JPS61193344A - プラズマｘ線装置 - Google Patents
プラズマｘ線装置Info
- Publication number
- JPS61193344A JPS61193344A JP60030419A JP3041985A JPS61193344A JP S61193344 A JPS61193344 A JP S61193344A JP 60030419 A JP60030419 A JP 60030419A JP 3041985 A JP3041985 A JP 3041985A JP S61193344 A JPS61193344 A JP S61193344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- large current
- rays
- plasma
- current source
- pulse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はプラズマＸ線装置、特に大規模集積回路製造用
Ｘ線リソグラフィ用のＸ線装置に関する。
Ｘ線リソグラフィ用のＸ線装置に関する。
近年、集積回路製造の技術的進歩はきわめて急速であり
、リソグラフィ装置の加エバターンの最小幅はサブミク
ロンの領域に入ろうとしている。
、リソグラフィ装置の加エバターンの最小幅はサブミク
ロンの領域に入ろうとしている。
このサブミクロンの領域では、もはや光による露光では
鮮明な加工を施すことが困難となり、軟Ｘ線を使ったり
ソグラフイ装置が必要になる。そのため１強力な軟Ｘ線
発生源が求められている。軟Ｘ線発生源としては対陰極
形Ｘ線管、シンクロトロン放射光、高温プラズマからの
Ｘ線などが、対陰極形は輝度が小さいという欠点があり
、シンクロトロン放射光は輝度は十分にあるが設備が高
価格になるので、リソグラフィ装置用としてはプラズマ
Ｘ線源が有望視されている。プラズマＸ線源としては、
例えば公開特許公報昭５７−１、９１９４８等にて提案
されているように、真空ギャップ式のものがある。
鮮明な加工を施すことが困難となり、軟Ｘ線を使ったり
ソグラフイ装置が必要になる。そのため１強力な軟Ｘ線
発生源が求められている。軟Ｘ線発生源としては対陰極
形Ｘ線管、シンクロトロン放射光、高温プラズマからの
Ｘ線などが、対陰極形は輝度が小さいという欠点があり
、シンクロトロン放射光は輝度は十分にあるが設備が高
価格になるので、リソグラフィ装置用としてはプラズマ
Ｘ線源が有望視されている。プラズマＸ線源としては、
例えば公開特許公報昭５７−１、９１９４８等にて提案
されているように、真空ギャップ式のものがある。
すなわち、この方式は第２図に示すように、端板１．２
並びに絶縁円筒３から成る真空容器１５の中に、端板ｌ
、２を夫々貫通状に電極４．５が間隙をもって対峙させ
られて設けられている。電極４．５は通常、融点の高い
Ｗなどで構成される。
並びに絶縁円筒３から成る真空容器１５の中に、端板ｌ
、２を夫々貫通状に電極４．５が間隙をもって対峙させ
られて設けられている。電極４．５は通常、融点の高い
Ｗなどで構成される。
電極４の外側には、先端部が電極４の先端部と細隙をも
って同軸状に狭窄された基底部を有する円筒部６が設け
られ、その内側にはＧａなどの液体金属が満たされてい
る。電極４．５には、交流電源２０、抵抗１１、整流器
１９、スイッチ１２並びにコンデンサ１０からなるパル
ス大電流電源１６が接続されている。Ｘ線発生にあたっ
ては、先ずスイッチ１２を閉じてコンデンサ１０を充電
表面張力により液滴状となって先端についている。
って同軸状に狭窄された基底部を有する円筒部６が設け
られ、その内側にはＧａなどの液体金属が満たされてい
る。電極４．５には、交流電源２０、抵抗１１、整流器
１９、スイッチ１２並びにコンデンサ１０からなるパル
ス大電流電源１６が接続されている。Ｘ線発生にあたっ
ては、先ずスイッチ１２を閉じてコンデンサ１０を充電
表面張力により液滴状となって先端についている。
スイッチ１３の閉合により高電圧がこの液滴状の液体金
属と電極５の間に実質印加されることになり、この間の
耐電圧値は即放電が生じるような間隙長に設定されてい
るのですぐに放電が生じる。
属と電極５の間に実質印加されることになり、この間の
耐電圧値は即放電が生じるような間隙長に設定されてい
るのですぐに放電が生じる。
この放電回路はコンデンサの直接短絡となるので、電流
の立ち上り時間が１μＳ程度と非常に早く、得られる電
流値゛も数１００ ＬＡのオーダである。
の立ち上り時間が１μＳ程度と非常に早く、得られる電
流値゛も数１００ ＬＡのオーダである。
そのため、電極４．５間の放電アークには２ピンチ現象
が生じる。このＺピンチ現象ではプラズマが非常に高温
になるので、プラズマ中の金属蒸気原子のに殻やＬ殻の
電子が叩き出されたり、その空孔にその外殻の電子が落
ち込んだりするような現象が生じて、特性Ｘ線９が放出
される。このＸ線９は、Ｘ線取出し口１４のベリリウム
窓１８から取り出され、所望のシリコンウェー八等を露
光するのに使用される。
が生じる。このＺピンチ現象ではプラズマが非常に高温
になるので、プラズマ中の金属蒸気原子のに殻やＬ殻の
電子が叩き出されたり、その空孔にその外殻の電子が落
ち込んだりするような現象が生じて、特性Ｘ線９が放出
される。このＸ線９は、Ｘ線取出し口１４のベリリウム
窓１８から取り出され、所望のシリコンウェー八等を露
光するのに使用される。
放電との間の時間を短かくする必要がある。しかし、そ
の時間はコンデンサの充電時間により制限されてしまい
、スループットが悪いという欠点があった。
の時間はコンデンサの充電時間により制限されてしまい
、スループットが悪いという欠点があった。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点を除去し、スル
ープットの良いプラズマＸ線装置を提供するにある。
ープットの良いプラズマＸ線装置を提供するにある。
本発明では上記した欠点を除去するのに、パルス大電流
源を複数□個設置して交互に放電させるとｂ＼う手段を
請じる。
源を複数□個設置して交互に放電させるとｂ＼う手段を
請じる。
以下、第１図の実施例にて本発明の詳細な説明する。パ
ルス大電流源は、コンデンサ１０ａ１．スイッチ１２ａ
、゛整流器１９’ａ、抵抗１１ａ並びに交流電源２０か
ら成る第１のパルス大電流源２１と、コンデンサ１０ｂ
、スイッチ１２ｂ、整流器１２ａ、１２ｂを閉じて５ン
デンサ１０ａ並びに１０ｂを同時に充電する。次にスイ
ッチ１２ａ、１２ｂを開き、切換えスイレチ２１並びに
２２を夫々Ａ側に入れて第１のパルス大電流源からパル
ス大電流を供給してＸ線を発生させる。引き続いて、ス
イッチ２１並びに２２を夫々Ｂ側に入れて第″２のパル
ス大電流源からパルス大電流を供給して再びＸ線を発生
させる。これにより一度の充電時間に対して２発のｘｌ
ＩＡ＊発生させ颯ことができるめで、スループットは２
倍に向上する。
ルス大電流源は、コンデンサ１０ａ１．スイッチ１２ａ
、゛整流器１９’ａ、抵抗１１ａ並びに交流電源２０か
ら成る第１のパルス大電流源２１と、コンデンサ１０ｂ
、スイッチ１２ｂ、整流器１２ａ、１２ｂを閉じて５ン
デンサ１０ａ並びに１０ｂを同時に充電する。次にスイ
ッチ１２ａ、１２ｂを開き、切換えスイレチ２１並びに
２２を夫々Ａ側に入れて第１のパルス大電流源からパル
ス大電流を供給してＸ線を発生させる。引き続いて、ス
イッチ２１並びに２２を夫々Ｂ側に入れて第″２のパル
ス大電流源からパルス大電流を供給して再びＸ線を発生
させる。これにより一度の充電時間に対して２発のｘｌ
ＩＡ＊発生させ颯ことができるめで、スループットは２
倍に向上する。
第１図の実施例では、２個のパルス大゛電流源を設けた
が、さらに多くのパルス大電流源を設けても良い。充電
並びにスイッチ類の操作には適宜な制御装置を使うこと
もできる。また、Ｘ線発生部としては、真空ギャップの
他に、ガスパフ放電管や、プラズマフォーカス管、キャ
ピラリー放電管などにも適用できる。゛ 〔発明の効果〕 以上説明したように要するに本発明は、パルス大電流放
電を利用してＸ線を発生させるプラズマＸ線装置におい
て、パルス大電流源を複数個備えたものであるから、放
電ピッチを短かくすることができ、Ｘ線発生のスループ
ットが向上する。
が、さらに多くのパルス大電流源を設けても良い。充電
並びにスイッチ類の操作には適宜な制御装置を使うこと
もできる。また、Ｘ線発生部としては、真空ギャップの
他に、ガスパフ放電管や、プラズマフォーカス管、キャ
ピラリー放電管などにも適用できる。゛ 〔発明の効果〕 以上説明したように要するに本発明は、パルス大電流放
電を利用してＸ線を発生させるプラズマＸ線装置におい
て、パルス大電流源を複数個備えたものであるから、放
電ピッチを短かくすることができ、Ｘ線発生のスループ
ットが向上する。
第１図は本発明の詳細な説明図、第２図は従来実施例の
説明図である。 ４．５・・・電極、ｌＯ・・・コンデンサ、１６．２１
．２２・・・パルス大電流源。
説明図である。 ４．５・・・電極、ｌＯ・・・コンデンサ、１６．２１
．２２・・・パルス大電流源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、大気圧よりも低い圧力雰囲気内に設けられた少くと
も一対の電極を有し、該電極はコンデンサよりなるパル
ス大電流源に接続されてなるプラズマＸ線装置において
、複数のパルス大電流源を備えてなるところに特徴を有
するプラズマＸ線装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、複数のパルス大電
流源を備え、該パルス大電流源を順次放電させる制御機
構を備えてなるところに特徴を有するプラズマＸ線装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030419A JPS61193344A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | プラズマｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030419A JPS61193344A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | プラズマｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61193344A true JPS61193344A (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=12303428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60030419A Pending JPS61193344A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | プラズマｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61193344A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11353344B2 (en) | 2017-03-08 | 2022-06-07 | Nidec Copal Electronics Corporation | Force sensor having a strain body |
-
1985
- 1985-02-20 JP JP60030419A patent/JPS61193344A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11353344B2 (en) | 2017-03-08 | 2022-06-07 | Nidec Copal Electronics Corporation | Force sensor having a strain body |
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