JPS6092465A - 被処理物に黒色被膜を形成する方法 - Google Patents
被処理物に黒色被膜を形成する方法Info
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- JPS6092465A JPS6092465A JP20118983A JP20118983A JPS6092465A JP S6092465 A JPS6092465 A JP S6092465A JP 20118983 A JP20118983 A JP 20118983A JP 20118983 A JP20118983 A JP 20118983A JP S6092465 A JPS6092465 A JP S6092465A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、主としてメガネフレーム、ライターケース、
時計ケース、或いは時計バンド等の装飾品の表面に黒色
被膜を形成する方法に関する。
時計ケース、或いは時計バンド等の装飾品の表面に黒色
被膜を形成する方法に関する。
従来、黒色被膜を形成する方法としては、黒クロムメッ
キをする方法、或いは炭化チタンにて被膜を形成する方
法等が知られているが、前者は硬度が低く耐摩耗性に乏
しいため、長期間の使用によシ下地金属が露出して美感
を損う欠点があり、また後者は、下地の温度、イオン化
の制御により白色から真黒色１で任意の被膜が得られる
反面、高硬度にすると灰色の被膜となり、真黒色が得ら
れない欠点があった。
キをする方法、或いは炭化チタンにて被膜を形成する方
法等が知られているが、前者は硬度が低く耐摩耗性に乏
しいため、長期間の使用によシ下地金属が露出して美感
を損う欠点があり、また後者は、下地の温度、イオン化
の制御により白色から真黒色１で任意の被膜が得られる
反面、高硬度にすると灰色の被膜となり、真黒色が得ら
れない欠点があった。
本発明は、上述した従来技術の欠点を解消し、被処理物
の表面に黒色を呈し高硬腿であシ、しかも耐蝕性に優れ
た被膜の形成方法を提供することを目的とする。
の表面に黒色を呈し高硬腿であシ、しかも耐蝕性に優れ
た被膜の形成方法を提供することを目的とする。
以下、図面に基づき本発明の詳細な説明する。
図は本発明の方法で使用される装置であり、１は真空処
理室で、この真空処理室ｌは排気用配管２を介して真空
ポンプ８に連結している。そして、前記真空処理室１の
内部下方に、遮蔽板４を介して左右に電子銃部５．６を
設けてあシ、これら電子銃部５．６の上方のるつぼ７．
８には、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、タ
ンタル、クロム、モリブデン、ニオブ、ノーフニウム、
ホウ素、ケイ素等のチタン以外のＷＢ族、マＢ族、およ
び■Ｂ族、またはこれらの炭化物の１つとチタンとから
なる蒸発源ｇ Ｊｉ Ｏをそれぞれ収容し、アース電位
に保っている。前記るりは７．８の上方にはイオン化電
極ｌ１％ １２を設置してあυ、このイオン化電極はｌ
Ｏｖ乃至２００ｖの正の電圧を印加し、前記蒸発源９．
１０とイオン化電極１１．１２との間でアーク放電を起
こさせ、前記蒸発源９、ｌＯをイオン化する。更に、前
記イオン化電極１１．１２の上方にはシャッター１８．
１４を設けてあり、ブレーティング時に駆動軸１５．１
６によって開くようにしている。
理室で、この真空処理室ｌは排気用配管２を介して真空
ポンプ８に連結している。そして、前記真空処理室１の
内部下方に、遮蔽板４を介して左右に電子銃部５．６を
設けてあシ、これら電子銃部５．６の上方のるつぼ７．
８には、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、タ
ンタル、クロム、モリブデン、ニオブ、ノーフニウム、
ホウ素、ケイ素等のチタン以外のＷＢ族、マＢ族、およ
び■Ｂ族、またはこれらの炭化物の１つとチタンとから
なる蒸発源ｇ Ｊｉ Ｏをそれぞれ収容し、アース電位
に保っている。前記るりは７．８の上方にはイオン化電
極ｌ１％ １２を設置してあυ、このイオン化電極はｌ
Ｏｖ乃至２００ｖの正の電圧を印加し、前記蒸発源９．
１０とイオン化電極１１．１２との間でアーク放電を起
こさせ、前記蒸発源９、ｌＯをイオン化する。更に、前
記イオン化電極１１．１２の上方にはシャッター１８．
１４を設けてあり、ブレーティング時に駆動軸１５．１
６によって開くようにしている。
１７は前記真空処理室１内にメタン、アセチレン等の炭
化水素ガスを送り込むためのパイプで、このパイプ１７
はコントロール弁１８を介してガス源１９に結合してい
る。２０は、前記真空処理室ｌの上方に保持した被処理
物であり、この被処理物２０はＯｖ乃至５００ｖの負の
電圧を印加する。
化水素ガスを送り込むためのパイプで、このパイプ１７
はコントロール弁１８を介してガス源１９に結合してい
る。２０は、前記真空処理室ｌの上方に保持した被処理
物であり、この被処理物２０はＯｖ乃至５００ｖの負の
電圧を印加する。
次に、この装置によって被処理物２０の表面に黒色被膜
を形成する方法について説明する。まず真空ポンプ８を
作動して真空処理室１内を１０−５ト一ル程度に排気減
圧し、この状態で電子銃部６によって蒸発源１０である
チタンを蒸発させると共にイオン化電極１２にＩＯＶ乃
至２００ｖの正電圧を印加する。これにより蒸発したチ
タンは正にイオン化する。そして、被処理物２０にＯＶ
乃至５００ｖの負電圧を印加し、ここで駆動軸１６を回
転してシャッター１４を開く。なお前記被処理物２０に
印加する電圧をＯＶ乃至５００ｖとした理由は、５００
Ｖ以上ではイオンの衝突によるダメージで被処理物２０
の表面が荒らされるからである。
を形成する方法について説明する。まず真空ポンプ８を
作動して真空処理室１内を１０−５ト一ル程度に排気減
圧し、この状態で電子銃部６によって蒸発源１０である
チタンを蒸発させると共にイオン化電極１２にＩＯＶ乃
至２００ｖの正電圧を印加する。これにより蒸発したチ
タンは正にイオン化する。そして、被処理物２０にＯＶ
乃至５００ｖの負電圧を印加し、ここで駆動軸１６を回
転してシャッター１４を開く。なお前記被処理物２０に
印加する電圧をＯＶ乃至５００ｖとした理由は、５００
Ｖ以上ではイオンの衝突によるダメージで被処理物２０
の表面が荒らされるからである。
次に、コントロール弁１Ｂを開き、前記真空処理室１内
に炭化水素ガスを５×ＩＯ乃至８×１０−２トールの範
囲で供給するが、その理由は、２ＸＩＯ’トール以下で
は反応が遅すぎ、また８×１０’−２ト一ル以上ではガ
ス分子によって蒸発金属のエネルギーが失われて、被膜
の光沢が失われるからである。そして、電子銃部５によ
って蒸発源９を蒸発させると共にイオン化電極１１にＩ
ＯＶ乃至２００ｖの正電圧を印加し、イオン化させ、駆
動軸１５を回転してシャッター１８を開き、前記被処理
物２０の表面に混合被膜を形成する。ここで、蒸発源を
２ケ所設けているが、この理由は一般的に異種金属は蒸
気圧や比重が違い、この違いによシ形成される被膜の再
現性に乏しいからである。すなわち、同一の蒸発源に２
種以上の金属を混合して収容すると、蒸気圧の高い金属
は先に蒸発し、比重の小さい金属は溶解した際に比重の
大きい金属の上にきて先に蒸発してしまって、被膜形成
の開始時と終了時とでは膜質が一定せず、これを制御す
ることは困難であるので、それぞれの金属を独立して蒸
発させ、イオン化している。
に炭化水素ガスを５×ＩＯ乃至８×１０−２トールの範
囲で供給するが、その理由は、２ＸＩＯ’トール以下で
は反応が遅すぎ、また８×１０’−２ト一ル以上ではガ
ス分子によって蒸発金属のエネルギーが失われて、被膜
の光沢が失われるからである。そして、電子銃部５によ
って蒸発源９を蒸発させると共にイオン化電極１１にＩ
ＯＶ乃至２００ｖの正電圧を印加し、イオン化させ、駆
動軸１５を回転してシャッター１８を開き、前記被処理
物２０の表面に混合被膜を形成する。ここで、蒸発源を
２ケ所設けているが、この理由は一般的に異種金属は蒸
気圧や比重が違い、この違いによシ形成される被膜の再
現性に乏しいからである。すなわち、同一の蒸発源に２
種以上の金属を混合して収容すると、蒸気圧の高い金属
は先に蒸発し、比重の小さい金属は溶解した際に比重の
大きい金属の上にきて先に蒸発してしまって、被膜形成
の開始時と終了時とでは膜質が一定せず、これを制御す
ることは困難であるので、それぞれの金属を独立して蒸
発させ、イオン化している。
なお、蒸発源を８ケ所以上設け、８種以上の金属を蒸発
し、イオン化するようにしてもよい。また、イオン化電
極１１，１２に印加する電圧を１０’Ｖ乃至２００ｖと
した理由は、ＩＯＶ以下では放電が起こらず、２００Ｖ
以上では異状放電が起き易く実用に適さないためである
。
し、イオン化するようにしてもよい。また、イオン化電
極１１，１２に印加する電圧を１０’Ｖ乃至２００ｖと
した理由は、ＩＯＶ以下では放電が起こらず、２００Ｖ
以上では異状放電が起き易く実用に適さないためである
。
次に、一実施例の作用を示す。真空処理室１をあらかじ
め１０ トール程度に排気減圧してチタンよシなる蒸発
源１０を８ＫＷの電力を投入した電子銃部６にて蒸発さ
せ、イオン化電極１２に５０ｖの正電圧を印加してチタ
ンをイオン化する。
め１０ トール程度に排気減圧してチタンよシなる蒸発
源１０を８ＫＷの電力を投入した電子銃部６にて蒸発さ
せ、イオン化電極１２に５０ｖの正電圧を印加してチタ
ンをイオン化する。
そして、被処理物２０にステンレス板を用いて１００Ｖ
の負電圧を印加し、駆動軸１６を回転してシャッター１
４を開く。次いでコントロール弁１８を開いてアセチレ
ンよりなる炭化水素ガスを、前記真空処理室ｌ内にｓ
ｘ ｉ ｏ−’ ）−ルを保つよう供給する。その後、
蒸発源９としてホウ素を用い、これを７ＫＷの電力を投
入した電子銃部５により蒸発させ、イオン化電極１１に
ＳＯＶの正電圧を印加してイオン化させて、駆動軸１５
を回転し、シャッター１８を開く。乙のとき、蒸発源９
、ｌＯと被処理物２０との距離を８０ｃｍにし、１０分
間処理を行った。
の負電圧を印加し、駆動軸１６を回転してシャッター１
４を開く。次いでコントロール弁１８を開いてアセチレ
ンよりなる炭化水素ガスを、前記真空処理室ｌ内にｓ
ｘ ｉ ｏ−’ ）−ルを保つよう供給する。その後、
蒸発源９としてホウ素を用い、これを７ＫＷの電力を投
入した電子銃部５により蒸発させ、イオン化電極１１に
ＳＯＶの正電圧を印加してイオン化させて、駆動軸１５
を回転し、シャッター１８を開く。乙のとき、蒸発源９
、ｌＯと被処理物２０との距離を８０ｃｍにし、１０分
間処理を行った。
このようにして、約２μｍの厚さで、真黒色の被膜を形
成し、その硬度を測定したとζろ、ビッカース硬度は５
０り荷重で１２００Ｋｇ／−であった。また、人工汗に
２４時間浸漬を行った後も変化は認められなかった。
成し、その硬度を測定したとζろ、ビッカース硬度は５
０り荷重で１２００Ｋｇ／−であった。また、人工汗に
２４時間浸漬を行った後も変化は認められなかった。
以上説明したように、本発明の方法によれば、メガネフ
レームやライターケース、時計ケース、或いは時計バン
ド等の被処理物の表面に、黒色を呈し、耐摩耗性および
耐蝕性に優れた被膜を形成することができる。
レームやライターケース、時計ケース、或いは時計バン
ド等の被処理物の表面に、黒色を呈し、耐摩耗性および
耐蝕性に優れた被膜を形成することができる。
図面は本発明による被処理物に黒色被膜を形成する方法
で使用される装置の一例を示す図である。 ｌ・・真空処理室、９、ｌＯ・・蒸発源、２０・・被処
理物。 特許出願人 宏和エンジニアリング株式会社
で使用される装置の一例を示す図である。 ｌ・・真空処理室、９、ｌＯ・・蒸発源、２０・・被処
理物。 特許出願人 宏和エンジニアリング株式会社
Claims (1)
- 炭化水素ガスを真空処理室内に２ Ｘ ｌ Ｏ−５乃至
８ｘｌＯトールを保つように導入する段階と、バナジウ
ム、ジルコニウム、タングステン、タンタル、クロム、
モリブデン、ニオブ、ハフニウム、ホウ素、ケイ素、ま
たはこれらの炭化物の１″：）または複数とチタンとか
らなる蒸発源を蒸発させてこれらをイオン化する段階と
を経て、被処理物に０乃至５００ｖの負電圧を印加し、
前記炭化素子ガスとイオン化した前記蒸発源とを反応さ
せ前記被処理物にｎ膜を形成したことを特徴とする被処
理物に黒色被膜を形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20118983A JPS6092465A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 被処理物に黒色被膜を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20118983A JPS6092465A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 被処理物に黒色被膜を形成する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092465A true JPS6092465A (ja) | 1985-05-24 |
Family
ID=16436821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20118983A Pending JPS6092465A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 被処理物に黒色被膜を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092465A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62116762A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Citizen Watch Co Ltd | 外装部品の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-27 JP JP20118983A patent/JPS6092465A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62116762A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Citizen Watch Co Ltd | 外装部品の製造方法 |
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