JPH06325708A - X線発生装置 - Google Patents

X線発生装置

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JPH06325708A
JPH06325708A JP11603193A JP11603193A JPH06325708A JP H06325708 A JPH06325708 A JP H06325708A JP 11603193 A JP11603193 A JP 11603193A JP 11603193 A JP11603193 A JP 11603193A JP H06325708 A JPH06325708 A JP H06325708A
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JP
Japan
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target
discharge
ray
trigger signal
laser light
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Application number
JP11603193A
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English (en)
Inventor
Tadashi Kitahara
正 北原
Jiyun Sasabe
順 佐々部
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Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 極めて安定なプラズマ位置、安定したX線強
度が得られ、高繰り返し動作が可能なX線発生装置を提
供する。 【構成】 トリガ信号発生装置22により、レーザ光源
19および遅延装置22にトリガ信号が出力される。レ
ーザ光源19はこのトリガ信号入力によってレーザパル
スをターゲット16上に照射する。このレーザ光照射に
より、ターゲット16を構成する銅元素が放電電極間に
ガス状になって一様に分布する。一方、遅延装置28に
出力されたトリガ信号は一定時間遅延されて高圧トリガ
発生装置27に与えられ、高圧パルスがスパークギャッ
プスイッチ25に出力される。このスイッチが閉じるこ
とにより、コンデンサバンク24に蓄積された電荷が放
電し、ターゲット16の構成元素である銅の特性X線が
発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプラズマ現象を起こして
X線を発生するX線発生装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のX線発生装置としては、
図4に示す真空スパーク法を用いたX線発生装置があ
る。この装置においては、パワーサプライ1によってコ
ンデンサ2が充電されており、この充電によって発生す
る高電圧は真空容器3内の放電電極間に印加される。放
電電極はCu−Wカソード4およびアノード5から構成
されており、真空容器3内はポンプによって10-5To
rr程度に真空排気されている。また、トリガ用のレー
ザ光がカソード4に開けられた穴を通してアノード5の
先端に照射される。このトリガ用レーザ光はYAGレー
ザ(100mJ,10MW,1.06μm)であり、フ
ォーカスレンズ6によって集束され、ガラス窓7を介し
て真空容器3内に取り込まれる。電極間に高電圧が印加
された状態で、アノード5にレーザ光が集光されること
によって表面プラズマが発生し、この表面プラズマは電
極間に電子なだれを誘起させる。この結果、カソード4
およびアノード5間に放電が生じる。その後、アノード
5に集中した加速電子によってアノード電極金属材料が
蒸発し、この電極金属材料が主プラズマの構成原子にな
る。放電プラズマはZピンチ効果によって自己集束し、
アノード電極金属の特性X線を放出する。このX線は、
100μm厚のベリリウム窓8を通して真空容器3から
外部へ取り出され、所定の利用に供される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の真空スパーク法を用いたX線発生装置においては、
陽極自身がレーザ光によって蒸発することによってX線
を発生させているため、アノード電極5の寿命が短かっ
た。従って、装置を高繰り返し動作をさせる時には頻繁
にアノード電極5を交換する必要があり、この交換作業
に非常に手間がかかっていた。また、陽極自身が蒸発す
ることによって陽極の形状が変形するため、カソードお
よびアノード間の電界分布が変化し、ガス状プラズマの
発生位置は変化した。このX線点源の位置の揺らぎは、
X線発生装置のX線顕微鏡等への応用に大きな制限がも
たらされた。
【0004】また、真空スパーク法においては電極間に
放電を生じさせるスパークギャップスイッチが必要とさ
れない利点がある反面、電極間に金属原子を分布させる
タイミングおよび主放電を開始させるタイミングを制御
することは困難であった。このため、パワーサプライ1
から供給される電気エネルギをX線に変換させる効率は
低く、しかも、X線の光強度の再現性は悪かった。
【0005】また、真空スパーク法における金属蒸気の
発生量は、主に主放電電源であるコンデンサ2の容量値
によって定まり、しかも、X線の発生強度もこの容量値
に依存している。このため、金属蒸気の発生量とX線の
発生強度とを個別に制御することは困難であった。さら
に、電極間における金属蒸気の空間分布は放電プラズマ
によって決定されるため、電極間に発生した金属蒸気の
空間分布を制御することは難しかった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解消するためになされたもので、真空容器と、この真
空容器内にプラズマ放電を起こしてX線を発生させるX
線発生源と、発生したX線を真空容器外へ取り出す真空
容器に設けられた窓とを備えたX線発生装置において、
上記X線発生源は、一対の放電電極と、この放電電極間
に高電圧を印加する電源と、放電電極の近傍に配置され
たプラズマ構成元素を含むターゲットと、真空容器に設
けられた第2の窓を介してターゲットにレーザ光を照射
する真空容器外に設けられたレーザ光源と、電源によっ
て放電電極間に高電圧を印加するタイミングおよびレー
ザ光源によってターゲットにレーザ光を照射するタイミ
ングを制御する放電制御手段とから構成されていること
を特徴とするものである。
【0007】
【作用】ガス状プラズマは放電電極とは別に設けられた
ターゲットを発生源とする。
【0008】また、放電制御手段により、放電電極間に
ガス状プラズマが発生した所定タイミング後に放電電極
間に高電圧が印加され、プラズマピンチ現象が起こされ
てX線が発生させられる。
【0009】また、ターゲットからの金属蒸気の発生量
は、レーザ光のエネルギ,波長およびターゲットへの照
射面積等によって制御される。
【0010】また、放電電極間における金属蒸気の空間
分布は、ターゲットへのレーザ光の照射パターンを変え
ることにより、制御される。
【0011】
【実施例】図1は本発明の一実施例によるX線発生装置
の概略を示す図である。
【0012】真空容器11の内部は、ロータリーポンプ
12およびターボ分子ポンプ13によって10-7Tor
rの高真空度に保たれている。この真空容器11の内部
には、アノード14およびカソード15からなる一対の
放電電極が設けられており、アノード14およびカソー
ド15間の距離は10mmに設定されている。この放電
電極の近傍には、5×10mmの大きさの無酸素銅板が
ターゲット16として配置されている。このターゲット
16はレーザ溶発を発生させるためのものであり、放電
電極間に生じる放電に影響を与えないため、放電電極か
ら一定の距離を離して配置されている。また、真空容器
11の側壁には、放電電極間に生じたX線を容器外部へ
取り出すためのベリリウム窓17が設けられており、ま
た、容器外部からレーザ光を取り込むためのレーザ用窓
18が設けられている。
【0013】YAGレーザ光源19はレーザパルスを発
生する。このレーザパルスは、ミラー20によってその
光路が変換され、レンズ21によって集束された後、レ
ーザ用窓18に入射される。入射されたレーザパルスは
真空容器11内のターゲット16上に所定パターンにな
って照射される。このレーザパルスは、トリガ信号発生
装置22からトリガ信号が出力されるタイミングに応
じ、レーザ光源19から出力される。
【0014】真空容器11の底部にはカソード15に電
気的に接続された電流導入端子23が設けられており、
この電流導入端子23はコンデンサバンク24の内部に
設けられた22μFのコンデンサの一端に電気的に接続
されている。また、アノード14は真空容器11と導電
位の接地電位に設定されており、この真空容器11はス
パークギャップスイッチ25の一端に接続されている。
スパークギャップスイッチ25の他端は、コンデンサバ
ンク24内に設けられたコンデンサの他端に接続されて
いる。このコンデンサは充電装置26によって所定電圧
にまで充電される。スパークギャップスイッチ25は高
圧トリガ発生装置27によってスイッチングされる。こ
のスイッチングは、トリガ信号発生装置22から遅延装
置28を介して入力されるトリガ信号によって制御され
る。遅延装置28はトリガ信号発生装置22から出力さ
れるトリガ信号を一定タイミング遅延させ、高圧トリガ
発生装置27を作動させる。なお、トリガ信号発生装置
22,遅延装置28,高圧トリガ発生装置27およびス
パークギャップスイッチ25は、放電制御手段を構成す
る。
【0015】このような構成において、X線の発生は次
のように行われる。
【0016】まず、トリガ信号発生装置22により、レ
ーザ光源19および遅延装置22に同時に図2(a)の
グラフに示すトリガ信号が出力される。同グラフの横軸
は時間t、縦軸は信号電圧を示す。レーザ光源19はこ
のトリガ信号入力によって同図(b)のグラフに示すレ
ーザパルスを放射する。同グラフの横軸は時間t、縦軸
はレーザ光強度を示す。このレーザ出力は約1Jでパル
ス幅は10nsである。レーザ光源19から出射された
レーザパルスはミラー20で反射され、レンズ21によ
って集束されて、ターゲット16上に1×10mmのス
トライプ状のパターンになって照射される。このターゲ
ット16に照射された時のレーザ光の強度は、約1GW
/cm2 である。このレーザ光照射により、ターゲット
16を構成する約1018個/cm3 の密度の銅元素が放
電電極間にガス状になって一様に分布する。
【0017】一方、トリガ信号発生装置22から遅延装
置28に出力されたトリガ信号は一定時間遅延され、高
圧トリガ発生装置27に入力される。高圧トリガ発生装
置27はこの遅延したトリガ信号が入力されるタイミン
グに高圧パルスを発生し、スパークギャップスイッチ2
5へ出力する。スパークギャップスイッチ25はこの高
圧パルスの入力によってスパークギャップスイッチを閉
じる。コンデンサバンク24内のコンデンサは充電装置
26によって予め30kVの高電圧に充電されており、
充電エネルギは10kJになっている。スパークギャッ
プスイッチが閉じられることにより、コンデンサバンク
24に蓄積された電荷が放電し、図2(c)のグラフに
示す放電電流が生じる。同グラフの横軸は時間t、縦軸
は放電電流値を示す。この放電電流によって真空容器1
1内の放電電極間に放電が生じる。放電の開始は、遅延
装置28により、トリガ信号発生装置22の出力するト
リガ信号よりも図示の時間Tだけ遅れている。
【0018】放電電極間、つまりアノード14およびカ
ソード15間にはターゲット16から分離したガス状の
銅元素がレーザ溶発になって一様に分布しているため、
スパークギャップスイッチ25が閉じて電極間に放電が
生じると、電極間には放電プラズマが発生する。この放
電プラズマはZピンチ効果によって電極中心部に集束
し、ターゲット16の構成元素である銅の特性X線(波
長1.54オングストローム)が発生する。このX線は
図2(d)のグラフに示され、同グラフの横軸は時間
t、縦軸はX線強度を示す。発生したX線はベリリウム
窓17を介して真空容器11の外部に取り出される。
【0019】本実施例においては、X線を発生させるた
めの金属蒸気は、放電電極とは別に設けられたレーザ溶
発用のターゲット16を発生源としている。従って、陽
極自身を金属蒸気の発生源とする従来の真空スパーク法
によるX線発生装置とは異なり、放電電極が消耗するこ
とはなく、電極の寿命は長くなる。このため、X線を繰
り返し発生させても、電極交換が必要とされる間隔は長
くなり、電極交換作業の手間は大幅に省ける。また、従
来のように陽極が変形してX線点源の位置が揺らぐこと
はなく、プラズマの発生位置が安定している時間はより
長くなり、安定したX線が得られる。
【0020】また、放電制御手段により、放電電極間に
ガス状プラズマが発生した所定タイミング後に放電電極
間に高電圧が印加され、プラズマピンチ現象が起こされ
てX線が発生させられる。つまり、ターゲット16の構
成元素が放電電極間に分布した後に放電が発生させら
れ、しかも、この放電タイミングは遅延装置28によっ
て放電に最適な任意のタイミングに設定される。従っ
て、レーザ光源19からのレーザパルス照射によって発
生する金属蒸気の発生タイミングと、コンデンサバンク
24に蓄積された充電電荷が放電されて生じる主放電タ
イミングとは適宜個別に制御される。このため、より効
率良く、電気エネルギをX線に変換することが可能にな
る。
【0021】また、ターゲット16からの金属蒸気の発
生量は、レーザ光源19から出力されるレーザ光のエネ
ルギ、波長、ターゲット16へのレーザ光の照射面積等
によって制御され、主放電電源となるコンデンサバンク
24の容量値には依存しない。また、放電電極間におけ
る金属蒸気の空間分布は、ターゲット16へのレーザ光
の照射パターンを変えることにより、ある程度制御され
る。この結果、金属蒸気の発生量とX線の発生強度とを
個別に制御することが可能になり、発生させるX線の光
強度の再現性は向上する。ここで、放電電極間における
ターゲット元素の最適な初期分布は、採用する個々のタ
ーゲット元素(本実施例では銅)において最適なレーザ
光波長、レーザパルス幅、レーザエネルギ、レーザ照射
分布およびターゲット16自身の組成(薄膜、液状)を
選択することによって達成される。
【0022】なお、上記実施例の説明においてはターゲ
ット16として固体である無酸素銅を用いたが、液状の
ターゲットを用いることも可能である。この場合、X線
発生装置の概略は図3に示される。つまり、トリガ信号
発生装置からレーザ光源31にトリガ信号が入力される
ことにより、レーザ光源31はレーザパルスを放射す
る。このレーザパルスはミラー32によって光路が変換
され、レンズ33によって液状のターゲット34に集束
される。このレーザパルス照射によってターゲット34
からその構成元素が分離し、アノード35およびカソー
ド36間にガス状ターゲット金属からなるレーザ溶発3
7が形成される。また、トリガ信号発生装置から出力さ
れたトリガ信号は遅延装置によって遅延され、スパーク
ギャップスイッチに高圧トリガが与えられる。コンデン
サバンク内のコンデンサは充電装置によって予め充電さ
れており、スパークギャップスイッチが閉じられること
により、コンデンサに蓄積された電荷が放電電極間に放
電する。この結果、ターゲット34の構成元素に対応す
る特性のX線が発生する。
【0023】このように液状のターゲット34を用いて
も上記実施例と同様な効果が奏される。この結果、Zピ
ンチ放電を使ったX線源において、レーザ溶発を利用す
ることによってはじめて気体以外の物質(固体、液体)
を、空間的、時間的に再現性よく放電電極間に分布させ
ることが可能になり、しかも、ターゲット元素を放電電
極間の空間に均一に分布させることが可能になった。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ガ
ス状プラズマは放電電極とは別に設けられたターゲット
を発生源とする。このため、電極交換作業の手間が少な
くなり、高い繰り返し動作が可能になる。また、発光源
の揺らぎも少なくなる。
【0025】また、放電制御手段により、放電電極間に
ガス状プラズマが発生した所定タイミング後に放電電極
間に高電圧が印加され、プラズマピンチ現象が起こされ
てX線が発生させられる。このため、電気エネルギをX
線に変換させる効率は向上する。
【0026】また、ターゲットからの金属蒸気の発生量
は、レーザ光のエネルギ,波長およびターゲットへの照
射面積等によって制御される。また、放電電極間におけ
る金属蒸気の空間分布は、ターゲットへのレーザ光の照
射パターンを変えることにより、制御される。このた
め、X線の光強度の再現性は向上する。
【0027】よって、極めて安定なプラズマ位置、安定
したX線強度が得られ、高い繰り返し動作が可能なX線
発生装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるX線発生装置の概略を
示す図である。
【図2】本実施例によるX線発生装置各部の信号波形を
示すグラフである。
【図3】液状ターゲットを用いたX線発生装置の概略を
示す図である。
【図4】従来の真空スパーク法を用いたX線発生装置を
示す断面図である。
【符号の説明】
11…真空ポンプ、12…ロータリーポンプ、13…タ
ーボ分子ポンプ、14…アノード、15…カソード、1
6…ターゲット、17…ベリリウム窓、18…レーザ用
窓、19…YAGレーザ光源、20…ミラー、21…レ
ンズ、22…トリガ信号発生装置、23…電流導入端
子、24…コンデンサバンク、25…スパークギャップ
スイッチ、26…充電装置、27…高圧トリガ発生装
置、28…遅延装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空容器と、この真空容器内にプラズマ
    放電を起こしてX線を発生させるX線発生源と、発生し
    たX線を前記真空容器外へ取り出す前記真空容器に設け
    られた窓とを備えたX線発生装置において、 前記X線発生源は、一対の放電電極と、この放電電極間
    に高電圧を印加する電源と、前記放電電極の近傍に配置
    されたプラズマ構成元素を含むターゲットと、前記真空
    容器に設けられた第2の窓を介して前記ターゲットにレ
    ーザ光を照射する前記真空容器外に設けられたレーザ光
    源と、前記電源によって前記放電電極間に高電圧を印加
    するタイミングおよび前記レーザ光源によって前記ター
    ゲットにレーザ光を照射するタイミングを制御する放電
    制御手段とから構成されていることを特徴とするX線発
    生装置。
JP11603193A 1993-05-18 1993-05-18 X線発生装置 Pending JPH06325708A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990001734A1 (en) * 1988-08-03 1990-02-22 Fanuc Ltd Trace control method for pc
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