入されたキュベツトに対して行ない、Ｓ注入は
Ｒ１が注入されたキュベツトに対して行ない、乾燥は洗
浄液が吸引されたキュベツトに対して行ない、またＲ２
注入はＲ１およびＳが注入されたキュベツトに対して行
なう。
第１図から明らかなように、本実施例によれば、Ｒ１お
よびＲ２の分注、攪拌位置が時間的には距離が遠いにも
かかわらず、これらの位置を比較的接近して設けること
ができ、したがってそれらの機器の配置の自由度が増し
、装置全体の小形化に有利である。また、シーケンシャ
ルマルチ方式としたから、一つのサンプルについて多項
目の分析を同時に行なうことができると共に、各分析項
目において８個の測光値が得られるマルチポイント方式
であるから、レイトアッセイあるいはエンドポイントア
ッセイによる分析を高精度で行なうことができる。
よびＲ２の分注、攪拌位置が時間的には距離が遠いにも
かかわらず、これらの位置を比較的接近して設けること
ができ、したがってそれらの機器の配置の自由度が増し
、装置全体の小形化に有利である。また、シーケンシャ
ルマルチ方式としたから、一つのサンプルについて多項
目の分析を同時に行なうことができると共に、各分析項
目において８個の測光値が得られるマルチポイント方式
であるから、レイトアッセイあるいはエンドポイントア
ッセイによる分析を高精度で行なうことができる。
なお、本発明は上述した例にのみ限定されるものではな
く、幾多の変形または変更が可能である。
く、幾多の変形または変更が可能である。
例えば複数のキュベツトはスネークチェーン等に保持し
て所定の位置を経て搬送するようにしてもよい。また、
各キュベツトは所要の測光終了後廃棄し、所定の位置に
おいて新たなキュベツトを装填するようにしてキュベツ
トの洗浄、乾燥操作を除くこともできる。更に、上述し
た実施例において、各動作周期における８回目の測光は
次の動作周期で行なうこともできる。また、キュベツト
総数は４１個に限らず、任意の複数個とすることができ
る。更に、Ｒ１１ｌ拌、Ｓ攪拌およびＲ２攪拌は、Ｒ１
注入、Ｓ注入およびＲ２注入の勢いによって行なうよう
にして、それらの攪拌位置を除くこともできる。
て所定の位置を経て搬送するようにしてもよい。また、
各キュベツトは所要の測光終了後廃棄し、所定の位置に
おいて新たなキュベツトを装填するようにしてキュベツ
トの洗浄、乾燥操作を除くこともできる。更に、上述し
た実施例において、各動作周期における８回目の測光は
次の動作周期で行なうこともできる。また、キュベツト
総数は４１個に限らず、任意の複数個とすることができ
る。更に、Ｒ１１ｌ拌、Ｓ攪拌およびＲ２攪拌は、Ｒ１
注入、Ｓ注入およびＲ２注入の勢いによって行なうよう
にして、それらの攪拌位置を除くこともできる。
（発明の効果）
以上述べたように、本発明によればエンドレスの反応ラ
インに装填するキュベツト総数Ｎと、順次の動作周期で
キュベツトがずれるステップ数０とを、それらの公約数
が１以外に存在しない正の整数とすることにより、各キ
ュベツトの所定の測光位置での複数回の測光操作を含む
分析操作を行なうための各種ｔａ器を比較的自由に配置
でき、したがって装置の小形化が図れる。
インに装填するキュベツト総数Ｎと、順次の動作周期で
キュベツトがずれるステップ数０とを、それらの公約数
が１以外に存在しない正の整数とすることにより、各キ
ュベツトの所定の測光位置での複数回の測光操作を含む
分析操作を行なうための各種ｔａ器を比較的自由に配置
でき、したがって装置の小形化が図れる。
第１図は本発明の一実施例を示す図、
第２図はその一動作周期の分析操作を示す図である。
１・・・ターンテーブル
Claims (1)
- １、公約数が１以外に存在しない正の整数をＮ、ｎ（Ｎ
＞ｎ）として、エンドレスの反応ラインに沿って複数Ｎ
個のキュベットを装填し、各動作周期内で所定の位置に
あるキュベットに対してサンプル分注、試薬分注等を行
なうと共に、順次の動作周期でキュベットがｎステップ
ずれるように、各動作周期内でキュベットを複数回移送
して所定の測光位置で複数のキュベットを順次静止状態
で一回測光して、前記動作周期を繰返し行なうことによ
り全てのキュベットの各々に対して複数回の測光を行な
うよう構成したことを特徴とする化学分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23251184A JPS61111444A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 化学分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23251184A JPS61111444A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 化学分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111444A true JPS61111444A (ja) | 1986-05-29 |
Family
ID=16940476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23251184A Pending JPS61111444A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 化学分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61111444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1329264A2 (de) * | 1998-04-09 | 2003-07-23 | Ilmberger Maschinen- und Zahnradfabrik GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung, insbesondere Beschichtung, von Werkstücken |
| JP2019070553A (ja) * | 2017-10-06 | 2019-05-09 | 日本電子株式会社 | 自動分析装置及び動作量補正方法 |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP23251184A patent/JPS61111444A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1329264A2 (de) * | 1998-04-09 | 2003-07-23 | Ilmberger Maschinen- und Zahnradfabrik GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung, insbesondere Beschichtung, von Werkstücken |
| EP1329264A3 (de) * | 1998-04-09 | 2004-03-10 | Ilmberger Maschinen- und Zahnradfabrik GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung, insbesondere Beschichtung, von Werkstücken |
| JP2019070553A (ja) * | 2017-10-06 | 2019-05-09 | 日本電子株式会社 | 自動分析装置及び動作量補正方法 |
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