JPS61198597A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
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- JPS61198597A JPS61198597A JP3906785A JP3906785A JPS61198597A JP S61198597 A JPS61198597 A JP S61198597A JP 3906785 A JP3906785 A JP 3906785A JP 3906785 A JP3906785 A JP 3906785A JP S61198597 A JPS61198597 A JP S61198597A
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- electrode
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- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 21
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、X線発生装置に係シ、特に大規模集積回路製
造に用いるX線リソグラフィ用X線発生装置に関する。
造に用いるX線リソグラフィ用X線発生装置に関する。
近年、集積回路関係の技術的進歩は極めて急速であシ、
リングラフィ装置の加iパターンの最小幅は、サブミク
ロンの領域に入ろうとしている。
リングラフィ装置の加iパターンの最小幅は、サブミク
ロンの領域に入ろうとしている。
このサブミクロンの領域では、もはや光による露光では
鮮明な加工を施すことが困難なので、軟X線を使ったリ
ングラフィ装置が必要となっている。そこで、強力な軟
X線発生源が求められている。
鮮明な加工を施すことが困難なので、軟X線を使ったリ
ングラフィ装置が必要となっている。そこで、強力な軟
X線発生源が求められている。
軟X線発生源としては、対陰極型X線管、シンクロトロ
ン放射光、高温プラズマからのX線源などがあるが、対
陰極型は輝度が弱く、シンクロトロンを用いたものは余
)にも設備が高価格となるために、プラズマX線源が有
望視されている。
ン放射光、高温プラズマからのX線源などがあるが、対
陰極型は輝度が弱く、シンクロトロンを用いたものは余
)にも設備が高価格となるために、プラズマX線源が有
望視されている。
□プラズマX線源として、真空ギャップ式によシプラズ
マを発生させる従来例が存在する(特開昭57−191
948号)。
マを発生させる従来例が存在する(特開昭57−191
948号)。
この真空ギャップ式のプラズマX線発生源を、第2図を
用いて説明する。
用いて説明する。
図において、端板lおよび一方を遮かれた金属円筒2な
らびに絶縁円筒3からなる真空容器4の中に、前記端板
1、円筒2に接合して陽極電極5と陰極電極6が間隙を
もって対向配置されている。
らびに絶縁円筒3からなる真空容器4の中に、前記端板
1、円筒2に接合して陽極電極5と陰極電極6が間隙を
もって対向配置されている。
上記陽極電極5は、通常特性x線を発生する金属で構成
されている。
されている。
真空容器4には、図示されていない真空ポンプと排気パ
イプ7が連結されている。
イプ7が連結されている。
上記端板1および円筒2は、コンデンサ8、スイッチ9
、抵抗10、整流器11ならびに交流電源12からなる
パルス大電流電源13が接続されている。
、抵抗10、整流器11ならびに交流電源12からなる
パルス大電流電源13が接続されている。
X線発生に当っては、まずスイッチ9を閉じてコンデン
サ8を充電し、充電完了後スイッチ9を開放して引続い
てスイッチ14を閉じる。スイッチ14の閉合によシ高
電圧が電極5.6間に印加されることになり、この間の
帯、電圧値は即放電が生じるような間隙長に設定されて
いるので、すぐに°電極5と電極6の間に放電が生じる
ことになる。
サ8を充電し、充電完了後スイッチ9を開放して引続い
てスイッチ14を閉じる。スイッチ14の閉合によシ高
電圧が電極5.6間に印加されることになり、この間の
帯、電圧値は即放電が生じるような間隙長に設定されて
いるので、すぐに°電極5と電極6の間に放電が生じる
ことになる。
上記放電回路は、コンデンサの直接短絡となるので、電
流の立ち上が9時間が1μ派程度と非常に速く、得られ
る電流値も数百KAのオーダである。このため、電極5
と電極6の間の放電アークにはZピンチ現象か生じるこ
とになる。このZピンチ現象では1、非常に高温なプラ
ズマが発生するので、プラズマ中の金属蒸気原子のに穀
やL穀の電子が穀外にたたき出され、その空孔に外殻の
電子が落ち込む現象が生じる。この現象により特性X線
15力門放出される。この放出された特性X線は透過窓
16を通過して取り出され、所望のシリコンウェハ等全
露光するのに使用される。
流の立ち上が9時間が1μ派程度と非常に速く、得られ
る電流値も数百KAのオーダである。このため、電極5
と電極6の間の放電アークにはZピンチ現象か生じるこ
とになる。このZピンチ現象では1、非常に高温なプラ
ズマが発生するので、プラズマ中の金属蒸気原子のに穀
やL穀の電子が穀外にたたき出され、その空孔に外殻の
電子が落ち込む現象が生じる。この現象により特性X線
15力門放出される。この放出された特性X線は透過窓
16を通過して取り出され、所望のシリコンウェハ等全
露光するのに使用される。
上記真空方式のプラズ、マX線源では、大きなパルス大
電流を得るために、通常、放電回路の低インダクタンス
を目的として、コンデンサが複数並列接続される必要が
ある。すなわち、第2図においてコンデンサ8は111
1ffiで表示しているが、実際にパルス大電流を得る
ためには、複数個並列に接続する必要がある。
電流を得るために、通常、放電回路の低インダクタンス
を目的として、コンデンサが複数並列接続される必要が
ある。すなわち、第2図においてコンデンサ8は111
1ffiで表示しているが、実際にパルス大電流を得る
ためには、複数個並列に接続する必要がある。
コンデンサを複数個並列に接続することは、コンデンサ
の放電に用いるスイッチが複数となシ、放電開始時にこ
の複数のスイッチを同時搬入させる必要がある。しかし
、n秒単位でスイッチを同時に搬入させるのは一般に困
難であシ、また、上記スイッチの使用に基づくスイッチ
間の摩耗によシ、機械的にスイッチの同時搬入ができな
いことも生じる。したがって、スイッチが同時に搬入し
ないと、各々のコンデンサの電流は個々に電極5゜6に
印加することになシ、電極5,6間に生じる電圧が変動
して、高い電圧を再現性よく印加することができないと
いう問題点がある。
の放電に用いるスイッチが複数となシ、放電開始時にこ
の複数のスイッチを同時搬入させる必要がある。しかし
、n秒単位でスイッチを同時に搬入させるのは一般に困
難であシ、また、上記スイッチの使用に基づくスイッチ
間の摩耗によシ、機械的にスイッチの同時搬入ができな
いことも生じる。したがって、スイッチが同時に搬入し
ないと、各々のコンデンサの電流は個々に電極5゜6に
印加することになシ、電極5,6間に生じる電圧が変動
して、高い電圧を再現性よく印加することができないと
いう問題点がある。
また、スイッチの消費電力は、xIi!発生装置の消費
電力とほぼ等しいので、X線発生の効率は、入力エネル
ギーに対して半減する問題点もある。
電力とほぼ等しいので、X線発生の効率は、入力エネル
ギーに対して半減する問題点もある。
本発明の目的は、真空容器内に対向配置された電極間に
、常に安定した嵩い電圧を印加することによって安定し
た放電が得られ、しかもエネルギー利用効率の良好なプ
ラズマX線発生装置を提供することにある。
、常に安定した嵩い電圧を印加することによって安定し
た放電が得られ、しかもエネルギー利用効率の良好なプ
ラズマX線発生装置を提供することにある。
本発明は、X線発生装置の真空容器内に対向配置される
電極の少なくとも一方に可動性手段を設けて、これらの
電極間の間隙長を可変とすることができることを特徴と
するX線発生装置である。
電極の少なくとも一方に可動性手段を設けて、これらの
電極間の間隙長を可変とすることができることを特徴と
するX線発生装置である。
゛ 上記本発明の構成において、可動性手段により、電
極間に高電圧を印加するコンデンサの充電時には、上記
電極の間隙長全放電しない値に設定し、コンデンサの充
電が終了したのちは、上記電極の間隙長を帯電圧間隙長
以下にさせることができる。
極間に高電圧を印加するコンデンサの充電時には、上記
電極の間隙長全放電しない値に設定し、コンデンサの充
電が終了したのちは、上記電極の間隙長を帯電圧間隙長
以下にさせることができる。
こうすることによって、電極自体にスイッチ作用を持た
せたことにな少、電極間で安定した放電が得られ、かつ
エネルギー利用効率の高い状態でX線を発生することが
できるものである。
せたことにな少、電極間で安定した放電が得られ、かつ
エネルギー利用効率の高い状態でX線を発生することが
できるものである。
〔発明の実施例〕
次に本発明の一実施例を添付図面に従って説明する。な
お、従来技術と対応する部分については、同一の符号を
付しその説明を省略する。
お、従来技術と対応する部分については、同一の符号を
付しその説明を省略する。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。
図において、真空容器4は端板1、絶縁円筒3、円筒2
、電極6に接して設けられたベロ、−ズ19、ベローズ
19に接続して設けられた端板18および端板18に接
続して設けられた絶縁円筒17によって構成されている
。
、電極6に接して設けられたベロ、−ズ19、ベローズ
19に接続して設けられた端板18および端板18に接
続して設けられた絶縁円筒17によって構成されている
。
円筒2の電極6側には、円筒2の端面に集電子部2aが
設けられ、この集電子部2aは電極6と摺動自在に嵌合
している。
設けられ、この集電子部2aは電極6と摺動自在に嵌合
している。
また上記円筒2には、絶縁物20を介して端板21が設
けられ、端板21の電極6の反対側には、支えフV−ム
22が設けられている。この支えフレーム22には内部
に操作機25が配設され、この操作機25は操作棒24
を介して電極6と連結している。
けられ、端板21の電極6の反対側には、支えフV−ム
22が設けられている。この支えフレーム22には内部
に操作機25が配設され、この操作機25は操作棒24
を介して電極6と連結している。
上記端板21には、電極間隙調整用ストツノ(21aが
設けられ、この上記操作棒24には大径部24aが設け
られている。
設けられ、この上記操作棒24には大径部24aが設け
られている。
X線発生に当っては、まずコンデンサ充電電圧に耐圧す
るように電極6を図面上方に可動させ、電極5と6の間
隙長を放電が開示しない間隙長にしておく。その後、ス
イッチ9を閉鎖して、コンデンサ8を充電する。なお、
このコンデンサ8は、複数個のコンデンサが並列に接続
されている。そして、電極5,60間隙長を調整するこ
とによシ、電極にスイッチ作用を持たせることができる
ために、コンデンサの各々に従来設けられたスイッチを
取シ除くことができる。このようにスイッチを取シ除く
ことによって、エネルギー効率を高めることができる。
るように電極6を図面上方に可動させ、電極5と6の間
隙長を放電が開示しない間隙長にしておく。その後、ス
イッチ9を閉鎖して、コンデンサ8を充電する。なお、
このコンデンサ8は、複数個のコンデンサが並列に接続
されている。そして、電極5,60間隙長を調整するこ
とによシ、電極にスイッチ作用を持たせることができる
ために、コンデンサの各々に従来設けられたスイッチを
取シ除くことができる。このようにスイッチを取シ除く
ことによって、エネルギー効率を高めることができる。
次に、放電完了後、スイッチ9を開き、電極6を図面下
方に移動させる。電極5と電極6の間隙長がストッパ2
1aによって予め設定さ□れた放電を開始する間隙長に
達すると、電極5と6の間で放電が生じ、パルス大電流
電源13からの)くルス太電流が供給されて特性X線が
発生されることになる。
方に移動させる。電極5と電極6の間隙長がストッパ2
1aによって予め設定さ□れた放電を開始する間隙長に
達すると、電極5と6の間で放電が生じ、パルス大電流
電源13からの)くルス太電流が供給されて特性X線が
発生されることになる。
本実施例では、電極間の間隙長をストッパ21aの長さ
の調整によって決定しているが、このようなストッパ2
1aおよび大径部24aを設けず、電極5に電極6を閉
合させてスイッチ作用を行わしめることもできる。この
場合、X線の発生は1〜2μ露であシ、電極6の電極5
に向う移動の速度を数10 cm /”aeeで行えば
、電極6が移動した状態でX線が発生しても、X線の発
生には影響を与えない。
の調整によって決定しているが、このようなストッパ2
1aおよび大径部24aを設けず、電極5に電極6を閉
合させてスイッチ作用を行わしめることもできる。この
場合、X線の発生は1〜2μ露であシ、電極6の電極5
に向う移動の速度を数10 cm /”aeeで行えば
、電極6が移動した状態でX線が発生しても、X線の発
生には影響を与えない。
一ヒ記操作機25の操作方式として、空気操作。
電磁操作等任意の方式を用いることができる。
なお、本実施例では、電極6に可動性手段を設けて、電
極6の位置を調整することによシミ極間の間隙長を可変
としたものであるが、可動性手段を電極5または電極5
,6の両方に設けることもできる。しかし、電極間の間
隙長の調整には、一方の電極にのみ可動性手段を設けた
方が望ましい。
極6の位置を調整することによシミ極間の間隙長を可変
としたものであるが、可動性手段を電極5または電極5
,6の両方に設けることもできる。しかし、電極間の間
隙長の調整には、一方の電極にのみ可動性手段を設けた
方が望ましい。
また、電極間の間隙長が調整できることは、使用によシ
ミ極5と6の摩耗が生じるが、この摩耗により発生する
虞れのあるX線発生位置のずれを電極間間隙長をストッ
パ21aを短かくすることによって、防止することがで
きる。
ミ極5と6の摩耗が生じるが、この摩耗により発生する
虞れのあるX線発生位置のずれを電極間間隙長をストッ
パ21aを短かくすることによって、防止することがで
きる。
以上説明したように、本発明に係るX線発生装置では、
真空容器内に対向配設された電極間の間隙長を調整する
ことができるために、この間隙長の調整によって電極間
に放電を起こさせることができる。したがって、パルス
大電流電源において並列に接続された各々のコンデンサ
にスイッチを設ける必要がないために、複数のコンデン
サの放電特性のばらつきが無視でき、安定した電極間の
放電が得られる。したがって、この放電によって発生す
るX線は、常に高い強度で、再現性よく安定して供給さ
れることができる。また、各々のコンデンサにスイッチ
を設ける必要がないために、外部スイッチ自体のインビ
ーターンスがなくなり、低インダクタンス化につながり
、エネルギー効率が向上することになる。さらに、複数
の外部スイッチがなぐなるため、コンデンサと幕空容器
とを連結する電流路はX線発生装置の構成に必要な最小
限の長さですみ、装置を小型化にできる効果も有する。
真空容器内に対向配設された電極間の間隙長を調整する
ことができるために、この間隙長の調整によって電極間
に放電を起こさせることができる。したがって、パルス
大電流電源において並列に接続された各々のコンデンサ
にスイッチを設ける必要がないために、複数のコンデン
サの放電特性のばらつきが無視でき、安定した電極間の
放電が得られる。したがって、この放電によって発生す
るX線は、常に高い強度で、再現性よく安定して供給さ
れることができる。また、各々のコンデンサにスイッチ
を設ける必要がないために、外部スイッチ自体のインビ
ーターンスがなくなり、低インダクタンス化につながり
、エネルギー効率が向上することになる。さらに、複数
の外部スイッチがなぐなるため、コンデンサと幕空容器
とを連結する電流路はX線発生装置の構成に必要な最小
限の長さですみ、装置を小型化にできる効果も有する。
また、電極間の間隙長を調整することができるために、
使用に基づく電極の摩耗によって生じる虞れのあるX線
発生位置の変動を常に補正しなが′ら電極間で放電を行
うことができる。したがって、X線の発生位置を一定に
保つことができるために、リソグラフィに応用した場合
には、安定した加エバターンを得ることができる。
使用に基づく電極の摩耗によって生じる虞れのあるX線
発生位置の変動を常に補正しなが′ら電極間で放電を行
うことができる。したがって、X線の発生位置を一定に
保つことができるために、リソグラフィに応用した場合
には、安定した加エバターンを得ることができる。
C10)
第1図は本発明に係るX線発生装置の一実施例を示す断
面図、第2図は従来のプラズマX線発生源の断面図であ
る。 4・・・真空容器、5.6・・・電極、13・・・パル
ス大電流電源、21a・・・電極間間隙長調整用ストッ
パ、24・・・操作棒、24a・・・大径部。
面図、第2図は従来のプラズマX線発生源の断面図であ
る。 4・・・真空容器、5.6・・・電極、13・・・パル
ス大電流電源、21a・・・電極間間隙長調整用ストッ
パ、24・・・操作棒、24a・・・大径部。
Claims (1)
- 1、真空容器と、該真空容器内に設けられ、先端部が対
向配置された一対の電極と、該電極に接続され、当該電
極間に放電を起こし、プラズマを発生するパルス大電流
電源とを備えてなり、該プラズマ中に特性X線を発生す
る物質を介在させて特性X線を発生するX線発生装置に
おいて、前記一対の電極の少なくとも一方には可動性手
段が設けられ、当該一対の電極間の間隙を可変とするこ
とができることを特徴とするX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3906785A JPS61198597A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3906785A JPS61198597A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | X線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61198597A true JPS61198597A (ja) | 1986-09-02 |
Family
ID=12542782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3906785A Pending JPS61198597A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | X線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61198597A (ja) |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP3906785A patent/JPS61198597A/ja active Pending
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