JPS61109772A - １，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの製造方法 - Google Patents
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの製造方法Info
- Publication number
- JPS61109772A JPS61109772A JP59228859A JP22885984A JPS61109772A JP S61109772 A JPS61109772 A JP S61109772A JP 59228859 A JP59228859 A JP 59228859A JP 22885984 A JP22885984 A JP 22885984A JP S61109772 A JPS61109772 A JP S61109772A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の
本発明は、１．３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの
製造方法に関する。詳しくはＮ、「−ジメチルエチレン
ジアミンとホスゲンを反応させて１．３−ジメチル−２
−イミダゾリジノンを得るに際し、水及び脱塩酸剤の存
在下に反応させることを特徴とする１、３−ジメチル−
２−イミダゾリジノンの改良された製造方法に関する。
製造方法に関する。詳しくはＮ、「−ジメチルエチレン
ジアミンとホスゲンを反応させて１．３−ジメチル−２
−イミダゾリジノンを得るに際し、水及び脱塩酸剤の存
在下に反応させることを特徴とする１、３−ジメチル−
２−イミダゾリジノンの改良された製造方法に関する。
ｌ、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（以下ＤＭＩ
と略称）は極性非プロトン溶媒として有用な物質である
。とくにポリアミド類、ポリ塩化ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹
脂などの高分子化合物に侵れた溶媒であり、また無機塩
類の多（のちのと錯塩を形成して溶解し、多くの有機反
応の溶媒としても用いられる有用な物質である。
と略称）は極性非プロトン溶媒として有用な物質である
。とくにポリアミド類、ポリ塩化ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹
脂などの高分子化合物に侵れた溶媒であり、また無機塩
類の多（のちのと錯塩を形成して溶解し、多くの有機反
応の溶媒としても用いられる有用な物質である。
１１区）１１１１１？
ＤＭＩの製造方法は多数提案されている。例えばエチレ
ンジアミンと尿素を反応後、ホルマリンを付加させた反
応生成物をトリクロロ酢酸、ギ酸などで還元する方法、
また、これらの還元方法を改良して貴金属触媒を使用し
酸性下に水素添加する方法が提案されている。
ンジアミンと尿素を反応後、ホルマリンを付加させた反
応生成物をトリクロロ酢酸、ギ酸などで還元する方法、
また、これらの還元方法を改良して貴金属触媒を使用し
酸性下に水素添加する方法が提案されている。
さらにＮ、 Ｎ’−ジメチルエチレンジアミンとホスゲ
ンを反応させるＤＭＩの製造方法も既に知られている。
ンを反応させるＤＭＩの製造方法も既に知られている。
ジャーナル ケミカルソサイアテイ−（Ｊ。
Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、 １９４７３（＋７ ）、が、
収率は２．０％未満に過ぎない。またこれと類似な技術
として、ホスゲン誘導体であるトリクロロメチルクロロ
ホーメートをホスゲンの替りに使用して、トルエン等有
機溶媒中、脱塩酸剤及び触媒の存在下で反応させること
により収率７０チ以上でＤＭＩを製造する方法（特開昭
５３−７３５６１号公報）も提案されている。
収率は２．０％未満に過ぎない。またこれと類似な技術
として、ホスゲン誘導体であるトリクロロメチルクロロ
ホーメートをホスゲンの替りに使用して、トルエン等有
機溶媒中、脱塩酸剤及び触媒の存在下で反応させること
により収率７０チ以上でＤＭＩを製造する方法（特開昭
５３−７３５６１号公報）も提案されている。
発明が しよ と る。超克
Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレンジアミンとホスゲンとを反
応させてＤＭＩを製造する方法はこのように公知である
が、収率が極めて低く工業的方法とし℃は満足できるも
のではなかった。この為の改良法として、前記のように
ホスゲンの替りにトリクロロメチルクロロホーメートを
反応時反応系内で触媒によってホスゲンに分解しながら
反応させる方法が提案されている。しかしながら該公報
方法はわざわざホスゲン２量体であるトリクロロメチル
クロロホーメートをつくり、ＤＭＩ製造時には再びホス
ゲンに分解して使用すると言った廻りくどい方法であり
、直接ホスゲンと反応させて高収率で得ることができる
なら、より安価な工業的製造方法であることは明白であ
る。
応させてＤＭＩを製造する方法はこのように公知である
が、収率が極めて低く工業的方法とし℃は満足できるも
のではなかった。この為の改良法として、前記のように
ホスゲンの替りにトリクロロメチルクロロホーメートを
反応時反応系内で触媒によってホスゲンに分解しながら
反応させる方法が提案されている。しかしながら該公報
方法はわざわざホスゲン２量体であるトリクロロメチル
クロロホーメートをつくり、ＤＭＩ製造時には再びホス
ゲンに分解して使用すると言った廻りくどい方法であり
、直接ホスゲンと反応させて高収率で得ることができる
なら、より安価な工業的製造方法であることは明白であ
る。
問題を解決するための手段
本発明者等は、ホスゲンとＮ、Ｎ’−ジメチルエチレン
ジアミンとを反応させより安価に、且つ、高収率でＤＭ
Ｉを得る工業的製造方法につき鋭意検討した結果、水及
び脱塩酸剤の存在下に反応させることによりその目的が
達せられることを見出し本発明を完成した。
ジアミンとを反応させより安価に、且つ、高収率でＤＭ
Ｉを得る工業的製造方法につき鋭意検討した結果、水及
び脱塩酸剤の存在下に反応させることによりその目的が
達せられることを見出し本発明を完成した。
通常、ホスゲンを使用する反応は極力水の存在しない条
件下に実施され、さらにホスゲンはアルカリ性水溶液中
にて容易に加水分解されることが知られており、本発明
方法では大過剰量のホスゲンが必要となるであろうこと
が予想された。しかし意外にも１本発明方法においては
、ホスゲンはその化学量論量の１．１〜１．５倍で充分
であることが判明した。且つ、水及び脱塩酸剤を存在さ
せておくことにより、ＤＭＩの収率は従来知られていた
２０％未満から７０チ以上と飛躍的に向上した。
件下に実施され、さらにホスゲンはアルカリ性水溶液中
にて容易に加水分解されることが知られており、本発明
方法では大過剰量のホスゲンが必要となるであろうこと
が予想された。しかし意外にも１本発明方法においては
、ホスゲンはその化学量論量の１．１〜１．５倍で充分
であることが判明した。且つ、水及び脱塩酸剤を存在さ
せておくことにより、ＤＭＩの収率は従来知られていた
２０％未満から７０チ以上と飛躍的に向上した。
即ち１本発明はＮ、 Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン
とホスゲンとを水及び脱塩酸剤の存在下に反応させるこ
とにより高収率でＤＭＩが得られる改良された製造方法
を提供するものである。
とホスゲンとを水及び脱塩酸剤の存在下に反応させるこ
とにより高収率でＤＭＩが得られる改良された製造方法
を提供するものである。
本発明方法の通常の態様を述べれば還流冷却器、温度計
、ホスゲン吹き込み管、滴下ロート及び機械的撹拌機を
備えた反応器中に、水及びＮ、Ｎ’−ジメチルエチレン
ジアミンを加える。この液を適当な温度下で撹拌しなが
ら、ホスゲンをホスゲン吹き込み管より導入すると同時
に脱塩酸剤を滴下ロートより滴下する。
、ホスゲン吹き込み管、滴下ロート及び機械的撹拌機を
備えた反応器中に、水及びＮ、Ｎ’−ジメチルエチレン
ジアミンを加える。この液を適当な温度下で撹拌しなが
ら、ホスゲンをホスゲン吹き込み管より導入すると同時
に脱塩酸剤を滴下ロートより滴下する。
吹き込み及び滴下終了後、さらに滴下と同一温度または
これより若干高い温度で反応マスを熟成する。熟成終了
後、中性付近に調整して蒸留等の常法によりＤＭＩを取
り出す。
これより若干高い温度で反応マスを熟成する。熟成終了
後、中性付近に調整して蒸留等の常法によりＤＭＩを取
り出す。
本発明で用いられる水は、あらかじめ反応器中に入れて
おいてもよいし、脱塩酸剤と一緒に、たとえばアルカリ
金属化合物の水溶液として滴下装入してもよい。使用す
る水の量は特に限定されないが、均一反応が維持できる
程度の充分な量が好ましく、Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレ
ンジアミンに対して、０，５〜５０倍、好ましくは５〜
３０重量倍がよい。また、ホスゲン、原料アミン及びＤ
ＭＩに不活性な有機溶媒と併用しても差し支えない。
おいてもよいし、脱塩酸剤と一緒に、たとえばアルカリ
金属化合物の水溶液として滴下装入してもよい。使用す
る水の量は特に限定されないが、均一反応が維持できる
程度の充分な量が好ましく、Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレ
ンジアミンに対して、０，５〜５０倍、好ましくは５〜
３０重量倍がよい。また、ホスゲン、原料アミン及びＤ
ＭＩに不活性な有機溶媒と併用しても差し支えない。
本発明で用いられる脱塩酸剤は、トリメチルアミン、ト
リエチルアミンのような脂肪族第三級アミン、ジメチル
アニリン、ジエチルアニリンのような芳香族第三級アミ
ン、ピリジン、ピラジンのような複素環式第三級アミン
などのような第三級アミンまたは、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属化合物が好適であ
る。
リエチルアミンのような脂肪族第三級アミン、ジメチル
アニリン、ジエチルアニリンのような芳香族第三級アミ
ン、ピリジン、ピラジンのような複素環式第三級アミン
などのような第三級アミンまたは、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属化合物が好適であ
る。
また、本発明における反応温度は特に限定されないが、
好ましくは０〜７０℃で行なう。
好ましくは０〜７０℃で行なう。
本発明で用いられるホスゲン及び脱塩酸剤量は、特に限
定されないが原料ジアミンに対して化学量論量の１．１
〜１．５倍で充分である。また、ホスゲンに対する脱塩
酸剤量はほぼ化学量論量でよい。
定されないが原料ジアミンに対して化学量論量の１．１
〜１．５倍で充分である。また、ホスゲンに対する脱塩
酸剤量はほぼ化学量論量でよい。
本発明方法では、従来のホスゲンを用いる反応にくらべ
て７０チ以上の高収率でＤＭＩが得られる。その理由は
よくわからないが、脱塩酸剤と水を併用することにより
、脱塩酸剤がカルバモイルクロライドの生成で生じる副
生塩酸と、カルバモイルクロライドのＤＭＩへの閉環反
応で生じる副生塩酸のキャッチに都合よく作用するため
と思われる。
て７０チ以上の高収率でＤＭＩが得られる。その理由は
よくわからないが、脱塩酸剤と水を併用することにより
、脱塩酸剤がカルバモイルクロライドの生成で生じる副
生塩酸と、カルバモイルクロライドのＤＭＩへの閉環反
応で生じる副生塩酸のキャッチに都合よく作用するため
と思われる。
もし脱塩酸剤を使用しなければ、原料自体が副生塩酸の
キャッチ剤となり、それ以と反応を進めることは困難で
ある。
キャッチ剤となり、それ以と反応を進めることは困難で
ある。
また、本発明の有利な点は、溶媒として安価な水を使用
するので原料ジアミンは水に可溶であり、脱塩酸剤また
はその生成塩も水に可溶なものが多く１通常反応はほと
んど均一溶液下で行なわれ、反応速度が速く、収率が自
重する。
するので原料ジアミンは水に可溶であり、脱塩酸剤また
はその生成塩も水に可溶なものが多く１通常反応はほと
んど均一溶液下で行なわれ、反応速度が速く、収率が自
重する。
さらに、この発明のもう一つの有利な点は、塩基存在下
の水溶液中の反応であってもホスゲンの損失がほとんど
なく、はぼ当モル量で反応が進行することである。
の水溶液中の反応であってもホスゲンの損失がほとんど
なく、はぼ当モル量で反応が進行することである。
以下実施例及び比較例をあげさらに詳細に説明する。
実施例工
還流冷却器、温度計、滴下ロート、ホスゲン吹き込み管
及び撹拌機を備えた３００ｄの四つロフラスコ中に水１
ｏ ａ＊、Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン８．８
．１０．１モル）を入れ、一方滴下ロート中にトリエチ
ルアミンを２ Ｇ、 ２ ｉ９ （０，２モル）用意し
た。フラスコを２Ω℃に維持し、撹拌しながらホスゲン
をホスゲン吹き込み管を通してＬ Ｏ９／ｂｒで１時間
吹き込んだ。同時に、トリエチルアミンを滴下ロートよ
り１時間かけて滴下した。吹き込み及び滴下終了後、２
０℃で１時間熟成した。この反応マスをサンプリングし
てガスクロマトグラフィーによりＤＭＩの定量を行なっ
た。
及び撹拌機を備えた３００ｄの四つロフラスコ中に水１
ｏ ａ＊、Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン８．８
．１０．１モル）を入れ、一方滴下ロート中にトリエチ
ルアミンを２ Ｇ、 ２ ｉ９ （０，２モル）用意し
た。フラスコを２Ω℃に維持し、撹拌しながらホスゲン
をホスゲン吹き込み管を通してＬ Ｏ９／ｂｒで１時間
吹き込んだ。同時に、トリエチルアミンを滴下ロートよ
り１時間かけて滴下した。吹き込み及び滴下終了後、２
０℃で１時間熟成した。この反応マスをサンプリングし
てガスクロマトグラフィーによりＤＭＩの定量を行なっ
た。
理論収率は７５．１−であった。
比較例
還流冷却器、温度計、ホスゲン吹き込み管及び撹拌機を
備えた３００ａｕの四つロフラスコ中に、トルエン１０
０１１１４． Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン８
．ＢＩＣｏ、１モル）を入れた。フラスコを２０℃に維
持し、撹拌しながらホスゲンをホスゲン吹き込み管を通
じて１０１／ｂｒ ″ｃ１時間吹き込んだ。吹き込み終
了後、同一温度で１時間熟成した。この反応マスのガス
クロマトグラフィー分析を行ない。
備えた３００ａｕの四つロフラスコ中に、トルエン１０
０１１１４． Ｎ、Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン８
．ＢＩＣｏ、１モル）を入れた。フラスコを２０℃に維
持し、撹拌しながらホスゲンをホスゲン吹き込み管を通
じて１０１／ｂｒ ″ｃ１時間吹き込んだ。吹き込み終
了後、同一温度で１時間熟成した。この反応マスのガス
クロマトグラフィー分析を行ない。
ＤＭＩの定量を行なったところ、理論収率１９，２チで
ＤＭＩが生成しているにすぎなかった。
ＤＭＩが生成しているにすぎなかった。
実施例２
トリエチルアミンの代わりに、１（ｌ炭Ｍソーダ水溶液
２１２Ｉ！（ｏ、ｚモル）を用いたことを除いて実施例
１と全く同様に反応を行なった。
２１２Ｉ！（ｏ、ｚモル）を用いたことを除いて実施例
１と全く同様に反応を行なった。
ガスクロマトグラフィー分析による理論収率は７０．８
チであった・ 実施例３ トリエチルアミンの代りに、１０％水酸化ナトリウム水
溶液８０．９（（１，２Ｑモル）を用いた以外は、実施
例１と全く同様の反応を行なった。
チであった・ 実施例３ トリエチルアミンの代りに、１０％水酸化ナトリウム水
溶液８０．９（（１，２Ｑモル）を用いた以外は、実施
例１と全く同様の反応を行なった。
ガスクロマトグラフィー分析による理論収率は８１．３
チであった。
チであった。
Claims (3)
- （１）Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミンとホスゲン
を反応させて、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノ
ンを得るに際し、水及び脱塩酸剤の存在下に反応させる
ことを特徴とする１，３−ジメチル−２−イミダゾリジ
ノンの製造方法 - （２）脱塩酸剤がトリメチルアミン、トリエチルアミン
、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ピリジン、ピ
ラジン、から選ばれた少くとも一種の第３級アミンであ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 - （３）脱塩酸剤が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムから選ばれた少くとも一
種のアルカリ金属化合物である特許請求の範囲第１項記
載の方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59228859A JPS61109772A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | １，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの製造方法 |
| EP85113840A EP0183076B1 (en) | 1984-11-01 | 1985-10-30 | Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone |
| CA000494275A CA1259321A (en) | 1984-11-01 | 1985-10-30 | Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone |
| DE8585113840T DE3578879D1 (de) | 1984-11-01 | 1985-10-30 | Verfahren zur herstellung von 1,3-dimethyl-2-imidazolidinon. |
| BR8505449A BR8505449A (pt) | 1984-11-01 | 1985-10-31 | Processo para producao de 1,3-dimetil-2-imidazolidinona |
| US06/794,034 US4668793A (en) | 1984-11-01 | 1985-11-01 | Process for producing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone |
| KR1019850008126A KR870001899B1 (ko) | 1984-11-01 | 1985-11-01 | 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59228859A JPS61109772A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | １，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61109772A true JPS61109772A (ja) | 1986-05-28 |
| JPH0564142B2 JPH0564142B2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=16882998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59228859A Granted JPS61109772A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | １，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61109772A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6492528B1 (en) | 1998-10-09 | 2002-12-10 | Mitsui Chemicals, Inc. | 1,3-dialkyl-2-imidazolidinones and a manufacturing process therefor |
| US6861534B2 (en) | 2001-01-04 | 2005-03-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone compound |
| CN112176372A (zh) * | 2020-09-27 | 2021-01-05 | 东北大学 | 一种以二氯化钴和五氯化钽为原料低温制备钴钽合金涂层的方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5373561A (en) * | 1976-12-10 | 1978-06-30 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Preparation of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone |
| US4659837A (en) * | 1981-12-22 | 1987-04-21 | Basf Aktiengesellschaft | Method for the preparation of 1,3-disubstituted 4,5-cis-dicarboxy-2-imidazolidones |
-
1984
- 1984-11-01 JP JP59228859A patent/JPS61109772A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5373561A (en) * | 1976-12-10 | 1978-06-30 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | Preparation of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone |
| US4659837A (en) * | 1981-12-22 | 1987-04-21 | Basf Aktiengesellschaft | Method for the preparation of 1,3-disubstituted 4,5-cis-dicarboxy-2-imidazolidones |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6492528B1 (en) | 1998-10-09 | 2002-12-10 | Mitsui Chemicals, Inc. | 1,3-dialkyl-2-imidazolidinones and a manufacturing process therefor |
| US6861534B2 (en) | 2001-01-04 | 2005-03-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone compound |
| CN112176372A (zh) * | 2020-09-27 | 2021-01-05 | 东北大学 | 一种以二氯化钴和五氯化钽为原料低温制备钴钽合金涂层的方法 |
| CN112176372B (zh) * | 2020-09-27 | 2021-10-15 | 东北大学 | 一种以二氯化钴和五氯化钽为原料低温制备钴钽合金涂层的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0564142B2 (ja) | 1993-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |