JPS6320445A - イオンプレ−テイング - Google Patents
イオンプレ−テイングInfo
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- JPS6320445A JPS6320445A JP16355486A JP16355486A JPS6320445A JP S6320445 A JPS6320445 A JP S6320445A JP 16355486 A JP16355486 A JP 16355486A JP 16355486 A JP16355486 A JP 16355486A JP S6320445 A JPS6320445 A JP S6320445A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［ａ業上の利用分野］
この発明は例えば機械部品等の被処理物品の表面に金属
又はセラミックの被膜を蒸着形成させるイオンプレーテ
ィング、特にその被膜の耐摩耗性の向上に関するもので
ある。
又はセラミックの被膜を蒸着形成させるイオンプレーテ
ィング、特にその被膜の耐摩耗性の向上に関するもので
ある。
［従来の技術］
第３図はイオンプレーティング装置を示す説明図であり
、図において１はホローカソードガン、２はホローカソ
ードガン１の上方に設けられたコーティング対象部品（
被処理物品）支持用の冶具、３はホローカソードガン１
と治具２との間に設けられたシャッタ、４はホローカソ
ードガン１と治具２とを取り囲む真空容器、５は真空容
器４の内側に設けられた複数の予熱ヒータ、６は真空容
器４内に反応ガスを導入するガスチューブである。ホロ
ーカソードガン１は、第４図に示すように、内部に金属
Ｔｉを入れた水冷Ｃｕルツボ製のハース７と、このハー
ス内のＴｉにＡｒガスを吹き付けるＴａチューブ８とか
らなり、ハース７とＴａチューブ８との間には、ハース
７がプラス、Ｔａチューブ８がマイナスとなるように電
圧が印加されている。
、図において１はホローカソードガン、２はホローカソ
ードガン１の上方に設けられたコーティング対象部品（
被処理物品）支持用の冶具、３はホローカソードガン１
と治具２との間に設けられたシャッタ、４はホローカソ
ードガン１と治具２とを取り囲む真空容器、５は真空容
器４の内側に設けられた複数の予熱ヒータ、６は真空容
器４内に反応ガスを導入するガスチューブである。ホロ
ーカソードガン１は、第４図に示すように、内部に金属
Ｔｉを入れた水冷Ｃｕルツボ製のハース７と、このハー
ス内のＴｉにＡｒガスを吹き付けるＴａチューブ８とか
らなり、ハース７とＴａチューブ８との間には、ハース
７がプラス、Ｔａチューブ８がマイナスとなるように電
圧が印加されている。
イオンプレーティング装置は上記のように構成され、従
来のイオンプレーティングは次のようにして行なわれて
いた。すなわち、真空容器４内の圧力を例えば０．０２
〜０．００５Ｔｏｒｒ程度のアルゴンガス雰囲気に保ち
、金属の蒸発源であるホローカソードガン１の上部に、
コーティング対象部品を治具２を介してセットし、部品
に対して該蒸発源との間に負の電圧をかけると、部品と
周囲との間でグロー放電が発生して、部品のまわりに強
い電界ができる。この状態で該蒸発源から金属（Ｔｉ）
を蒸発させると、蒸発原子はグロー放電のプラズマ中で
電離されてイオンになり、このイオン化された蒸発原子
はガスイオンと共に電界で加速されて対象部品に衝撃的
に入射し、その結果、第５図に示すように、被処理物品
１０の表面にＴｉＮの被膜１２が形成されていた。
来のイオンプレーティングは次のようにして行なわれて
いた。すなわち、真空容器４内の圧力を例えば０．０２
〜０．００５Ｔｏｒｒ程度のアルゴンガス雰囲気に保ち
、金属の蒸発源であるホローカソードガン１の上部に、
コーティング対象部品を治具２を介してセットし、部品
に対して該蒸発源との間に負の電圧をかけると、部品と
周囲との間でグロー放電が発生して、部品のまわりに強
い電界ができる。この状態で該蒸発源から金属（Ｔｉ）
を蒸発させると、蒸発原子はグロー放電のプラズマ中で
電離されてイオンになり、このイオン化された蒸発原子
はガスイオンと共に電界で加速されて対象部品に衝撃的
に入射し、その結果、第５図に示すように、被処理物品
１０の表面にＴｉＮの被膜１２が形成されていた。
［発明が解決しようとする問題点］
上記のような従来のイオンプレーティングでは、被処理
物品の表面にＴｉＮの被膜が形成されているだけなので
、潤滑性はあるもののその耐摩耗性が不充分であるとい
う問題点があった。
物品の表面にＴｉＮの被膜が形成されているだけなので
、潤滑性はあるもののその耐摩耗性が不充分であるとい
う問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、耐摩耗性に優れた被覆を形成させることができる
イオンプレーティングを得ることを目的とする。
ので、耐摩耗性に優れた被覆を形成させることができる
イオンプレーティングを得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
二の発明に係るイオンプレーティングは、負の電圧が印
加された被処理物品に、正電荷が与えられたガス状のコ
ーティング物質を照射して、該被処理物品の表面を該コ
ーティング物質で被覆するイオンプレーティングにおい
て、前記コーティング物質をＴｉからＴｉＮへと変化さ
せながら照射するようにしたことを特徴とするものであ
る。
加された被処理物品に、正電荷が与えられたガス状のコ
ーティング物質を照射して、該被処理物品の表面を該コ
ーティング物質で被覆するイオンプレーティングにおい
て、前記コーティング物質をＴｉからＴｉＮへと変化さ
せながら照射するようにしたことを特徴とするものであ
る。
［作用］
この発明においては、コーティング物質をＴｉからＴｉ
Ｎへと変化させながら照射するようにしたので、その被
処理面の上に硬度を示すＴｉ２８層が形成され、その上
に潤滑性を示すＴｉＮ層が形成される。
Ｎへと変化させながら照射するようにしたので、その被
処理面の上に硬度を示すＴｉ２８層が形成され、その上
に潤滑性を示すＴｉＮ層が形成される。
［実施例コ
この発明に係るイオンプレーティングは、負の電圧が印
加された被処理物品に、正電荷が与えられたガス状のコ
ーティング物質を、ＴｉからＴｉＮへと変化させながら
照射するようにしたものである。コーティング物質をＴ
ｉからＴｉＮへと変化させながら照射すると、その被処
理面の上に硬度を示すＴｉ２Ｎ層が形成され、その上に
潤滑性を示すＴｉＮ層が形成される。
加された被処理物品に、正電荷が与えられたガス状のコ
ーティング物質を、ＴｉからＴｉＮへと変化させながら
照射するようにしたものである。コーティング物質をＴ
ｉからＴｉＮへと変化させながら照射すると、その被処
理面の上に硬度を示すＴｉ２Ｎ層が形成され、その上に
潤滑性を示すＴｉＮ層が形成される。
第１図はこの発明の一実施例によるものの断面図であり
、図において、１０は被処理物品、１１はこの被処理物
品の上に形成されたＴｉｚ Ｎ層、１２はこのＴｉ、Ｎ
層の上に形成されたＴｉＮ層である。
、図において、１０は被処理物品、１１はこの被処理物
品の上に形成されたＴｉｚ Ｎ層、１２はこのＴｉ、Ｎ
層の上に形成されたＴｉＮ層である。
上記のように処理された被処理物品においては、被処理
物品が摩擦を受ける部分で使用された場合、その被処理
面のＴｉＮ層１２は潤滑性を示し、Ｔｉ２Ｎ層１１が硬
度を示し、その結果、被覆の耐摩耗性が向上することに
なる。
物品が摩擦を受ける部分で使用された場合、その被処理
面のＴｉＮ層１２は潤滑性を示し、Ｔｉ２Ｎ層１１が硬
度を示し、その結果、被覆の耐摩耗性が向上することに
なる。
実験例
被覆なしの試験片、ＴｉＮ被覆の試験片、Ｔｉ２Ｎ＋Ｔ
ｉＮ被覆の試験片を準備し、回転している超硬合金製の
柱状体に、これらの試験片を一定の圧力Ｐで押し付け、
耐摩耗実験をし、それぞれについて摩耗量を調べたとこ
ろ、第２図に示すような結果にな）た。この結果からＴ
ｉ２Ｎ＋ＴｉＮ被覆の試験片が他の試験片と比較して耐
摩耗性に優れていることがわかる。
ｉＮ被覆の試験片を準備し、回転している超硬合金製の
柱状体に、これらの試験片を一定の圧力Ｐで押し付け、
耐摩耗実験をし、それぞれについて摩耗量を調べたとこ
ろ、第２図に示すような結果にな）た。この結果からＴ
ｉ２Ｎ＋ＴｉＮ被覆の試験片が他の試験片と比較して耐
摩耗性に優れていることがわかる。
なお、上記実施例では基材の上にＴｉ２Ｎを被覆し、そ
の上にＴｉＮを被覆しているが、基材の上にＴｉを被覆
し、その上にＴｉ、Ｎを被覆し、その上にＴｉＮを被覆
してもよい。
の上にＴｉＮを被覆しているが、基材の上にＴｉを被覆
し、その上にＴｉ、Ｎを被覆し、その上にＴｉＮを被覆
してもよい。
［発明の効果］
この発明は以上説明したとおり、被処理物品の表面に硬
度を示すＴｉ、Ｎ層が形成され、その上に潤滑性を示す
ＴｉＮ層が形成されるようにしたので、被処理物品が摩
擦を受ける部分で使用された場合、その被処理面のＴｉ
Ｎ層は潤滑性を示し、Ｔｉ、Ｎ層が硬度を示し、その結
果、全体として被覆の耐摩耗性が向上するという効果が
ある。
度を示すＴｉ、Ｎ層が形成され、その上に潤滑性を示す
ＴｉＮ層が形成されるようにしたので、被処理物品が摩
擦を受ける部分で使用された場合、その被処理面のＴｉ
Ｎ層は潤滑性を示し、Ｔｉ、Ｎ層が硬度を示し、その結
果、全体として被覆の耐摩耗性が向上するという効果が
ある。
ｉｔ図はこの発明の一実施例によるものの断面図、第２
図は被覆と摩耗の程度との関係を示すグラフ、第３図は
イオンプレーティング装置の説明図、第４図はホローカ
ソードガンの説明図、第５図は従来法によるものの断面
図である。 図において、１はホローカソードガン、２は治具、３は
シャッタ、４は真空容器、５は予熱ヒータ、６はガスチ
ューブ、７はハース、８はＴａチューブ、１０は被処理
物品、１１はＴｉ、Ｎ層、１２はＴｉＮ層である なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１図 第５図 ’ＪＬ ＴｉＮ η刺◆ＴｉＮ破 覆 第３図 第４図
図は被覆と摩耗の程度との関係を示すグラフ、第３図は
イオンプレーティング装置の説明図、第４図はホローカ
ソードガンの説明図、第５図は従来法によるものの断面
図である。 図において、１はホローカソードガン、２は治具、３は
シャッタ、４は真空容器、５は予熱ヒータ、６はガスチ
ューブ、７はハース、８はＴａチューブ、１０は被処理
物品、１１はＴｉ、Ｎ層、１２はＴｉＮ層である なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第１図 第５図 ’ＪＬ ＴｉＮ η刺◆ＴｉＮ破 覆 第３図 第４図
Claims (1)
- 負の電圧が印加された被処理物品に、正電荷が与えられ
たガス状のコーティング物質を照射して、該被処理物品
の表面を該コーティング物質で被覆するイオンプレーテ
ィングにおいて、前記コーティング物質をＴｉからＴｉ
Ｎへと変化させながら照射するようにしたことを特徴と
するイオンプレーティング。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355486A JPS6320445A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | イオンプレ−テイング |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355486A JPS6320445A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | イオンプレ−テイング |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320445A true JPS6320445A (ja) | 1988-01-28 |
Family
ID=15776101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16355486A Pending JPS6320445A (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | イオンプレ−テイング |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6320445A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5626920A (en) * | 1991-10-04 | 1997-05-06 | Tulip Memory Systems, Inc. | Method for coating metal disc substrates for magnetic-recording media |
| US6333426B1 (en) | 1992-12-03 | 2001-12-25 | Eka Nobel Ab | Chiral adsorbents and preparation thereof as well as compounds on which the absorbents are based and preparation of the compounds |
| CN103668062A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-03-26 | 大连远东工具有限公司 | 纳米多层复合膜及其制备方法 |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP16355486A patent/JPS6320445A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5626920A (en) * | 1991-10-04 | 1997-05-06 | Tulip Memory Systems, Inc. | Method for coating metal disc substrates for magnetic-recording media |
| US6333426B1 (en) | 1992-12-03 | 2001-12-25 | Eka Nobel Ab | Chiral adsorbents and preparation thereof as well as compounds on which the absorbents are based and preparation of the compounds |
| CN103668062A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-03-26 | 大连远东工具有限公司 | 纳米多层复合膜及其制备方法 |
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