JPS6096550A - 2個の部材を結合する方法 - Google Patents
2個の部材を結合する方法Info
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- JPS6096550A JPS6096550A JP59184706A JP18470684A JPS6096550A JP S6096550 A JPS6096550 A JP S6096550A JP 59184706 A JP59184706 A JP 59184706A JP 18470684 A JP18470684 A JP 18470684A JP S6096550 A JPS6096550 A JP S6096550A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 7
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 101100086436 Caenorhabditis elegans rap-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100420081 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) rps-0 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- MTRJKZUDDJZTLA-UHFFFAOYSA-N iron yttrium Chemical compound [Fe].[Y] MTRJKZUDDJZTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
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- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は第1部材と第2部材との間に1個以上の固体層
を設けて前記第1部材と前記第2部材とを結合する方法
に関するものである。
を設けて前記第1部材と前記第2部材とを結合する方法
に関するものである。
このような方法は西独国特許出顧公開第292・801
1号公報に開示されており、この公報には2個の石英部
材を結合する方法が記載されている。
1号公報に開示されており、この公報には2個の石英部
材を結合する方法が記載されている。
2個の石英部材のIljに厚さ0.001翻〜0.2簡
のアルミニウム層を設け、しかる後に石英部材をアルミ
ニウムの融点(600〜640℃)に加熱し、真空中で
5〜15 N/mPの圧力下に押圧する。しかし、石英
部材をこのような高温に加熱するのは望ましくないこと
が多い。この理由は、飼えば、反射性層がなおイ英部材
上に存在しており、これらの反η・i柱層がこのような
高温に耐えることができないからである。これらの石英
部材間の間隙を正確に114 %することはいずれにせ
よ不可能である。
のアルミニウム層を設け、しかる後に石英部材をアルミ
ニウムの融点(600〜640℃)に加熱し、真空中で
5〜15 N/mPの圧力下に押圧する。しかし、石英
部材をこのような高温に加熱するのは望ましくないこと
が多い。この理由は、飼えば、反射性層がなおイ英部材
上に存在しており、これらの反η・i柱層がこのような
高温に耐えることができないからである。これらの石英
部材間の間隙を正確に114 %することはいずれにせ
よ不可能である。
米国時W[第8887226号明細Iには圧接すること
(wringing in contact )により
2個の部材を真空密に結合することが開示されている。
(wringing in contact )により
2個の部材を真空密に結合することが開示されている。
この場合に、この米C]%#1−は狭い通路が設けられ
ていてそのなかにガス状レーザー媒体を収容している石
英ブロックに結合されているレーザーのミラー支持部に
関するものである。部材を結合するかかる方法の欠点は
部材間の間隙を調節できないこである。
ていてそのなかにガス状レーザー媒体を収容している石
英ブロックに結合されているレーザーのミラー支持部に
関するものである。部材を結合するかかる方法の欠点は
部材間の間隙を調節できないこである。
従って本発明の目的は高温′および高圧を必要とせずか
つ2個の部材間の間隙を正確に#節することができる2
個の部材を結合する方法を提供することにある。
つ2個の部材間の間隙を正確に#節することができる2
個の部材を結合する方法を提供することにある。
このために、本発明は、冒頭に記載した方法において、
前記第1部材および前記第2部材の少くとも一方に1個
以上の固体層を設け、前記固体層の厚さの減少が無視で
きる程度である研摩処理により前記固体層を活性化し、
しかる後に前記第1部材の活性化表面にこれと同様に活
性化した前記第2部材の表面を圧接することにより結合
することを特徴とする。
前記第1部材および前記第2部材の少くとも一方に1個
以上の固体層を設け、前記固体層の厚さの減少が無視で
きる程度である研摩処理により前記固体層を活性化し、
しかる後に前記第1部材の活性化表面にこれと同様に活
性化した前記第2部材の表面を圧接することにより結合
することを特徴とする。
結合しようとする部材の1個以上の上に1個以上の層を
例えば蒸着することにより設け、次いで接触表面を研摩
処理によって活性化した後に前記層に圧接することによ
り、部材間の間隙を正確に調節することができる。
例えば蒸着することにより設け、次いで接触表面を研摩
処理によって活性化した後に前記層に圧接することによ
り、部材間の間隙を正確に調節することができる。
前記第1部材と前記第2部材との間に、これらの部材の
材料の屈折率とは異なる屈折率を有する゛1個以上の層
を設けることができる。この層はアモルファス層例えは
Sin、層、または多結晶質層例えばTie、 ; M
gF、 # Al、08s Gap81HfO,または
ZnSの層とすることができる。この層はエピタキシャ
ル単結晶質層、例えば、「Appl 、 Phys・L
ett 、 J 42 (12)、1988年6月15
日、第1087頁以降に記載されているようなGaP上
(7)Si、またはr ApI)l 、 phys 、
Lett 、 J42(10)、1988年5月15
日、第867頁以降に記載されているようなサファイア
上の(PbLa ) (ZrTi ) 08とすること
ができる。
材料の屈折率とは異なる屈折率を有する゛1個以上の層
を設けることができる。この層はアモルファス層例えは
Sin、層、または多結晶質層例えばTie、 ; M
gF、 # Al、08s Gap81HfO,または
ZnSの層とすることができる。この層はエピタキシャ
ル単結晶質層、例えば、「Appl 、 Phys・L
ett 、 J 42 (12)、1988年6月15
日、第1087頁以降に記載されているようなGaP上
(7)Si、またはr ApI)l 、 phys 、
Lett 、 J42(10)、1988年5月15
日、第867頁以降に記載されているようなサファイア
上の(PbLa ) (ZrTi ) 08とすること
ができる。
圧抜は1例えは、いくつかの二色性層に対して行うこと
かできる。例えは、1個の石英部材を、他の石英部材上
に交互に設けた5inB層(n=1.47 )と T
iOHIF! (n =2−5 )とからなる48個の
層から構成されていて8.22μmの厚さを有する積み
亀ねに圧接できることが分った。
かできる。例えは、1個の石英部材を、他の石英部材上
に交互に設けた5inB層(n=1.47 )と T
iOHIF! (n =2−5 )とからなる48個の
層から構成されていて8.22μmの厚さを有する積み
亀ねに圧接できることが分った。
しかし、またインジウム・X?化物層に圧接することが
でき、あるいは圧接する相手である二色性ル1の積み爪
ね中にインジウム・錫烈化物層を混入することができる
。かかるインジウム・錫酸化物層は導電性であるので、
例えば、インジウム−錫酸化物層を介在させて本発明方
法により放電管部材を結合してなる放電管におけるリー
ドスルーとして使用することができる。これらの部材は
、例えば、撮像管の容器の窓および円筒形壁とすること
ができる。
でき、あるいは圧接する相手である二色性ル1の積み爪
ね中にインジウム・錫烈化物層を混入することができる
。かかるインジウム・錫酸化物層は導電性であるので、
例えば、インジウム−錫酸化物層を介在させて本発明方
法により放電管部材を結合してなる放電管におけるリー
ドスルーとして使用することができる。これらの部材は
、例えば、撮像管の容器の窓および円筒形壁とすること
ができる。
部材間または層の積み重ね中に1個以上の磁気光学シを
設けることができる。この例はr physi−Ca
5tatus Sol、idi Jム18 498〜4
98(197B ) : B 、 W 、 Delf
、ム、 Green オよびR、J 、 5teven
s ” Sputtering at Y I Gth
in films from a powder m1
xture Of 1ron ox土(ie and
yttri、um oxideN中に記載されテイルよ
うな厚さ2μmのイツトリウム鉄ガーネット(YIG)
lである〇 部材間または層の積み重ね中に1個以上の電気光学層を
設けることも可能である。電気光学層の場合には電極と
して作用する2個のインジウム・錫酸化物層の間に電気
光学層を組入れることがで・きる。かかる電気光学層は
後述のようにレンズまたはレンズ系に組入れることがで
きる0かがる電気光学層は、例えば、[Ferroel
ectrios J (19〕8)、第22巻、第77
5〜777頁および「J 、 VaO、SOl 、 T
echnOIJ 16 (2)、8月74月号(197
9)第815頁以降に記載されているよりなりaT i
o 8のスパッタ薄層、またはrAp−1)l 、 P
hy8 、 Lett 、 J 42 (10)198
8年5月15日、tA867頁以降に記載されているよ
うな(Pb 、 La ) (Zr 、 Ti ) 0
8のスパッタ・エピタキシャル薄層からなる。
設けることができる。この例はr physi−Ca
5tatus Sol、idi Jム18 498〜4
98(197B ) : B 、 W 、 Delf
、ム、 Green オよびR、J 、 5teven
s ” Sputtering at Y I Gth
in films from a powder m1
xture Of 1ron ox土(ie and
yttri、um oxideN中に記載されテイルよ
うな厚さ2μmのイツトリウム鉄ガーネット(YIG)
lである〇 部材間または層の積み重ね中に1個以上の電気光学層を
設けることも可能である。電気光学層の場合には電極と
して作用する2個のインジウム・錫酸化物層の間に電気
光学層を組入れることがで・きる。かかる電気光学層は
後述のようにレンズまたはレンズ系に組入れることがで
きる0かがる電気光学層は、例えば、[Ferroel
ectrios J (19〕8)、第22巻、第77
5〜777頁および「J 、 VaO、SOl 、 T
echnOIJ 16 (2)、8月74月号(197
9)第815頁以降に記載されているよりなりaT i
o 8のスパッタ薄層、またはrAp−1)l 、 P
hy8 、 Lett 、 J 42 (10)198
8年5月15日、tA867頁以降に記載されているよ
うな(Pb 、 La ) (Zr 、 Ti ) 0
8のスパッタ・エピタキシャル薄層からなる。
いずれの場合でも、結合しようとする表面を軽微な研摩
処理によって活性化する場合にのみ、圧接が可能である
。軽微な研摩処理とは、層厚さまたは結合しようとする
表面の減少が無視できる程度である「新鮮」な表面を作
る研摩処理である。
処理によって活性化する場合にのみ、圧接が可能である
。軽微な研摩処理とは、層厚さまたは結合しようとする
表面の減少が無視できる程度である「新鮮」な表面を作
る研摩処理である。
かかる軽微な研摩処理は酸化セリウム粉末を用いて1分
未満の間行うのが好ましい。
未満の間行うのが好ましい。
層で完全に被覆されている部材の場合にもこの技術を使
用できるのは明らかである。しかし、また部材上にある
パターン(例えは、リング)の形態に設けられている沿
または層の栢み凰ねに圧接することもできる。シールを
形成するし状パターンに小さいくほみを作った@会には
、例えばヘリウムの場合に、容易に限定できるガスの漏
出が可能になる。また、例えば、厚さ2μmのSin、
層を二色性層の積み瓜ねの上に粒着させることができる
。S10.の代りに蒸着ガラス、例えは、ショツ) (
5OhOtt ) 8829 (n = 1.52 )
も使用できる。シs7ト8829は8chott Gl
assworks tb商品名である。部材を圧接させ
る相手である胸の積み重ねは、多感ミラー、例えは、ガ
ス放電レーザーの場合の光学フィルターおよびリフレク
タ−に使用されるような多層ミラーの一部を形成するこ
とができる。
用できるのは明らかである。しかし、また部材上にある
パターン(例えは、リング)の形態に設けられている沿
または層の栢み凰ねに圧接することもできる。シールを
形成するし状パターンに小さいくほみを作った@会には
、例えばヘリウムの場合に、容易に限定できるガスの漏
出が可能になる。また、例えば、厚さ2μmのSin、
層を二色性層の積み瓜ねの上に粒着させることができる
。S10.の代りに蒸着ガラス、例えは、ショツ) (
5OhOtt ) 8829 (n = 1.52 )
も使用できる。シs7ト8829は8chott Gl
assworks tb商品名である。部材を圧接させ
る相手である胸の積み重ねは、多感ミラー、例えは、ガ
ス放電レーザーの場合の光学フィルターおよびリフレク
タ−に使用されるような多層ミラーの一部を形成するこ
とができる。
第1a図は光学フィルターの構成部材の断面図である。
ガラス部材1および2の上にそれぞれミラー8および4
からなる二色性層を蒸着させる。
からなる二色性層を蒸着させる。
これらの二色性層は所定の波長範囲の場合に99憾以上
の反射率を有する。カラス部材lは中央部5と同軸部6
とからなり、同軸部6はミラー8の変形を防止するよう
同軸みぞ孔7によって中央部5から分離されている。二
色性層8の積み重ねを同軸部6上に中央部5上における
と同様に蒸出させ、同軸部6上の積み重ねを中央部5上
の積み重ねと同じ厚さにする。ある厚さ例えば0.5μ
mの厚さを有する蒸着ガラスのリング9を部材2上のミ
ラー4上に設けてミラー8と鴫との間の間隙を正確に5
1!1節できるようにする。次いでリング9および二色
性層8を酸化セリウム(OeO,)で軽微に研摩するこ
とにより1分間活性化し、しかる後にこれらを互に対向
させて配置する(第1b図)。この結果圧接により結合
が達成される。酸化セリウムで軽微な研摩処理を行った
結果である屑の厚さの減少は無視できる程小さい。しか
し、かがる軽微な研摩処理は圧接性にとって極めて有効
である。
の反射率を有する。カラス部材lは中央部5と同軸部6
とからなり、同軸部6はミラー8の変形を防止するよう
同軸みぞ孔7によって中央部5から分離されている。二
色性層8の積み重ねを同軸部6上に中央部5上における
と同様に蒸出させ、同軸部6上の積み重ねを中央部5上
の積み重ねと同じ厚さにする。ある厚さ例えば0.5μ
mの厚さを有する蒸着ガラスのリング9を部材2上のミ
ラー4上に設けてミラー8と鴫との間の間隙を正確に5
1!1節できるようにする。次いでリング9および二色
性層8を酸化セリウム(OeO,)で軽微に研摩するこ
とにより1分間活性化し、しかる後にこれらを互に対向
させて配置する(第1b図)。この結果圧接により結合
が達成される。酸化セリウムで軽微な研摩処理を行った
結果である屑の厚さの減少は無視できる程小さい。しか
し、かがる軽微な研摩処理は圧接性にとって極めて有効
である。
実際に研磨は表面の(化学的)活性化に役立つ。
第2図はレンズの断面図である。このレンズは2個のガ
ラスレンズ半部20および21を具える。
ラスレンズ半部20および21を具える。
レンズ半部20上に厚さ0.5μmのインジウム−錫酸
化物層22を設け、この層の上に厚さ2μmのBaTi
0g層2aを設け、この層の上に再開部さ0.5μmの
インジウム・錫酸化eA層24を設ける。
化物層22を設け、この層の上に厚さ2μmのBaTi
0g層2aを設け、この層の上に再開部さ0.5μmの
インジウム・錫酸化eA層24を設ける。
層24を酸化セリウムで軽微に研摩し、次いでレンズ部
材21の同様に軽微に研摩した而25を層24に圧接に
より結合する。層22と層z4との間に適当な電位差を
印加することにより、層28を分極状態にすることがで
きる。従来、レンズおよびレンズ部材は接着剤(例えは
、レンズボンドタイプM62、米国ペンシルベニア州1
9084、フォートワシントン所在のサマース、ラボラ
ドリース、コーポレーテッド、オプティカルディビジョ
ンのタイプ表示)により結合されていた。圧接による結
合は、接着剤を用いた接着部の場合と較べて耐久性が一
層大きく、結合部中への汚れの侵入が著しく少ない・ 第8図はカラスファイバー通信装置およびレーザービー
ムによって光学INキャリヤーを読取るmHレーザービ
ジョン装置に使用される偏光ビームスリッタの断面図で
ある。このビームスリツタ°は第1ガラスプリズム80
と第2ガラスプリズム81とからなる。これらのプリズ
ムのガラスは屈折率1・52 (n = 1.52 )
である。交互に設けたMgO層(n=1.7)とMgF
g ki (n = 1.4 ) トからなる19個の
層から構成されていてλ/4 の光学的厚さを有する層
の積み重ね82をプリズム80上に設ける。またこの系
は次のように表わすことができるニ ガラス(HL) Hガラス この式中のHはMgOlり、LはMgF、 Jlを示す
。
材21の同様に軽微に研摩した而25を層24に圧接に
より結合する。層22と層z4との間に適当な電位差を
印加することにより、層28を分極状態にすることがで
きる。従来、レンズおよびレンズ部材は接着剤(例えは
、レンズボンドタイプM62、米国ペンシルベニア州1
9084、フォートワシントン所在のサマース、ラボラ
ドリース、コーポレーテッド、オプティカルディビジョ
ンのタイプ表示)により結合されていた。圧接による結
合は、接着剤を用いた接着部の場合と較べて耐久性が一
層大きく、結合部中への汚れの侵入が著しく少ない・ 第8図はカラスファイバー通信装置およびレーザービー
ムによって光学INキャリヤーを読取るmHレーザービ
ジョン装置に使用される偏光ビームスリッタの断面図で
ある。このビームスリツタ°は第1ガラスプリズム80
と第2ガラスプリズム81とからなる。これらのプリズ
ムのガラスは屈折率1・52 (n = 1.52 )
である。交互に設けたMgO層(n=1.7)とMgF
g ki (n = 1.4 ) トからなる19個の
層から構成されていてλ/4 の光学的厚さを有する層
の積み重ね82をプリズム80上に設ける。またこの系
は次のように表わすことができるニ ガラス(HL) Hガラス この式中のHはMgOlり、LはMgF、 Jlを示す
。
R後のHffi (MgOJけ)および第2プリズムの
表面88を軽賭に研摩した後に、第2プリズムを最後の
HNに圧抜により結合する。
表面88を軽賭に研摩した後に、第2プリズムを最後の
HNに圧抜により結合する。
【図面の簡単な説明】
第1a図お」:び第1b図はそれぞれ光学フィルタの2
個の拾成部利およびこれらの部材から本発明方法により
形成した光学フィルタの一例の冊立断面図、 第2図は本発明方法により形成した電気光学層を有する
レンズの一例のD1面図、 第8図は本発明方法により形成した偏光ビームスリッタ
の一例の断面図であるO 1,2・・・ガラス部材 8,4・・・ミラー5・・・
中央部 6・・・同軸部 7・・・同軸みぞ孔 8・・・二色性層9・・・リング go、gl・・・レンズ半部(レンズ部材)22J4−
・・インジウム・錫酸化物層2B −BaTi0. N
25−研摩面80・・・第1プリズム 81・・・第
2プリズム82・・・層の積み重ね 88・・・第2プ
リズムの表面。 第1頁の続き ■Int、C1,’ 識別記号 庁内整理番号0発 明
者 コルネリス・レーンデ オランダ国5621ルト
・アルティング ヴアウツウェッ、0発 明 者 ルド
ルフ・ブレーム オランダ国5621ヴアウツウエツ。 ベーアー アインドーフェン フルーネ・Xl ベーアー アインドーフェン フルーネ・11 手続補正書 昭和59年10月2日 1、事件の表示 昭和59年 特 許 願第184. ’I 06号Z発
明の名称 2個の部材を結合する方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 エヌ・ベー・フィリップス・ フルーイランペンファブリケン 外1名 5゜ 6、補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 (別紙の通りン・ 1、明細会第5頁第6行、第9行および第7頁第8行の
「42」をl’−42Jに訂正する。 2、同第6頁第10行の「A18コを「A18Jにする
。 8、同第9頁第11行の「1分間」を「1分未満の間」
に訂正する。
個の拾成部利およびこれらの部材から本発明方法により
形成した光学フィルタの一例の冊立断面図、 第2図は本発明方法により形成した電気光学層を有する
レンズの一例のD1面図、 第8図は本発明方法により形成した偏光ビームスリッタ
の一例の断面図であるO 1,2・・・ガラス部材 8,4・・・ミラー5・・・
中央部 6・・・同軸部 7・・・同軸みぞ孔 8・・・二色性層9・・・リング go、gl・・・レンズ半部(レンズ部材)22J4−
・・インジウム・錫酸化物層2B −BaTi0. N
25−研摩面80・・・第1プリズム 81・・・第
2プリズム82・・・層の積み重ね 88・・・第2プ
リズムの表面。 第1頁の続き ■Int、C1,’ 識別記号 庁内整理番号0発 明
者 コルネリス・レーンデ オランダ国5621ルト
・アルティング ヴアウツウェッ、0発 明 者 ルド
ルフ・ブレーム オランダ国5621ヴアウツウエツ。 ベーアー アインドーフェン フルーネ・Xl ベーアー アインドーフェン フルーネ・11 手続補正書 昭和59年10月2日 1、事件の表示 昭和59年 特 許 願第184. ’I 06号Z発
明の名称 2個の部材を結合する方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 エヌ・ベー・フィリップス・ フルーイランペンファブリケン 外1名 5゜ 6、補正の対象 明細書の1発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 (別紙の通りン・ 1、明細会第5頁第6行、第9行および第7頁第8行の
「42」をl’−42Jに訂正する。 2、同第6頁第10行の「A18コを「A18Jにする
。 8、同第9頁第11行の「1分間」を「1分未満の間」
に訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 t 第1部材と第2部材との間に1個以上の固体層を設
けて前記第1部材と前記第2部材とを結合するに当り、 前記第1部材および前記第2部材の少くとも一方に1個
以上の固体層を設け、 前記固体層の厚さの減少が無視できる程度である研摩処
理により前記固体層を活性化し、しかる後に1tiJ記
第1部材の活性化表面にこれと同様に活性化した前記第
2部材の表面を圧接することにより結合する こへとを特徴とする2個の部材を結合する方法。 2 前記第1部材と前記第2部材との間に、これらの部
材の材料の屈折率とは異なる屈折率を有する1個以上の
層を設ける特許請求の範囲第1項記載の方法。 & 前記第1部材と前記第2部材との間に1個以上のイ
ンジウム−錫酸化物層を設ける特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の方法。 表 前記第1部材と繭記第2部材との間に1個以上の磁
気光学層を設ける特許請求の範囲第1項〜8項のいずれ
か一つの項に記載の方法。 翫 前記第1部材と前記第2部材との間に1個以上の電
気光学層を設ける特許請求の範囲第1〜8項のいずれか
一つの項に記載の方法。 a 2個のインジウム・錫酸化物層の間に1個以上の電
気光学層を設ける特許請求の範囲第す項記載の方法。 I 軽微な研摩処理において研摩媒体として酸化セリウ
ム(OeO,>を使用する特許請求の範囲第1〜6項の
いずれか一つの項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8303109A NL8303109A (nl) | 1983-09-08 | 1983-09-08 | Werkwijze voor het aan elkaar bevestigen van twee delen. |
NL8303109 | 1983-09-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6096550A true JPS6096550A (ja) | 1985-05-30 |
JPH0429621B2 JPH0429621B2 (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=19842372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59184706A Granted JPS6096550A (ja) | 1983-09-08 | 1984-09-05 | 2個の部材を結合する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4810318A (ja) |
EP (1) | EP0137537B1 (ja) |
JP (1) | JPS6096550A (ja) |
CA (1) | CA1269518A (ja) |
DE (1) | DE3467749D1 (ja) |
NL (1) | NL8303109A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60186444A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-21 | Canon Inc | 光学的接着方法 |
JP2001021719A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-26 | Seiko Epson Corp | 偏光分離素子、偏光変換素子および投写型表示装置 |
CN110790520A (zh) * | 2018-08-02 | 2020-02-14 | 比亚迪股份有限公司 | 玻璃复合体、壳体、显示装置以及终端设备 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8801638A (nl) * | 1988-06-28 | 1990-01-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het aan elkaar bevestigen van twee lichamen. |
US5852622A (en) * | 1988-08-30 | 1998-12-22 | Onyx Optics, Inc. | Solid state lasers with composite crystal or glass components |
US5563899A (en) * | 1988-08-30 | 1996-10-08 | Meissner; Helmuth E. | Composite solid state lasers of improved efficiency and beam quality |
US5441803A (en) * | 1988-08-30 | 1995-08-15 | Onyx Optics | Composites made from single crystal substances |
US5846638A (en) * | 1988-08-30 | 1998-12-08 | Onyx Optics, Inc. | Composite optical and electro-optical devices |
US5383993A (en) * | 1989-09-01 | 1995-01-24 | Nippon Soken Inc. | Method of bonding semiconductor substrates |
US5259894A (en) * | 1990-01-26 | 1993-11-09 | Sampson Richard K | Method for solvent bonding non-porous materials to automatically create variable bond characteristics |
JPH0636413B2 (ja) * | 1990-03-29 | 1994-05-11 | 信越半導体株式会社 | 半導体素子形成用基板の製造方法 |
US5131968A (en) * | 1990-07-31 | 1992-07-21 | Motorola, Inc. | Gradient chuck method for wafer bonding employing a convex pressure |
USRE36890E (en) * | 1990-07-31 | 2000-10-03 | Motorola, Inc. | Gradient chuck method for wafer bonding employing a convex pressure |
US5146700A (en) * | 1991-10-31 | 1992-09-15 | Coors Technical Ceramics Company | Steam iron with bonded ceramic and aluminum components |
WO1994020295A1 (en) * | 1993-03-12 | 1994-09-15 | Neocera, Inc. | Superconducting films on alkaline earth fluoride substrates with multiple buffer layers |
JP3806151B2 (ja) * | 1993-07-13 | 2006-08-09 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 第1物体の第2物体への結合方法 |
US5637802A (en) * | 1995-02-28 | 1997-06-10 | Rosemount Inc. | Capacitive pressure sensor for a pressure transmitted where electric field emanates substantially from back sides of plates |
US6484585B1 (en) | 1995-02-28 | 2002-11-26 | Rosemount Inc. | Pressure sensor for a pressure transmitter |
US5724185A (en) * | 1995-08-17 | 1998-03-03 | Hughes Danbury Optical Systems, Inc. | Method for optically contacting surfaces stressed by an optical coating |
DE19704936A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Zeiss Carl Fa | Optisches Glied und Herstellverfahren |
US20020027301A1 (en) * | 1998-06-11 | 2002-03-07 | Hideo Kato | Method for manufacture of optical element |
US6160824A (en) * | 1998-11-02 | 2000-12-12 | Maxios Laser Corporation | Laser-pumped compound waveguide lasers and amplifiers |
US6520020B1 (en) | 2000-01-06 | 2003-02-18 | Rosemount Inc. | Method and apparatus for a direct bonded isolated pressure sensor |
US6505516B1 (en) | 2000-01-06 | 2003-01-14 | Rosemount Inc. | Capacitive pressure sensing with moving dielectric |
US6561038B2 (en) | 2000-01-06 | 2003-05-13 | Rosemount Inc. | Sensor with fluid isolation barrier |
US6508129B1 (en) | 2000-01-06 | 2003-01-21 | Rosemount Inc. | Pressure sensor capsule with improved isolation |
CN1151367C (zh) | 2000-01-06 | 2004-05-26 | 罗斯蒙德公司 | 微机电系统(mems)用的电互联的晶粒生长 |
US6848316B2 (en) * | 2002-05-08 | 2005-02-01 | Rosemount Inc. | Pressure sensor assembly |
US9171721B2 (en) | 2010-10-26 | 2015-10-27 | Medtronic, Inc. | Laser assisted direct bonding |
US8666505B2 (en) | 2010-10-26 | 2014-03-04 | Medtronic, Inc. | Wafer-scale package including power source |
US8796109B2 (en) | 2010-12-23 | 2014-08-05 | Medtronic, Inc. | Techniques for bonding substrates using an intermediate layer |
US9434145B2 (en) | 2012-12-07 | 2016-09-06 | Semrock, Inc. | Dichroic filter conformed to optical surface |
US9968794B2 (en) | 2014-12-24 | 2018-05-15 | Medtronic, Inc. | Implantable medical device system including feedthrough assembly and method of forming same |
US10136535B2 (en) | 2014-12-24 | 2018-11-20 | Medtronic, Inc. | Hermetically-sealed packages including feedthrough assemblies |
US9865533B2 (en) | 2014-12-24 | 2018-01-09 | Medtronic, Inc. | Feedthrough assemblies |
US10124559B2 (en) | 2014-12-24 | 2018-11-13 | Medtronic, Inc. | Kinetically limited nano-scale diffusion bond structures and methods |
US10098589B2 (en) | 2015-12-21 | 2018-10-16 | Medtronic, Inc. | Sealed package and method of forming same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4948707A (ja) * | 1972-05-03 | 1974-05-11 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2169194A (en) * | 1937-03-20 | 1939-08-08 | Geyer | Chemical apparatus |
US2617746A (en) * | 1949-12-19 | 1952-11-11 | Johns Manville | Method of inhibiting carbonate bloom |
FR61243E (fr) * | 1950-03-04 | 1955-04-05 | Csf | Nouveau procédé de fabrication des tubes ou enceintes à vide |
US2709147A (en) * | 1951-09-12 | 1955-05-24 | Bell Telephone Labor Inc | Methods for bonding silica bodies |
US3108370A (en) * | 1959-11-16 | 1963-10-29 | Federal Mogul Bower Bearings | Method of producing a face seal |
FR1536312A (fr) * | 1967-06-28 | 1968-08-10 | Comp Generale Electricite | Procédé et dispositif de soudage en continu et sans déformation pour éléments optiques |
FR2246506A1 (en) * | 1973-10-09 | 1975-05-02 | Podvigalkina Galina | Joining of silicate glass lenses - by formation of silicate film on lens surface(s) then sintering together by IR radiation |
EP0031204B1 (en) * | 1979-11-29 | 1984-06-06 | Rhone-Poulenc Industries | Polishing process for mineral and organic materials |
-
1983
- 1983-09-08 NL NL8303109A patent/NL8303109A/nl not_active Application Discontinuation
-
1984
- 1984-09-04 EP EP84201267A patent/EP0137537B1/en not_active Expired
- 1984-09-04 DE DE8484201267T patent/DE3467749D1/de not_active Expired
- 1984-09-05 JP JP59184706A patent/JPS6096550A/ja active Granted
- 1984-09-06 CA CA000462552A patent/CA1269518A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-02-03 US US07/011,416 patent/US4810318A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4948707A (ja) * | 1972-05-03 | 1974-05-11 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60186444A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-21 | Canon Inc | 光学的接着方法 |
JP2001021719A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-01-26 | Seiko Epson Corp | 偏光分離素子、偏光変換素子および投写型表示装置 |
CN110790520A (zh) * | 2018-08-02 | 2020-02-14 | 比亚迪股份有限公司 | 玻璃复合体、壳体、显示装置以及终端设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL8303109A (nl) | 1985-04-01 |
CA1269518A (en) | 1990-05-29 |
EP0137537B1 (en) | 1987-11-25 |
DE3467749D1 (en) | 1988-01-07 |
JPH0429621B2 (ja) | 1992-05-19 |
US4810318A (en) | 1989-03-07 |
EP0137537A1 (en) | 1985-04-17 |
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