JPS61101941A - X線源 - Google Patents

X線源

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Publication number
JPS61101941A
JPS61101941A JP59222126A JP22212684A JPS61101941A JP S61101941 A JPS61101941 A JP S61101941A JP 59222126 A JP59222126 A JP 59222126A JP 22212684 A JP22212684 A JP 22212684A JP S61101941 A JPS61101941 A JP S61101941A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
window
ray
liquid metal
electrodes
horizontal direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59222126A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukio Kurosawa
黒沢 幸夫
Hiroshi Arita
浩 有田
Kunio Hirasawa
平沢 邦夫
Yoshio Watanabe
渡辺 良男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP59222126A priority Critical patent/JPS61101941A/ja
Publication of JPS61101941A publication Critical patent/JPS61101941A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/16Vessels; Containers; Shields associated therewith
    • H01J35/18Windows
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/16Vessels; Containers; Shields associated therewith

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は真空ギャップ式のX線源に関し、とくに電極材
として液体金属を用いたX線源に関する。
〔発明の背景〕
近年、集積回路関係の技術的進歩はきわめて急速でちゃ
、リングラフィ装置の加工パヅーンの最小幅はサブミク
ロンの領域に入ろうとしている。
このサブミクロンの領域では、もはや光による露光では
鮮明な加工を施すことが困難となシ、軟X線を使ったリ
ングラフィ装置が必要になってきている。そのため、強
力な軟X線発生源が求められている。軟X線発生源とし
ては、対陰極形X線管、シンクロトロン放射光、高温プ
ラズマからのX線を利用するものなどがあるが、対陰極
形は輝度が弱く、またシンクロトロンはあまりにも設備
が高価格になる。このため、プラズマX線源が有望視さ
れている。
プラズマX線源として、特公昭57−191948号等
にて提案されているように、液体金属を用いた真空ギャ
ップ式のものがある。
すなわち、第3図に示すように、端板1.2並びに絶縁
円筒から成る真空容器15の中に、端板1.2をそれぞ
れ貫通するように電極4.5が一定の間隙をもって対峙
させられて設けられている。
電極4.5は、通常、融点のきわめて高いタングステン
(W)などで構成されている。i[Ei4の外側には、
先端部が電極4の先端部と細隙をもって同軸状に狭窄さ
れた基底部を有する円筒部6が設けられ、その内側には
、ガリウム(G−)などの液体金属が満たされている。
電極4,5には図示していない光電装置ならびにコンデ
ンサ10.抵抗11、スイッチ12.13からなるパル
ス大電流電源16が接続されているう X線発生にあたっては、まずスイッチ12を閉じてコン
デンサ10を光電し、光電完了後にスイッチ12を開放
し、引き続いてスイッチ13を閉じる。
ここで、電極4の先端部では、液体金属のガリウムが細
隙からにじみ出し、表面張力にょシ液滴状となって先端
についている。従って、スイッチ13の閉成により高電
圧がこの液滴状の液体金属と電極5との間に実質印加さ
れることになる。この間の耐電圧値は、ただちに放電が
生じるような間隙長に設定されているのですぐに放電が
生じる7この放電回路はコンデンサ1oの短終回路を形
成するので、電流の立ち上り時間が1μs程度と非常に
早く、また得られる電流値もal 00 kAのオーダ
となる。そのため、電極4,5間の放電アークにはzピ
ンチ現象が生じる。このZピンffJl象によシ、アー
クプラズマは非常に高温に加熱され、アークプラズマ中
の原子から特性XA19が放出されるようになる。
この特性X線9は、電極5の軸中心部に設けられた開口
部2oに連通しているX線取出口14に設けられた開口
部ラム(B、)窓21を介してマスク17でおおわれた
シリコンウェーハに導びがれて露光する。
ところで、この時アークプラズマを形成しているガリウ
ム金属蒸気は、X線9と同様に開口部20を通ってベリ
リウム窓21へと拡散してきてこの窓21に付着する。
従って、露光が繰返されるたびにベリリウム21に付着
するガリウム金属の景は蓄積されることになシ、やがて
液滴19となってベリリウム窓21上に析出する。その
結果、この液滴19によってX線フィルタ窓としてのベ
リリウム窓21が遮蔽され、マスクパターンが正しくウ
ェーハに転写されなくなるという欠点がめった。
〔発明の目的〕
本発明の目的はガリウム金属が、X線フィルタ窓に付着
するのを防止し、常に良好な転写パターンの得られるX
S源を提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明は、X線取出口のX線フィルタ窓を水平方向に対
して傾斜を有する平面もしくは曲面にして構成したもの
である。
〔発明の実施例〕
以下、実施例を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す図であり、X線取出口
14に設けられたべIJ IJウム窓21は、水平方向
に対しである傾斜をもって設置されている。
このため、液滴状となった液体金属(G1)は低い方に
移動し、この窓21に連通した管23を通って貯留室2
2へと流れて行く。この結果、ベリリウム窓21の上に
液滴状の液体金X(O,)が蓄積されることが無くな軒
常に良好なパターン転写が可能となる。
第2図は、本発明の他の実施例を示す図である。
この実施例ではベリリウム膜21を周囲を低くした曲面
として構成している。この場合も、ベリリウム膜21に
付いた液体金属は低い位置の周囲部へ移動し、これに連
通した管23を通って貯留室22へと流れていく。この
結果、第1図の実施例と全く同様の効果を得ることがで
きる。なお、X線フィルタ窓はベリリウムに限定されな
い。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明では、X線フィルタ窓を水平
方向に対して傾斜を有する平面もしくは曲面にして構成
したものでめるから、この窓に液体金属の液滴かたまる
ことが無くなり、X線リングラフィ装置においては常に
良好なパターン転写が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実、施例を示す図、第2図は本発明
の他の実施例を示す図、第3図は従来装置の構成を示す
図である。 4.5・・・電極、15・・・真空容器、18・・・ウ
ェーハ、21・・・窓、22・・・貯留室。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空容器と該真空容器内に収納された少なくとも一
    対の電極を有し、該電極の少なくとも一方は液体金属ま
    たは液体金属を含む材料で構成され、これら電極間の放
    電によつてX線フィルタ窓を介してX線を取り出すX線
    源において、前記X線フィルタ窓を水平方向に対して傾
    斜を有する平面もしくは曲面として構成したことを特徴
    とするX線源。 2、真空容器と該真空容器内に収納された少なくとも一
    対の電極を有し、該電極の少なくとも一方は液体金属ま
    たは液体金属を含む材料で構成され、これら電極間の放
    電によつてX線フィルタ窓を介してX線を取り出すX線
    源において、前記X線フィルタ窓を水平方向に対して傾
    斜を有する平面もしくは曲面として構成し、かつ該X線
    取り出し窓に連通する液体金属貯留室を設けたことを特
    徴とするX線源。
JP59222126A 1984-10-24 1984-10-24 X線源 Pending JPS61101941A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59222126A JPS61101941A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 X線源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59222126A JPS61101941A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 X線源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61101941A true JPS61101941A (ja) 1986-05-20

Family

ID=16777568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59222126A Pending JPS61101941A (ja) 1984-10-24 1984-10-24 X線源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61101941A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02253598A (ja) * 1989-03-27 1990-10-12 Nichicon Corp X線発生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02253598A (ja) * 1989-03-27 1990-10-12 Nichicon Corp X線発生装置

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