JPS61107977A - 薄膜状シリコ−ン硬化物の製造方法 - Google Patents
薄膜状シリコ−ン硬化物の製造方法Info
- Publication number
- JPS61107977A JPS61107977A JP23090684A JP23090684A JPS61107977A JP S61107977 A JPS61107977 A JP S61107977A JP 23090684 A JP23090684 A JP 23090684A JP 23090684 A JP23090684 A JP 23090684A JP S61107977 A JPS61107977 A JP S61107977A
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- silicone
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- film
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は薄膜状シリコーン硬化物の製造方法。
特には基材表面に塗布されたシリコーン組成物塗膜に紫
外線を照射して、剥離紙用として有用とされる薄膜状シ
リコーン硬化物を製造する方法に関するものである。
外線を照射して、剥離紙用として有用とされる薄膜状シ
リコーン硬化物を製造する方法に関するものである。
（従来の技術）
基材表面に塗布されたシリコーン組成物を物化させて基
材表面に剥離性の薄膜状シリコーン硬化物を形成させて
なる剥離紙は公知であり、この種の用途には従来から熱
硬化型のシリコーン組成物が用いられている。
材表面に剥離性の薄膜状シリコーン硬化物を形成させて
なる剥離紙は公知であり、この種の用途には従来から熱
硬化型のシリコーン組成物が用いられている。
最近、熱可塑性樹脂フィルムの表面を、シリコーンで非
粘着性とする加工技術が検討されているが、この場合に
はフィルムの熱収縮、溶融が起らないような低温１例え
ば室温でシリコーンを硬化させることが必要とされるた
めに、熱硬化型と同様の生産性を有する放射線硬化型の
もの、特には装置が簡単である紫外線硬化型のシリコー
ン組成物のこの分野への適用が検討されている。
粘着性とする加工技術が検討されているが、この場合に
はフィルムの熱収縮、溶融が起らないような低温１例え
ば室温でシリコーンを硬化させることが必要とされるた
めに、熱硬化型と同様の生産性を有する放射線硬化型の
もの、特には装置が簡単である紫外線硬化型のシリコー
ン組成物のこの分野への適用が検討されている。
しかし、剥離紙の製造は通常シリコーン組成物を基材表
面に１０μｍ以下、好ましくはｏ、ｏｏｓ〜３μ乳とい
う薄膜状に塗布してから硬化させて一二一に非粘着性の
皮膜を形成させるという方法で行なわれており、この非
粘着１ｆＩＫよって粘Ｎ剤層との剥Ｊｔ欠行なわせるの
であるが、この硬化膜が完全Ｋ１１ｉ！化していないと
インキや塗料と異な墨）この非硬化部のシリコーンまた
は硬化に関与しなかった液状シリコーンが粘着剤后に移
行するために。
面に１０μｍ以下、好ましくはｏ、ｏｏｓ〜３μ乳とい
う薄膜状に塗布してから硬化させて一二一に非粘着性の
皮膜を形成させるという方法で行なわれており、この非
粘着１ｆＩＫよって粘Ｎ剤層との剥Ｊｔ欠行なわせるの
であるが、この硬化膜が完全Ｋ１１ｉ！化していないと
インキや塗料と異な墨）この非硬化部のシリコーンまた
は硬化に関与しなかった液状シリコーンが粘着剤后に移
行するために。
これを粘着しようとするときに粘着不良となった１１、
粘着はするが時間経過後に自然に剥離するようＫなると
いう不都合が生じるので一完全硬化が困難である紫外線
硬化型のシリコーン組成物による剥離紙の製造に当って
はこの点の解決が問題とされている。
粘着はするが時間経過後に自然に剥離するようＫなると
いう不都合が生じるので一完全硬化が困難である紫外線
硬化型のシリコーン組成物による剥離紙の製造に当って
はこの点の解決が問題とされている。
（発明の構成）
本発明は紫外線硬化型のシリコーン組成物の完全硬化に
よる薄膜状シリコーン硬化物の製造方法に関するもので
あり、これは紫外線硬化性官能基を含有するシリコーン
組成物を基材に１０μｒｒＬ以下の厚さに塗布し、Ｑ温
浸度が１ｏ、ｏ ｏ、ｏ ｐｐｍ以下である不活性ガス
雰囲気中で紫外線を照射してその塗膜ｔｆ硬化させるこ
とを特徴とするもσ）であるすなわち１本発明者らは剥
離紙製造用に便用する紫外＋１３１６Ｑｉ化型のシリコ
ーン組成物の完全硬化方法について種々検討しにところ
１反応基としてα、β不飽和基を有するものが熱硬化型
シリコーンと同様の硬化性を示すけれども、このものは
厚さが１００μｍ’ｙ数顛という比較的厚いものでない
と硬化性がわるく、剥離紙などのように１０μｍ以下と
いう薄膜では硬化が充分でなく、シロキサン成分の移行
が起るということが判った。しかし。
よる薄膜状シリコーン硬化物の製造方法に関するもので
あり、これは紫外線硬化性官能基を含有するシリコーン
組成物を基材に１０μｒｒＬ以下の厚さに塗布し、Ｑ温
浸度が１ｏ、ｏ ｏ、ｏ ｐｐｍ以下である不活性ガス
雰囲気中で紫外線を照射してその塗膜ｔｆ硬化させるこ
とを特徴とするもσ）であるすなわち１本発明者らは剥
離紙製造用に便用する紫外＋１３１６Ｑｉ化型のシリコ
ーン組成物の完全硬化方法について種々検討しにところ
１反応基としてα、β不飽和基を有するものが熱硬化型
シリコーンと同様の硬化性を示すけれども、このものは
厚さが１００μｍ’ｙ数顛という比較的厚いものでない
と硬化性がわるく、剥離紙などのように１０μｍ以下と
いう薄膜では硬化が充分でなく、シロキサン成分の移行
が起るということが判った。しかし。
このｌＯμｒｒＬａ下の薄膜についてはこの紫外線照射
を０温浸度がｌ Ｏ，０００ｐｐｍ以下、好ましくは３
．０００ ｐｐｍ以下である雰囲気で行なうと、紫外線
照射でも完全に硬化するし、このシリコーンがｓｈ基な
どを含むものである場合にも空気中におけるような著し
い発臭を伴なわずに完全硬化させることができることを
見出した。
を０温浸度がｌ Ｏ，０００ｐｐｍ以下、好ましくは３
．０００ ｐｐｍ以下である雰囲気で行なうと、紫外線
照射でも完全に硬化するし、このシリコーンがｓｈ基な
どを含むものである場合にも空気中におけるような著し
い発臭を伴なわずに完全硬化させることができることを
見出した。
本発明の方法において始発材とされるシリコーン組成物
は紫外線硬化性官能基としての不飽和基を金員するもの
とする必要があり、この不飽和基としてはビニル基、ア
リル基、プロペニル基、ブチニル基などのα、β不飽和
基を宜する炭素数２〜６の１価炭化水素基、シクロヘキ
セニル基−アセチレン基、アクリロイル基、メタクリロ
イル基。
は紫外線硬化性官能基としての不飽和基を金員するもの
とする必要があり、この不飽和基としてはビニル基、ア
リル基、プロペニル基、ブチニル基などのα、β不飽和
基を宜する炭素数２〜６の１価炭化水素基、シクロヘキ
セニル基−アセチレン基、アクリロイル基、メタクリロ
イル基。
アリロキシアルキル基、メタクリロキシアルキル基など
がｆｌ＋示され、この種の不飽和基と反応する異種官能
基としてはＨ３ｉ基、 Ｉ（Ｓ（ＣＨ，）ｒｎＳｉ基−
）１２Ｎ−Ｒ−８ｉ基などが例示される。また、このシ
リコーン組成物には通常の紫外線照射工程に使用される
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベ
ンゾインエーテル、ベンジルケタール、ベンジルミヒラ
ケトンなどの光開始剤−増感剤、また各種のカルボニル
化合物、アミン化合物などの促進剤を添加してもよく、
さらにはチオキサントン、アゾ化合物、リン化合物、尿
温。
がｆｌ＋示され、この種の不飽和基と反応する異種官能
基としてはＨ３ｉ基、 Ｉ（Ｓ（ＣＨ，）ｒｎＳｉ基−
）１２Ｎ−Ｒ−８ｉ基などが例示される。また、このシ
リコーン組成物には通常の紫外線照射工程に使用される
アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベ
ンゾインエーテル、ベンジルケタール、ベンジルミヒラ
ケトンなどの光開始剤−増感剤、また各種のカルボニル
化合物、アミン化合物などの促進剤を添加してもよく、
さらにはチオキサントン、アゾ化合物、リン化合物、尿
温。
ニトリル類が適宜添加されたものであってもよい。
なお、このものは基材に塗布して使用されるので塗工用
に溶剤を含むものとしてもよいが、この塗膜は密着性、
防臭の面から紫外線照射域では溶剤を完全に除いたもの
とすることが好ましい。
に溶剤を含むものとしてもよいが、この塗膜は密着性、
防臭の面から紫外線照射域では溶剤を完全に除いたもの
とすることが好ましい。
このシリコーン組成物の基材への塗布は常法にしたがっ
て例え＋ｆ＞ロールコータ−、グラビアコーター、エア
ーコーター、グラビアオフセットなどで行えばよいが、
この塗膜の厚さは１０ｐｒｒＬ以上のコーティングはコ
スト面および剥離特性で問題があるし−この硬化膜は柔
軟性に乏しく、亀裂。
て例え＋ｆ＞ロールコータ−、グラビアコーター、エア
ーコーター、グラビアオフセットなどで行えばよいが、
この塗膜の厚さは１０ｐｒｒＬ以上のコーティングはコ
スト面および剥離特性で問題があるし−この硬化膜は柔
軟性に乏しく、亀裂。
すべ！】性、密碧性（硬化時の収縮）にも問題があり一
均−塗工が可能であれば０，５μｒｎ以下のシリコーン
膜で十分機能が発揮できるので、１０μｍ以下、好まし
くは０．０５〜３ ｐｍの範囲とすることが好ましい。
均−塗工が可能であれば０，５μｒｎ以下のシリコーン
膜で十分機能が発揮できるので、１０μｍ以下、好まし
くは０．０５〜３ ｐｍの範囲とすることが好ましい。
また、この知膜に紫外線を照射するための光源としては
キセノンランプ−中圧水銀灯、高圧水銀灯などが例示さ
れ、この照射時間は０．１秒〜５．０秒の範囲とするこ
とが好ましい。
キセノンランプ−中圧水銀灯、高圧水銀灯などが例示さ
れ、この照射時間は０．１秒〜５．０秒の範囲とするこ
とが好ましい。
本発明の方法は上記のよ５Ｋして作った厚さ１０μｍ以
下の塗膜に上記の光源から紫外線照射をするのであるが
、このときの雰囲気はｒｌＲ累濃度が１．０． ＯＯＯ
ｐｐｍＪ２Ｌ下のものとする必要がある。
下の塗膜に上記の光源から紫外線照射をするのであるが
、このときの雰囲気はｒｌＲ累濃度が１．０． ＯＯＯ
ｐｐｍＪ２Ｌ下のものとする必要がある。
この酸素濃度の制御法は特に限定されるもの７ではない
が１便宜な方法としてはサンプルを紫外線通過性のプラ
スチック製の容器中に入れ、窒素ガスを吹き込む窒素置
換法で酸素濃度を低下させて紫外線を照射するようにす
ればよい。なお、この酸素濃度低下法については例えば
嫌気性の紫外線硬化型インクや塗料の硬化法のように酸
素遮断膜を使用することも考えられるが、この方法はｌ
）酸素遮断フィルムが必要とされるために著しいコスト
高となる。２〕未硬化のシリコーン皮膜はフィルムにぬ
れ易く、接着しやすいので、硬化後遮断フィルムとの剥
離が困難となる。３）シリコーン硬化膜と剥離した遮断
フィルムはシリコーンの移行があるために再使用ができ
ない、４】遮断フィルムの面がシリコーンの面を規定す
るので塗工技術を生かしたシリコーン離型面が得られな
い、という不利があるので、好ましいものではない。
が１便宜な方法としてはサンプルを紫外線通過性のプラ
スチック製の容器中に入れ、窒素ガスを吹き込む窒素置
換法で酸素濃度を低下させて紫外線を照射するようにす
ればよい。なお、この酸素濃度低下法については例えば
嫌気性の紫外線硬化型インクや塗料の硬化法のように酸
素遮断膜を使用することも考えられるが、この方法はｌ
）酸素遮断フィルムが必要とされるために著しいコスト
高となる。２〕未硬化のシリコーン皮膜はフィルムにぬ
れ易く、接着しやすいので、硬化後遮断フィルムとの剥
離が困難となる。３）シリコーン硬化膜と剥離した遮断
フィルムはシリコーンの移行があるために再使用ができ
ない、４】遮断フィルムの面がシリコーンの面を規定す
るので塗工技術を生かしたシリコーン離型面が得られな
い、という不利があるので、好ましいものではない。
本発明の方法は上ｇしたように基材表面に紫外線便化性
官能基を含有するシリコーン組成物を１０μｍ以下の厚
さで蝋布し、これに酸素濃度１０．０００ ｐｐｍ以下
の雰囲気で紫外線を照射するのであるが、これによれば
１０部ｍ以下というシリコーン組成物薄膜が迅速に、か
つ完全に硬化されるので、薄膜状シリコーン便化物な離
型膜とする剥離紙が容易にかつ確実に取得されるという
有利性が与えられる。
官能基を含有するシリコーン組成物を１０μｍ以下の厚
さで蝋布し、これに酸素濃度１０．０００ ｐｐｍ以下
の雰囲気で紫外線を照射するのであるが、これによれば
１０部ｍ以下というシリコーン組成物薄膜が迅速に、か
つ完全に硬化されるので、薄膜状シリコーン便化物な離
型膜とする剥離紙が容易にかつ確実に取得されるという
有利性が与えられる。
つぎに本発明の実施例をあげるが１例中の部はＭｆｉ部
を、また粘度は２５℃での測定値を示したものである。
を、また粘度は２５℃での測定値を示したものである。
実施例
ルシロキサン単位３モル％からなる。粘度が１．０００
ｃＳのメチルビニルポリシロキサン１００部に１分子鎖
両末端がジメチルメトキシ基で封鎖された。粘度５０ｃ
Ｓのメルカプトプロピル（メチル）シロキサン１０部を
加え、均一に混合してシリコーン処理浴Ａを作った。
ｃＳのメチルビニルポリシロキサン１００部に１分子鎖
両末端がジメチルメトキシ基で封鎖された。粘度５０ｃ
Ｓのメルカプトプロピル（メチル）シロキサン１０部を
加え、均一に混合してシリコーン処理浴Ａを作った。
また、上述におけるメチルビニルボリシ覧キサ１００モ
ル％で粘度が３０ｃＳのメチルハイドロジエンポリシロ
キサン５部を加え、均一に混合してシリコーン処理浴Ｂ
を作り、さらに分子鎖両末端カド１ツメチルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキチン単位９５モル％、ｒ−
アクリロイルプロピルメチルシロキチン単位５モル％か
らなる、粘度が２．０ＯＯｃ８のｒ−アクリロイルプロ
ピルメチルシロキチン１００部からなるシリコン処理浴
Ｃを作った。
ル％で粘度が３０ｃＳのメチルハイドロジエンポリシロ
キサン５部を加え、均一に混合してシリコーン処理浴Ｂ
を作り、さらに分子鎖両末端カド１ツメチルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキチン単位９５モル％、ｒ−
アクリロイルプロピルメチルシロキチン単位５モル％か
らなる、粘度が２．０ＯＯｃ８のｒ−アクリロイルプロ
ピルメチルシロキチン１００部からなるシリコン処理浴
Ｃを作った。
つぎに、これらの処理浴Ａ、Ｂ％ｃ ｔｏｏ部に増感剤
としてのベンゾインイソプロピルエーテル２部を加えて
均一に混合してから、これらをポリエチレンラミネート
紙にシリコーン塗工膜が厚さ２μｍ、１０μｍとなるよ
うに塗布してから、これに＄１−第２表に示したような
種々の酸素濃度において高圧水銀ランプ・Ｈニー２ＯＮ
（日本電池社製商品名］からの紫外線をこのテープから
８α隔てたところから５．０秒照射して塗膜を硬化させ
たところ、第１表、多４２表に示したとおりの結果が得
られた。
としてのベンゾインイソプロピルエーテル２部を加えて
均一に混合してから、これらをポリエチレンラミネート
紙にシリコーン塗工膜が厚さ２μｍ、１０μｍとなるよ
うに塗布してから、これに＄１−第２表に示したような
種々の酸素濃度において高圧水銀ランプ・Ｈニー２ＯＮ
（日本電池社製商品名］からの紫外線をこのテープから
８α隔てたところから５．０秒照射して塗膜を硬化させ
たところ、第１表、多４２表に示したとおりの結果が得
られた。
また、上記において増感剤としてのベンゾインイソプロ
ピルエーテルに代えて′！Ｊ４３８に示したとおＩ】の
各種の増感剤２部を添加して同様の実験を行ったところ
、この場合には第３表に併記したとおりの結果が得られ
た。
ピルエーテルに代えて′！Ｊ４３８に示したとおＩ】の
各種の増感剤２部を添加して同様の実験を行ったところ
、この場合には第３表に併記したとおりの結果が得られ
た。
第 １ 次
（注）
１）硬化性 Ｘ・・・硬化しない
（×］・・・少しくもりあり
Ｏ・・・くもり全くなし
く０）・・・ごくわずかにくもりあり
２部移行性 Ｏ・・・全く移行は認められない△・・・
シリコーンの移行少しあり ×・・・シリコーンの移行あり ３）酸素濃度測定法 ・・・三菱化成工業（株）製、微量酸素分析装置・ＴＡ
Ｉ ３１１型使用 ≠ トリエタノールアミン添加！ ２部器条トルエ
ン可溶分測定法 ・・・シリコーン塗工紙をキュアー後、トルエン中に一
昼夜浸漬し、翌日取１）出して溶剤を風乾し１重量減少
量を測定する。
シリコーンの移行少しあり ×・・・シリコーンの移行あり ３）酸素濃度測定法 ・・・三菱化成工業（株）製、微量酸素分析装置・ＴＡ
Ｉ ３１１型使用 ≠ トリエタノールアミン添加！ ２部器条トルエ
ン可溶分測定法 ・・・シリコーン塗工紙をキュアー後、トルエン中に一
昼夜浸漬し、翌日取１）出して溶剤を風乾し１重量減少
量を測定する。
Claims (1)
- １、紫外線硬化性官能基を含有するシリコーン組成物を
基材に１０μｍ以下の厚さに塗布し、酸素濃度が１０，
０００ｐｐｍ以下である不活性ガス雰囲気中で紫外線を
照射してその塗膜を硬化させることを特徴とする薄膜状
シリコーン硬化物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23090684A JPS61107977A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | 薄膜状シリコ−ン硬化物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23090684A JPS61107977A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | 薄膜状シリコ−ン硬化物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107977A true JPS61107977A (ja) | 1986-05-26 |
Family
ID=16915143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23090684A Pending JPS61107977A (ja) | 1984-11-01 | 1984-11-01 | 薄膜状シリコ−ン硬化物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107977A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61276824A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-12-06 | レイケム・コ−ポレイシヨン | オルガノポリシロキサンの放射線グラフト |
| JPS63233807A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 紫外線硬化樹脂の硬化方法 |
| US7296489B2 (en) | 2002-04-26 | 2007-11-20 | Denso Corporation | Starting apparatus |
-
1984
- 1984-11-01 JP JP23090684A patent/JPS61107977A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61276824A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-12-06 | レイケム・コ−ポレイシヨン | オルガノポリシロキサンの放射線グラフト |
| JPS63233807A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 紫外線硬化樹脂の硬化方法 |
| US7296489B2 (en) | 2002-04-26 | 2007-11-20 | Denso Corporation | Starting apparatus |
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