JPH02253598A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPH02253598A JPH02253598A JP1074604A JP7460489A JPH02253598A JP H02253598 A JPH02253598 A JP H02253598A JP 1074604 A JP1074604 A JP 1074604A JP 7460489 A JP7460489 A JP 7460489A JP H02253598 A JPH02253598 A JP H02253598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- pressure
- rays
- gas
- thin plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 32
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 33
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 4
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、集積回路露光用光源あるいはＸ線顕微鏡用光
源としてのＸ線発生装置に関するものである。
源としてのＸ線発生装置に関するものである。
従来の技術
高出力の軟Ｘ線を得ようとするＸ線発生装置には、ガス
パフ式・２ピンチ方式（例えば、特願昭６１−１２１０
５号）、プラズマフォーカス方式（例えば、特公昭６１
−１１４４４８号公報）、レーザープラズマ方式（例え
ば、特公昭６１−１５３９３５号公報）などのプラズマ
Ｘ線源やシンクロトロン放射光（Ｓ。
パフ式・２ピンチ方式（例えば、特願昭６１−１２１０
５号）、プラズマフォーカス方式（例えば、特公昭６１
−１１４４４８号公報）、レーザープラズマ方式（例え
ば、特公昭６１−１５３９３５号公報）などのプラズマ
Ｘ線源やシンクロトロン放射光（Ｓ。
Ｒ）などがある。
これらの技術は一様にそのＸ線発生部が真空または低気
圧の容器中に存在する特徴を有し、発生したＸ線は薄板
で構成されたＸ線取出窓を透してＸ線発生装置外部の使
用雰囲気中に取り出される。
圧の容器中に存在する特徴を有し、発生したＸ線は薄板
で構成されたＸ線取出窓を透してＸ線発生装置外部の使
用雰囲気中に取り出される。
このＸ線取出窓を構成する薄板にはＸ線透過率の優れた
物質やＸ線と薄板の相互作用を少なくするために極めて
薄いフィルムが使用され、またＸ線取出窓には容器内外
の差圧に耐えうる機械的強度が必要とされる。
物質やＸ線と薄板の相互作用を少なくするために極めて
薄いフィルムが使用され、またＸ線取出窓には容器内外
の差圧に耐えうる機械的強度が必要とされる。
さらにＸ線発生部がプラズマＸ線源であるようなＸ線発
生装置では、プラズマが高温・高密度状態を経た後、崩
壊する際に発生するイオン、中性粒子、電子などの高速
ガス流による衝撃圧をＸ線取出窓が受けることになり、
この衝撃圧によって破壊しないような機械的強度もＸ線
取出窓には要求される。
生装置では、プラズマが高温・高密度状態を経た後、崩
壊する際に発生するイオン、中性粒子、電子などの高速
ガス流による衝撃圧をＸ線取出窓が受けることになり、
この衝撃圧によって破壊しないような機械的強度もＸ線
取出窓には要求される。
このようにＸ線取出窓には、高出力のＸ線をＸ線発生装
置外部に取り出すための高いＸ線透過性と十分な機械的
な耐圧強度が必要であり、これらの性能を得るための工
夫がされている。これらの技術は例えば特公昭６１−１
６３５４７号公報、特公昭６２−２８５３５２号公報な
どがある。
置外部に取り出すための高いＸ線透過性と十分な機械的
な耐圧強度が必要であり、これらの性能を得るための工
夫がされている。これらの技術は例えば特公昭６１−１
６３５４７号公報、特公昭６２−２８５３５２号公報な
どがある。
発明が解決しようとする問題点
Ｘ線取出窓にはまず基本的にＸ線発生装置外で大きいＸ
線照度を得るための高いＸ線透過性と真空容器内外の静
的な差圧に耐えるための十分な機械的強度が必要であり
、さらにＸ線発生部がプラズマＸ線源である場合には、
これらに加えてプラズマからの高速ガス流による衝撃圧
に耐える構造になっていなければならない。
線照度を得るための高いＸ線透過性と真空容器内外の静
的な差圧に耐えるための十分な機械的強度が必要であり
、さらにＸ線発生部がプラズマＸ線源である場合には、
これらに加えてプラズマからの高速ガス流による衝撃圧
に耐える構造になっていなければならない。
ここで、Ｘ線取出窓を構成する薄板の厚さとＸ線透過率
について、Ｘ線透過率の高いベリリウムを例に考えると
、１０μｍのベリリウム膜のＸ線透過率は波長１２Ａの
Ｘ線の場合的３８％となり、また−船釣に厚みの増加と
ともにＸ線透過率は指数関数的に悪くなる。そこで、取
り出すＸ線の効率を上げるためには、薄板の厚さは可能
な限り薄くすることが必要であるが、これと相反して薄
板の厚みを薄くすると、その機械的な強度が低くなって
しまう。また十分薄板を薄くしようとする場合には、補
強のためにメツシュやリムを用いてその機械的強度を高
める工夫もなされていた。しかしこの場合には補強用の
メツシュやリムにＸ線が吸収されてしまう難点があり、
Ｘ線透過率と機械的強度の双方を同時に高めるには改良
が必要であった。
について、Ｘ線透過率の高いベリリウムを例に考えると
、１０μｍのベリリウム膜のＸ線透過率は波長１２Ａの
Ｘ線の場合的３８％となり、また−船釣に厚みの増加と
ともにＸ線透過率は指数関数的に悪くなる。そこで、取
り出すＸ線の効率を上げるためには、薄板の厚さは可能
な限り薄くすることが必要であるが、これと相反して薄
板の厚みを薄くすると、その機械的な強度が低くなって
しまう。また十分薄板を薄くしようとする場合には、補
強のためにメツシュやリムを用いてその機械的強度を高
める工夫もなされていた。しかしこの場合には補強用の
メツシュやリムにＸ線が吸収されてしまう難点があり、
Ｘ線透過率と機械的強度の双方を同時に高めるには改良
が必要であった。
さらに薄板はＸ線の吸収やＸ線発生部がプラズマＸ線源
である場合、高速ガス流によって熱を帯びてしまうこと
から薄板の冷却法も開発する必要があった。
である場合、高速ガス流によって熱を帯びてしまうこと
から薄板の冷却法も開発する必要があった。
問題点を解決するための手段
本発明のＸ線発生装置は上記の問題点を解決したもので
ある。
ある。
すなわち、
（１）Ｘ線発生部と、薄板を透してＸ線を放出するＸ線
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出窓
が少なくとも一枚以上の曲率を持った薄板で構成され、
かつこの少なくとも一枚の薄板の凸面をＸ線源側に向け
たことを特徴とするＸ線発生装置。
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出窓
が少なくとも一枚以上の曲率を持った薄板で構成され、
かつこの少なくとも一枚の薄板の凸面をＸ線源側に向け
たことを特徴とするＸ線発生装置。
（２）Ｘ線発生部と、薄板を透してＸ線を放出するＸ線
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出窓
が少なくとも一枚以上の円筒殻、楕円筒殻、サイクロイ
ド筒殻、放物線筒殻、カテナリ筒殻などのいずれかの曲
面の一部を持つた薄板で構成されていることを特徴とす
るＸ線発生装置。
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出窓
が少なくとも一枚以上の円筒殻、楕円筒殻、サイクロイ
ド筒殻、放物線筒殻、カテナリ筒殻などのいずれかの曲
面の一部を持つた薄板で構成されていることを特徴とす
るＸ線発生装置。
（３）Ｘ線発生部と、薄板を透してＸ線を放出するＸ線
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記薄板を複数
枚配置し、かつこの薄板間を気密に保持する圧力ＩＩＩ
室を設け、Ｘ線の放出時に発生する圧力を複数枚の薄板
に分配させることを特徴とするＸ線発生装置である。
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記薄板を複数
枚配置し、かつこの薄板間を気密に保持する圧力ＩＩＩ
室を設け、Ｘ線の放出時に発生する圧力を複数枚の薄板
に分配させることを特徴とするＸ線発生装置である。
なお、上記圧力緩衝室は複数枚の薄板の間に真空容器と
Ｘ線取出窓によって隔てられた外部使用雰囲気との差圧
の中間の圧力に予め設定されており、かつＸ線透過率の
高い気体が封入される。また薄板の形状は薄板が受ける
主たる圧力に対して凹面となるよう対向させる。さらに
圧力緩衝室内の気体を所定の圧力に維持しながら置換す
ることにより、Ｘ線の吸収による発熱や高速ガス流によ
る加熱を受ける薄板を冷却することも可能である。
Ｘ線取出窓によって隔てられた外部使用雰囲気との差圧
の中間の圧力に予め設定されており、かつＸ線透過率の
高い気体が封入される。また薄板の形状は薄板が受ける
主たる圧力に対して凹面となるよう対向させる。さらに
圧力緩衝室内の気体を所定の圧力に維持しながら置換す
ることにより、Ｘ線の吸収による発熱や高速ガス流によ
る加熱を受ける薄板を冷却することも可能である。
そしてこの圧力１１’ｌｌ室の状態（ガス圧、ガス流量
、温度、光量など）を監視することにより、薄膜の破損
など検知することもできる。
、温度、光量など）を監視することにより、薄膜の破損
など検知することもできる。
作用
本発明におけるＸ線取出窓は、Ｘ線照射面での照度を損
なう補助的支持物を用いることなく、十分に耐圧的に堅
牢な構造を極めて薄い薄膜で構成することができるので
、高い効率でＸ線取り出しができ、また薄膜を冷却でき
るためにＸ線発生装置の長時間運転が可能である。
なう補助的支持物を用いることなく、十分に耐圧的に堅
牢な構造を極めて薄い薄膜で構成することができるので
、高い効率でＸ線取り出しができ、また薄膜を冷却でき
るためにＸ線発生装置の長時間運転が可能である。
実施例
以下、本発明のＸ線発生装置の実施例を第１因〜第６図
について説明する。
について説明する。
第１図はＸ線発生装置の一実施例の説明図で、１は真空
容器、２は真空容器１に装着されたＸ線取出窓、３は真
空容器１内に設置されたＸ線発生部、４はプラズマ（Ｘ
線源）、５はＸ線、６は陽イオン、中性粒子、電子など
の高速ガス流、７は真空容器１内部の雰囲気、８は照射
面雰囲気、９は照射面、１０はＸ線取出窓２の薄板（例
えばベリリウム薄板）、１１は圧力緩衝室、１２は圧力
緩衝室１１内部の雰囲気（例えばヘリウムなどのＸ線透
過率の高いガス）、１３は圧力調整器、１４はガスボン
ベ、１５はガス流入管、１６はガス流出管、１７は光フ
ァイバー、１Ｂは光検知器である・ 真空容器１内に設置されたＸ線発生部３で生成されたプ
ラズマ４からＸ線５が放射されるとともにプラズマ崩壊
時に高速ガス流６が放出される。
容器、２は真空容器１に装着されたＸ線取出窓、３は真
空容器１内に設置されたＸ線発生部、４はプラズマ（Ｘ
線源）、５はＸ線、６は陽イオン、中性粒子、電子など
の高速ガス流、７は真空容器１内部の雰囲気、８は照射
面雰囲気、９は照射面、１０はＸ線取出窓２の薄板（例
えばベリリウム薄板）、１１は圧力緩衝室、１２は圧力
緩衝室１１内部の雰囲気（例えばヘリウムなどのＸ線透
過率の高いガス）、１３は圧力調整器、１４はガスボン
ベ、１５はガス流入管、１６はガス流出管、１７は光フ
ァイバー、１Ｂは光検知器である・ 真空容器１内に設置されたＸ線発生部３で生成されたプ
ラズマ４からＸ線５が放射されるとともにプラズマ崩壊
時に高速ガス流６が放出される。
そしてこの高速ガス流６はＸ線取出窓２にも飛来する。
Ｘ線５はＸ線取出窓２を透して照射面雰囲気日中に取り
出して照射面９に照射される。圧力緩衝室１１には真空
容器１の内部の雰囲気７と照射面雰囲気８の差圧の中間
の圧力にヘリウムなどのＸ線透過率の高いガスを漬たし
た雰囲気１２をつくる。
出して照射面９に照射される。圧力緩衝室１１には真空
容器１の内部の雰囲気７と照射面雰囲気８の差圧の中間
の圧力にヘリウムなどのＸ線透過率の高いガスを漬たし
た雰囲気１２をつくる。
この圧力緩衝室１１はＸ線取出窓２の例えばベリリウム
などの薄板１０を圧力ｍ画室１１の内部方向に凹面にな
るように配置して真空容器１の内外に対して気密に保持
されていて、上記ヘリウムガス１２を圧力調整器１３に
よって、ガス圧が一定に維持されながらガス流入管１５
とガス流出管１６を通じて置換される。
などの薄板１０を圧力ｍ画室１１の内部方向に凹面にな
るように配置して真空容器１の内外に対して気密に保持
されていて、上記ヘリウムガス１２を圧力調整器１３に
よって、ガス圧が一定に維持されながらガス流入管１５
とガス流出管１６を通じて置換される。
本実施例では圧力緩衝室１１内に光ファイバー１７を配
し、ベリリウムなどの薄板１０が破損した場合に真空容
器１内のＸ線発生部３から漏れ出す可視光や紫外光の存
在を外部の光検知器１８で確認することによって、外部
から検知することができる。
し、ベリリウムなどの薄板１０が破損した場合に真空容
器１内のＸ線発生部３から漏れ出す可視光や紫外光の存
在を外部の光検知器１８で確認することによって、外部
から検知することができる。
上記第１図に示す実施例において、光検知器で検知する
方式のほかに、圧力緩衝室１１内に流入出するガスの流
量を測定する方式、圧力緩衝室１１内の圧力や真空容器
１内の圧力を測定する方式、圧力緩衝室１１内の温度を
測定する方式などがある。
方式のほかに、圧力緩衝室１１内に流入出するガスの流
量を測定する方式、圧力緩衝室１１内の圧力や真空容器
１内の圧力を測定する方式、圧力緩衝室１１内の温度を
測定する方式などがある。
第２図〜第５図は本発明のＸ線発生装置にかかるＸ線取
出窓の他の実施例の説明図で、第２図は圧力緩衝室を２
段に並置した場合で、ＩＩＡは低圧圧力緩衝室、１１８
は高圧圧力緩衝室、１２Ａは低圧雰囲気、１２Ｂは高圧
雰囲気、１３Ａは低圧圧力調整器、１３８は高圧圧力調
整器、＋５Ａは低圧ガス流入管、１５Ｂは高圧ガス流入
管、１６Ａは低圧ガス流出管、１６８は高圧ガス流出管
である。
出窓の他の実施例の説明図で、第２図は圧力緩衝室を２
段に並置した場合で、ＩＩＡは低圧圧力緩衝室、１１８
は高圧圧力緩衝室、１２Ａは低圧雰囲気、１２Ｂは高圧
雰囲気、１３Ａは低圧圧力調整器、１３８は高圧圧力調
整器、＋５Ａは低圧ガス流入管、１５Ｂは高圧ガス流入
管、１６Ａは低圧ガス流出管、１６８は高圧ガス流出管
である。
第３図は第１図において、Ｘ線発生部からの衝撃圧がな
いシンクロトロン放射光に適用する場合で、Ｘ線源側に
薄板１０の凸面を対向させたものである。
いシンクロトロン放射光に適用する場合で、Ｘ線源側に
薄板１０の凸面を対向させたものである。
第４図は第１図において、圧力ｌｌ！衝室画室成しない
場合で、真空容器の雰囲気が一枚の薄板１０で外部雰囲
気と隔てられ、衝撃圧はＸ線源に近い薄板１０で緩衝す
るようにしたものである。
場合で、真空容器の雰囲気が一枚の薄板１０で外部雰囲
気と隔てられ、衝撃圧はＸ線源に近い薄板１０で緩衝す
るようにしたものである。
第５図は薄板１０が１枚のみの場合を示す。
薄板１０に曲率を持たせることによる効果は次のように
説明できる（第６図参照。） 予め曲率を持たせた薄板（曲げモーメントとセン断圧縮
応力を無視する）に対して均等な内圧が加わる時、この
曲面の微小部分について釣合の関係より、 σｔｄθ＝
Ｐｄｓ。
説明できる（第６図参照。） 予め曲率を持たせた薄板（曲げモーメントとセン断圧縮
応力を無視する）に対して均等な内圧が加わる時、この
曲面の微小部分について釣合の関係より、 σｔｄθ＝
Ｐｄｓ。
Ｒｄｓ
（Ｐ：圧力 Ｒ：曲率半径 Ｌ
σ：引張り応力）が成立ち、
程引張り応力が小さい。
また応力歪みについては、
：薄板の厚み
曲率半径が小さい
と ＝
（ε：歪み Ｅ：弾性係数）の関係があり、これら上記
２式をまとめると、 となり、曲率半径が小さい程歪みが小さくなる。
２式をまとめると、 となり、曲率半径が小さい程歪みが小さくなる。
上述のことから、圧力容器の壁面は内圧によって変形し
て引張り応力を生じるので、引張り応力を１板の強度よ
りも小さくシ、歪み量が薄板を束縛した形状と束縛の構
造に対して許容できる範囲となるように曲率半径を定め
れば、曲率を持たせた薄板によっての耐圧構造が決まる
。この時、上記（１）式、（３）式から明らかなように
薄板が平面に近い程、引張り応力が増大し、歪みが大き
くなる。
て引張り応力を生じるので、引張り応力を１板の強度よ
りも小さくシ、歪み量が薄板を束縛した形状と束縛の構
造に対して許容できる範囲となるように曲率半径を定め
れば、曲率を持たせた薄板によっての耐圧構造が決まる
。この時、上記（１）式、（３）式から明らかなように
薄板が平面に近い程、引張り応力が増大し、歪みが大き
くなる。
そして歪みの増大に従って圧力容器の一部として取付け
られた１板は、支持されていることによる束縛の外力が
加わって耐圧力性は著しく低下することになる。つまり
、予め曲率を有する薄板で必要な耐圧力性能を得るため
には、（１）式より求まる曲率半径と引張り応力の関係
を考慮することと、（３）式より求まる歪み量が薄板を
支持している形状に対して無理な応力をかけないと言う
条件が不可欠と言える。
られた１板は、支持されていることによる束縛の外力が
加わって耐圧力性は著しく低下することになる。つまり
、予め曲率を有する薄板で必要な耐圧力性能を得るため
には、（１）式より求まる曲率半径と引張り応力の関係
を考慮することと、（３）式より求まる歪み量が薄板を
支持している形状に対して無理な応力をかけないと言う
条件が不可欠と言える。
またこの曲面が本発明の特許請求の範囲にあるような円
筒殻またはそれに類似する形状である場合には、球から
に類似する形状に対して有利な点がある。
筒殻またはそれに類似する形状である場合には、球から
に類似する形状に対して有利な点がある。
（１）薄板を球殻状に形成する必要がなく、入手しやす
い平面の薄板より容易に形状を決められる。
い平面の薄板より容易に形状を決められる。
（２）整形することなく平面の薄板より球殻を形成する
と曲面が波打つたり、あるいは座屈が生じたりするため
、強度が低くなりやすいが、円筒殻形状の場合にはこれ
はない。
と曲面が波打つたり、あるいは座屈が生じたりするため
、強度が低くなりやすいが、円筒殻形状の場合にはこれ
はない。
発明の効果
本発明のＸ線発生装置は上述した構造のＸ線取出窓を備
えているので、従来にない堅牢な真空シールが極めて薄
い薄板によって可能となり、また同程度の耐圧強度を有
するＸ線取出窓を用いたＸ線発生装置に比べてＸ線取り
出しの効率が高くなり、同一輝度のＸ線源に適用すれば
照射面での照度をより大きくとることができる。
えているので、従来にない堅牢な真空シールが極めて薄
い薄板によって可能となり、また同程度の耐圧強度を有
するＸ線取出窓を用いたＸ線発生装置に比べてＸ線取り
出しの効率が高くなり、同一輝度のＸ線源に適用すれば
照射面での照度をより大きくとることができる。
またＸ線透過領域に補助的な支持物を一切用いないＸ線
取出窓を用いるので、照射面でのＸ線強度が均一になり
、さらにこのＸ線取出窓には薄板の冷却機構と破損検知
器を備えているため、Ｘ線発生装置の長時間運転とその
安全性に寄与するなどの効果があり、工業的ならびに実
用的価値大である。
取出窓を用いるので、照射面でのＸ線強度が均一になり
、さらにこのＸ線取出窓には薄板の冷却機構と破損検知
器を備えているため、Ｘ線発生装置の長時間運転とその
安全性に寄与するなどの効果があり、工業的ならびに実
用的価値大である。
第１図は本発明のＸ線発生装置の一実施例の説明図、第
２図〜第５図は本発明のＸ線発生装置にかかるＸ線取出
窓部の他の実施例の説明図、第６図は曲率を持たせた薄
板で、（イ）は説明用斜視図、（ロ）は説明用平面図で
ある。 １：真空容器 ２：Ｘ線取出窓 ３：Ｘ線発生部 ４：
プラズマ（Ｘ線源） ５：Ｘ線 ６：高速ガス流 ７：
真空容器内の雰囲気 ８：照射面雰囲気 ９：照射面
１０：薄板 １１：圧力緩衝室 １１Ａ：低圧圧力緩衝
室 １１Ｂ＝高圧圧力緩衝室 １２：圧力緩衝室内の雰
囲気 １２Ａ：低圧雰囲気 １２Ｂ：高圧雰囲気 １３
：圧力調整器 １３Ａ：低圧圧力調整器 １３Ｂ＝高圧
圧力調整器 １４：ガスボンベ １５：ガス流入管 １
５Ａ：低圧ガス流入管 １５Ｂ＝高圧ガス流入管 １６
：ガス流出管 １６Ａ：低圧ガス流出管 １６Ｂ＝高圧
ガス流出管 １７：光ファイバー １８＝光検出器
２図〜第５図は本発明のＸ線発生装置にかかるＸ線取出
窓部の他の実施例の説明図、第６図は曲率を持たせた薄
板で、（イ）は説明用斜視図、（ロ）は説明用平面図で
ある。 １：真空容器 ２：Ｘ線取出窓 ３：Ｘ線発生部 ４：
プラズマ（Ｘ線源） ５：Ｘ線 ６：高速ガス流 ７：
真空容器内の雰囲気 ８：照射面雰囲気 ９：照射面
１０：薄板 １１：圧力緩衝室 １１Ａ：低圧圧力緩衝
室 １１Ｂ＝高圧圧力緩衝室 １２：圧力緩衝室内の雰
囲気 １２Ａ：低圧雰囲気 １２Ｂ：高圧雰囲気 １３
：圧力調整器 １３Ａ：低圧圧力調整器 １３Ｂ＝高圧
圧力調整器 １４：ガスボンベ １５：ガス流入管 １
５Ａ：低圧ガス流入管 １５Ｂ＝高圧ガス流入管 １６
：ガス流出管 １６Ａ：低圧ガス流出管 １６Ｂ＝高圧
ガス流出管 １７：光ファイバー １８＝光検出器
Claims (3)
- （１）Ｘ線発生部と、薄板を透してＸ線を放出するＸ線
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出窓
が少なくとも一枚以上の曲率を持った薄板で構成され、
かつこの少なくとも一枚の薄板の凸面をＸ線源側に向け
たことを特徴とするＸ線発生装置。 - （２）Ｘ線発生装置と、薄板を透してＸ線を放出するＸ
線取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記Ｘ線取出
窓が少なくとも一枚以上の円筒殻、楕円筒殻、サイクロ
イド筒殻、放物線筒殻、カテナリ筒殻などのいずれかの
曲面の一部を持った薄板で構成されていることを特徴と
するＸ線発生装置。 - （３）Ｘ線発生部と、薄板を透してＸ線を放出するＸ線
取出窓を備えたＸ線発生装置において、上記薄板を複数
枚配置し、かつこの薄板間を気密に保持する圧力緩衝室
を設け、Ｘ線の放出時に発生する圧力を複数枚の薄板に
分配させることを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1074604A JP2771836B2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1074604A JP2771836B2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Ｘ線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02253598A true JPH02253598A (ja) | 1990-10-12 |
| JP2771836B2 JP2771836B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=13551935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1074604A Expired - Fee Related JP2771836B2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2771836B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6052429A (en) * | 1997-02-20 | 2000-04-18 | Dkk Corporation | X-ray analyzing apparatus |
| JP2012085850A (ja) * | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Shikoku Kakoki Co Ltd | 紫外線殺菌装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101941A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-20 | Hitachi Ltd | Ｘ線源 |
| JPS61163547A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線取り出し窓 |
-
1989
- 1989-03-27 JP JP1074604A patent/JP2771836B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101941A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-20 | Hitachi Ltd | Ｘ線源 |
| JPS61163547A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Ｘ線取り出し窓 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6052429A (en) * | 1997-02-20 | 2000-04-18 | Dkk Corporation | X-ray analyzing apparatus |
| JP2012085850A (ja) * | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Shikoku Kakoki Co Ltd | 紫外線殺菌装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2771836B2 (ja) | 1998-07-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Granot et al. | Synchrotron self-absorption in gamma-ray burst afterglow | |
| Pikel'Ner | A Mechanism for the Formation of Chromospheric Spicules. | |
| US4034251A (en) | Transmission x-ray tube | |
| US3344276A (en) | Radiographic screen having channels filled with a material which emits photons when energized by gamma or x-rays | |
| Martinez et al. | Hydro-instability growth of perturbation seeds from alternate capsule-support strategies in indirect-drive implosions on National Ignition Facility | |
| KR101923837B1 (ko) | 양극, 및 이를 이용한 x선 발생관, x선 발생 장치, 및 방사선촬영 시스템 | |
| JP2008504533A (ja) | ターゲットアセンブリ | |
| US7515688B2 (en) | Anode module for a liquid metal anode X-ray source, and X-ray emitter comprising an anode module | |
| Felten et al. | The M87 Jet. II. Temperature, Ionization, and X-Radiation in a Secondary-Production Model | |
| US3005102A (en) | Self luminous lamps | |
| JPH02253598A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| Hatchett et al. | Hydrodynamics of conically guided fast ignition targets | |
| US3566125A (en) | Radiation excited light source | |
| Kraft et al. | The hot gas environment of the radio galaxy 3C 388: Quenching the accumulation of cool gas in a cluster core by a nuclear outburst | |
| US3130562A (en) | Cryogenic pumping apparatus | |
| US4398294A (en) | High power nuclear photon pumped laser | |
| JPS6045500A (ja) | 真空密な容器用の照射窓 | |
| CN101138066A (zh) | 冷阴极压力传感器 | |
| JPH02199188A (ja) | 刺激可能の記憶発光体を有する記憶発光板 | |
| JPH01262500A (ja) | Ｘ線透過膜 | |
| Pupin | Röntgen rays | |
| Pert | Extreme ultraviolet laser action in plasmas | |
| Fincke et al. | Close-in nosecone configuration and blast damage in point backlight x-ray radiography | |
| Mansfield et al. | Beam rotation and shear in a large electron beam diode | |
| Katsova et al. | An analysis of extra-atmospheric observations of Capella |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |