JPS61106453A - 磁器組成物 - Google Patents
磁器組成物Info
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- JPS61106453A JPS61106453A JP59225169A JP22516984A JPS61106453A JP S61106453 A JPS61106453 A JP S61106453A JP 59225169 A JP59225169 A JP 59225169A JP 22516984 A JP22516984 A JP 22516984A JP S61106453 A JPS61106453 A JP S61106453A
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- ceramic composition
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/495—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. vanadates, niobates, tantalates, molybdates or tungstates
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G—PHYSICS
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
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- Magnetic Heads (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属薄膜の基体として使用される磁器組成物に
関するものであり、さらに詳細にはその熱膨張率の改良
に関するものである。
関するものであり、さらに詳細にはその熱膨張率の改良
に関するものである。
例えば磁気記録の分野においては、記録信号の高密度化
や高周波数化等が進められており、この高密度記録化に
対応して磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ
等の強磁性金属の粉末を用いたいわゆるメタルテープや
強磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に被着し
たいわゆる蒸着テープ等が使用されるようになっている
。したがって、記録再生に用いられる磁気ヘッドのヘッ
ド材料には高い飽和磁束密度Ｂｓを有することが要求さ
れている。
や高周波数化等が進められており、この高密度記録化に
対応して磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ
等の強磁性金属の粉末を用いたいわゆるメタルテープや
強磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に被着し
たいわゆる蒸着テープ等が使用されるようになっている
。したがって、記録再生に用いられる磁気ヘッドのヘッ
ド材料には高い飽和磁束密度Ｂｓを有することが要求さ
れている。
あるいは、上述の高密度記録化に伴って、磁気記録媒体
に記録される磁気パターンのトラック幅の狭小化も進め
られており、磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いもの
が要求されている。
に記録される磁気パターンのトラック幅の狭小化も進め
られており、磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いもの
が要求されている。
そこで従来、前述の要求に応えて、例えば非磁性支持体
と磁気コアとなる金属磁性薄膜とを積層しこの磁性薄膜
部分をトラック部としたいわゆる複合型磁気ヘッドや、
非磁性基板上に金属磁性薄膜や導体金属薄膜を絶縁薄膜
を介して多層に積層した薄膜磁気ヘッド等が提案されて
おり、このように上記磁気記録の分野においては、金属
薄膜の応用が進展している。
と磁気コアとなる金属磁性薄膜とを積層しこの磁性薄膜
部分をトラック部としたいわゆる複合型磁気ヘッドや、
非磁性基板上に金属磁性薄膜や導体金属薄膜を絶縁薄膜
を介して多層に積層した薄膜磁気ヘッド等が提案されて
おり、このように上記磁気記録の分野においては、金属
薄膜の応用が進展している。
ところで、上記金属薄膜を磁気ヘッド等に使用・する場
合には、その支持体として通常セラミック基板が用いら
れているが、従来のセラミ”／り基板では金属材料より
もかなり熱膨張が小さいために、熱処理時に上記金属薄
膜が上記セラミック基板から剥離し易いという欠点を有
している０例えば薄膜磁気ヘッドに用いられるパーマロ
イ、センダスト等の線膨張係数αは１３０〜１６０Ｘ１
０−／ｌ：であるのに対し、従来用いられているセラミ
ック基板はＢａＴｉ０１系セラミツクで９０〜１００Ｘ
ＩＯ−’／ ’Ｃ、ＣａＴｉ０１系セラミツクで１００
〜１２０Ｘ１０−″／℃程度とかなり小さい。
合には、その支持体として通常セラミック基板が用いら
れているが、従来のセラミ”／り基板では金属材料より
もかなり熱膨張が小さいために、熱処理時に上記金属薄
膜が上記セラミック基板から剥離し易いという欠点を有
している０例えば薄膜磁気ヘッドに用いられるパーマロ
イ、センダスト等の線膨張係数αは１３０〜１６０Ｘ１
０−／ｌ：であるのに対し、従来用いられているセラミ
ック基板はＢａＴｉ０１系セラミツクで９０〜１００Ｘ
ＩＯ−’／ ’Ｃ、ＣａＴｉ０１系セラミツクで１００
〜１２０Ｘ１０−″／℃程度とかなり小さい。
さらに、完全に零でない磁歪を有する金属材料（磁性材
料）の特に薄膜磁気ヘッドへの応用を考えた場合、上記
線膨張係数の差に起因してｌ［膜形成時あるいは熱処理
後の冷却時等に歪が導入され、この歪により磁歪を通じ
て上記金属材料に磁気異方性が導入され透磁率の劣化が
生ずる虞れもある。
料）の特に薄膜磁気ヘッドへの応用を考えた場合、上記
線膨張係数の差に起因してｌ［膜形成時あるいは熱処理
後の冷却時等に歪が導入され、この歪により磁歪を通じ
て上記金属材料に磁気異方性が導入され透磁率の劣化が
生ずる虞れもある。
したがって、上記金属薄膜と同程度の線膨張係数を有す
るセラミック基板が要望されている。
るセラミック基板が要望されている。
そこで本発明は、当該技術分野の前記要望に応えて提案
されたものであって、金属ｉ膜と同等の熱膨張を示す新
規な組成を有する磁器組成物を提供することを目的とす
る。
されたものであって、金属ｉ膜と同等の熱膨張を示す新
規な組成を有する磁器組成物を提供することを目的とす
る。
本発明者等は上述の目的を達成せんものと長期に亘り鋭
意研究の結果、Ｎ ａ２ＯＴ ａ、Ｏ＋；系磁器組成物
においてその組成範囲を特定することにより線膨張率を
制御できる事を見出し本発明を完成するに至りたちので
あって、 一般式ｘ Ｎ ａ、ＬＯ−ｙＴ ａ、Ｏ，ｒ
表される組成を有し、その組成範囲が０．８５≦ｘ／ｙ
＜１．Ｇ。
意研究の結果、Ｎ ａ２ＯＴ ａ、Ｏ＋；系磁器組成物
においてその組成範囲を特定することにより線膨張率を
制御できる事を見出し本発明を完成するに至りたちので
あって、 一般式ｘ Ｎ ａ、ＬＯ−ｙＴ ａ、Ｏ，ｒ
表される組成を有し、その組成範囲が０．８５≦ｘ／ｙ
＜１．Ｇ。
であることを特徴とするものである。
本発明の磁器組成物においてはその組成範囲が重要であ
って、上記ｘ／ｙ＜０．８５では線膨張係数α＜１３０
Ｘ１０／ｌと金属ＷＩ＃膜に比べて小さくなりすぎ、ま
たｘ／ｙ≧１．ＯＯでは線膨張係数αは大きいものの焼
結不良を起こし良質な磁器組成物が得られない。
って、上記ｘ／ｙ＜０．８５では線膨張係数α＜１３０
Ｘ１０／ｌと金属ＷＩ＃膜に比べて小さくなりすぎ、ま
たｘ／ｙ≧１．ＯＯでは線膨張係数αは大きいものの焼
結不良を起こし良質な磁器組成物が得られない。
このように、一般式ｘ Ｎ ａ、ｏ ・ｙ Ｔ ａ、Ｌ
？Ｄｃ、Ｔ表される磁器組成物の組成範囲を０．８５≦
ｘｌｙ＜１．００に設定することにより、線膨張係数α
が１３０〜１７０Ｘ１０−／’Ｃ程度に制御される。
？Ｄｃ、Ｔ表される磁器組成物の組成範囲を０．８５≦
ｘｌｙ＜１．００に設定することにより、線膨張係数α
が１３０〜１７０Ｘ１０−／’Ｃ程度に制御される。
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明がこの実施例に限定されるものでないことは言うま
でもない。
発明がこの実施例に限定されるものでないことは言うま
でもない。
実施例。
純度９９．９％以上のＮａ、ＬＣＯｌ及びＴ ａ、０．
１７）各原料粉末を用意した。
１７）各原料粉末を用意した。
次にこれら各原料粉末をそれぞれ所定の組成となるよう
に秤量し、エタノールを混合溶媒として中 ボールミで混合処理した後、加熱しエタノールを除去し
た。
に秤量し、エタノールを混合溶媒として中 ボールミで混合処理した後、加熱しエタノールを除去し
た。
続いて、１０００ｋｇ／−の圧力で加圧成形し、この成
形したものを９００℃で３時間、空気中で仮焼した。
形したものを９００℃で３時間、空気中で仮焼した。
さらにこの仮焼物を乳鉢で粉砕し、再びエタノールを混
合媒体としてボールミルで混合処理した後、エタノール
を加熱除去した。その後１５００に、 ／ Ｃ１１１の
圧力で加圧成形し、１３５０℃〜１５００℃で３時間、
空気中で−成し、磁器組成物を得た。
合媒体としてボールミルで混合処理した後、エタノール
を加熱除去した。その後１５００に、 ／ Ｃ１１１の
圧力で加圧成形し、１３５０℃〜１５００℃で３時間、
空気中で−成し、磁器組成物を得た。
上記Ｎ ａ、Ｃへ及びＴ ａ、ＬＯｃＪ）割合を変え、
得られた各磁器組成物の密度を測定し、さらに角柱状に
加工した衾、それぞれ線膨張針で４０〜６００℃の温度
範囲における線膨張係数αを測定した。
得られた各磁器組成物の密度を測定し、さらに角柱状に
加工した衾、それぞれ線膨張針で４０〜６００℃の温度
範囲における線膨張係数αを測定した。
結果を第１図及び第２図に示す。
第１図は、上記磁器組成物をｘＮａ、Ｃ１ｙＴａ１ＬＯ
鍔表した時のｘ／ｙに対する線膨張係数αをプロットし
たものである。
鍔表した時のｘ／ｙに対する線膨張係数αをプロットし
たものである。
この第１図より、Ｎ ａ２Ｏの割合の増加とともに得ら
れる磁器組成物の線膨張係数αが増加し、特にｘ／ｙの
値が０．８５を越えると、上記線膨張係数αが金属の線
膨張係数と同程度の１３０〜１７０Ｘ１０−ン℃となる
ことが分かる。
れる磁器組成物の線膨張係数αが増加し、特にｘ／ｙの
値が０．８５を越えると、上記線膨張係数αが金属の線
膨張係数と同程度の１３０〜１７０Ｘ１０−ン℃となる
ことが分かる。
第２図は、同一焼成条件下で得られる磁器組成物をＸ
Ｎ ａｚｏ ・ｙＴ ａｌｌｏｒ、で表した時のｘ／ｙ
の値に対する密度をプロットしたものである。
Ｎ ａｚｏ ・ｙＴ ａｌｌｏｒ、で表した時のｘ／ｙ
の値に対する密度をプロットしたものである。
この第２図より、ｘ／ｙの値が１．０を越えると密度が
急激に下がり、焼結性が悪くなることが分かる。
急激に下がり、焼結性が悪くなることが分かる。
次に本発明に係る磁器組成物を磁気ヘッドに通用した応
用例について説明する。
用例について説明する。
応用例１６
第３図に本発明の磁器組成物を非磁性基板として用いた
薄膜磁気ヘッドの一例を示す。
薄膜磁気ヘッドの一例を示す。
この例においては、先の実施例で作成された磁器組成物
を非磁性基板１とし、この非磁性基板１上に磁路を構成
する一方の磁性膜である下部磁性膜２が例えばセンダス
ト系合金膜等で形成されている。
を非磁性基板１とし、この非磁性基板１上に磁路を構成
する一方の磁性膜である下部磁性膜２が例えばセンダス
ト系合金膜等で形成されている。
また、上記下部磁性１１１！２上には、Ｓ ｉ０２等に
より形成される絶縁層３を介して信号導体４が形成され
ている。この信号導体４は、例えばスパッタリング等の
手法により被着形成される銅薄膜等をエツチングするこ
とにより形成され、上記下部磁性膜２や後述の上部磁性
膜により構成される閉磁路中に記録再生信号を供給す茗
ように配設されている。
より形成される絶縁層３を介して信号導体４が形成され
ている。この信号導体４は、例えばスパッタリング等の
手法により被着形成される銅薄膜等をエツチングするこ
とにより形成され、上記下部磁性膜２や後述の上部磁性
膜により構成される閉磁路中に記録再生信号を供給す茗
ように配設されている。
さらに上記信号導体４上には、第２の絶縁層５を介して
センダスト等よりなる上部磁性膜６が形成されており、
この上部磁性膜６の後端部６ａが上記下部磁性膜２と接
続されパックギャップを構成するとともに、前端部にお
いて先の絶縁層３を介して下部磁性膜２と対向し作動ギ
ャップを構成するようになっている。 このように構成
される薄膜磁気ヘッドには、さらにＳ ｉ ＯＪの保護
膜７が設けられ、融着ガラス８によって非磁性保護板９
が貼り付けられている。なお、この非磁性保護板９は、
上記非磁性基板１と同様に先の実施例で作成された磁器
組成物が使用される。
センダスト等よりなる上部磁性膜６が形成されており、
この上部磁性膜６の後端部６ａが上記下部磁性膜２と接
続されパックギャップを構成するとともに、前端部にお
いて先の絶縁層３を介して下部磁性膜２と対向し作動ギ
ャップを構成するようになっている。 このように構成
される薄膜磁気ヘッドには、さらにＳ ｉ ＯＪの保護
膜７が設けられ、融着ガラス８によって非磁性保護板９
が貼り付けられている。なお、この非磁性保護板９は、
上記非磁性基板１と同様に先の実施例で作成された磁器
組成物が使用される。
このように構成される薄膜磁気ヘッドにおいては、非磁
性基板ｌの熱膨張率と下部磁性膜２の熱膨張率がほぼ等
しいために、例えば金属磁性薄膜の磁気特性を向上する
ための熱処理や、ガラス融着、ガラスボンディング等の
製造１程上の熱処理等を加えても上記下部磁性膜２の剥
離はみられなかった。また、これらの熱処理を加えても
、上記下部磁性膜２には透磁率の低下は見られなかった
。
性基板ｌの熱膨張率と下部磁性膜２の熱膨張率がほぼ等
しいために、例えば金属磁性薄膜の磁気特性を向上する
ための熱処理や、ガラス融着、ガラスボンディング等の
製造１程上の熱処理等を加えても上記下部磁性膜２の剥
離はみられなかった。また、これらの熱処理を加えても
、上記下部磁性膜２には透磁率の低下は見られなかった
。
応用例２゜
次に、第４図に本発明の磁器組成物を複合型の磁気ヘッ
ドに適用した一例を示す。
ドに適用した一例を示す。
この磁気ヘッドは、金属磁性層１１．１２がそれぞれ非
磁性ガード材１３．１４あるいは１５゜１６によって挟
み付けられ、これら金属磁性層１１．１２の突き合わせ
面がこれら金属磁性層１１゜１２の厚さをトランク幅と
する作動ギャップ１７となるように構成されている。
磁性ガード材１３．１４あるいは１５゜１６によって挟
み付けられ、これら金属磁性層１１．１２の突き合わせ
面がこれら金属磁性層１１゜１２の厚さをトランク幅と
する作動ギャップ１７となるように構成されている。
また、上記磁気ヘッドには巻線１ＪＳ１８が設けられ、
この巻線溝１８内に導体コイルを巻回するこ・とによっ
て上記金属磁性層１１．１２に記録再生゛信号を供給す
るようになっている。
この巻線溝１８内に導体コイルを巻回するこ・とによっ
て上記金属磁性層１１．１２に記録再生゛信号を供給す
るようになっている。
ここで上記金属磁性１’１ｉｌｌ、１２は、薄帯状のセ
ンダスト系合金あるいは非晶質合金等、通常この種の磁
気ヘッドに用いられる金属磁性層をラミネートする手法
や、強磁性金泥材料をスパッタや蒸着する等の真空薄膜
形成手段等により形成される。
ンダスト系合金あるいは非晶質合金等、通常この種の磁
気ヘッドに用いられる金属磁性層をラミネートする手法
や、強磁性金泥材料をスパッタや蒸着する等の真空薄膜
形成手段等により形成される。
、一方、上記非磁性ガード材１３．１４及び非磁性ガー
ド材１５．１６は、先の実施例で作成されるように、上
記金属磁性層１１．１２と同程度の線膨張係数αを有す
る磁器組成物により形成されており、したがって先の応
用例１と同様に熱膨張率の違いに起因する金属磁性層１
１．１２の剥離が生ずることはなかった。
ド材１５．１６は、先の実施例で作成されるように、上
記金属磁性層１１．１２と同程度の線膨張係数αを有す
る磁器組成物により形成されており、したがって先の応
用例１と同様に熱膨張率の違いに起因する金属磁性層１
１．１２の剥離が生ずることはなかった。
上述の説明からも明らかなように、本発明においてはＮ
ａｉＬＯ−Ｔ ａ２Ｏ＋；系磁器組成物の組成範囲を
一般式ｘ Ｎ ａ、Ｏ−ｙ Ｔ ａ、ＬＯ鍔表した時の
ｘ／ｙの値が０．８５≦ｘ／ｙ＜１．００となるように
設定しているので、線膨張係数αが１３０−１７０ｘ、
１０７℃と金属薄膜とほぼ同等の熱膨張を示す磁器組成
物が得られる。
ａｉＬＯ−Ｔ ａ２Ｏ＋；系磁器組成物の組成範囲を
一般式ｘ Ｎ ａ、Ｏ−ｙ Ｔ ａ、ＬＯ鍔表した時の
ｘ／ｙの値が０．８５≦ｘ／ｙ＜１．００となるように
設定しているので、線膨張係数αが１３０−１７０ｘ、
１０７℃と金属薄膜とほぼ同等の熱膨張を示す磁器組成
物が得られる。
したがって、例えば磁気ヘッドに適用した場合に、金属
薄膜と非磁性支持体との剥離の生ずることがなく、また
金属薄膜に透磁率等の磁気特性の低下を生ずることのな
い信頼性の高い磁気ヘッドを提供することが可能となる
。
薄膜と非磁性支持体との剥離の生ずることがなく、また
金属薄膜に透磁率等の磁気特性の低下を生ずることのな
い信頼性の高い磁気ヘッドを提供することが可能となる
。
第１図はｘ Ｎ ａｚｏ ・ｙ Ｔ ａｚＯＣＴ：表さ
れる磁器組成物のｘ／ｙの値と線膨張係数αの関係を示
す特性図であり、第２図はｘＮａ２０・ｙＴａ、ＬＯ＜
ｉ？表される磁器組成物のｘ／ｙの値と密度（同一焼成
条件）の関係を示す特性図である。 第３図は本発明の磁器組成物を非磁性基板として使用し
た薄膜磁気ヘッドの一例を示す断面図であり、第４図は
本発明の磁゛器組成物を非磁性支持体として使用した複
合型の磁気ヘッドの一例を示す外観斜視図である。 １・・・非磁性基板 ２・・・下部磁性膜 ６・・・上部磁性膜 １１．１２・・・金属磁性層
れる磁器組成物のｘ／ｙの値と線膨張係数αの関係を示
す特性図であり、第２図はｘＮａ２０・ｙＴａ、ＬＯ＜
ｉ？表される磁器組成物のｘ／ｙの値と密度（同一焼成
条件）の関係を示す特性図である。 第３図は本発明の磁器組成物を非磁性基板として使用し
た薄膜磁気ヘッドの一例を示す断面図であり、第４図は
本発明の磁゛器組成物を非磁性支持体として使用した複
合型の磁気ヘッドの一例を示す外観斜視図である。 １・・・非磁性基板 ２・・・下部磁性膜 ６・・・上部磁性膜 １１．１２・・・金属磁性層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式ｘＮａ＿２Ｏ・ｙＴａ＿２Ｏ＿５で表される組成
を有し、その組成範囲が ０．８５≦ｘ／ｙ＜１．００ であることを特徴とする磁器組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59225169A JPS61106453A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 磁器組成物 |
| US06/788,147 US4650726A (en) | 1984-10-26 | 1985-10-16 | Ceramic substrate of Na2 O and Ta2 O5 for thin film magnetic head |
| DE8585113551T DE3575712D1 (de) | 1984-10-26 | 1985-10-24 | Keramikzusammensetzung. |
| EP85113551A EP0179479B1 (en) | 1984-10-26 | 1985-10-24 | Ceramic composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59225169A JPS61106453A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 磁器組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106453A true JPS61106453A (ja) | 1986-05-24 |
Family
ID=16825021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59225169A Pending JPS61106453A (ja) | 1984-10-26 | 1984-10-26 | 磁器組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4650726A (ja) |
| EP (1) | EP0179479B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61106453A (ja) |
| DE (1) | DE3575712D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61159701A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-19 | 株式会社東芝 | サ−マルヘツドおよびその製造方法 |
| JPS61172754A (ja) * | 1985-01-26 | 1986-08-04 | Kyocera Corp | サ−マルヘツド |
| US5236735A (en) * | 1989-05-27 | 1993-08-17 | Tdk Corporation | Method of producing a thin film magnetic head |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5923047B2 (ja) * | 1976-11-11 | 1984-05-30 | 松下電器産業株式会社 | 誘電体共振器 |
-
1984
- 1984-10-26 JP JP59225169A patent/JPS61106453A/ja active Pending
-
1985
- 1985-10-16 US US06/788,147 patent/US4650726A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-10-24 DE DE8585113551T patent/DE3575712D1/de not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3575712D1 (de) | 1990-03-08 |
| US4650726A (en) | 1987-03-17 |
| EP0179479A2 (en) | 1986-04-30 |
| EP0179479B1 (en) | 1990-01-31 |
| EP0179479A3 (en) | 1987-08-12 |
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