JPS6089842A - 光学記録媒体 - Google Patents
光学記録媒体Info
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- JPS6089842A JPS6089842A JP58183439A JP18343983A JPS6089842A JP S6089842 A JPS6089842 A JP S6089842A JP 58183439 A JP58183439 A JP 58183439A JP 18343983 A JP18343983 A JP 18343983A JP S6089842 A JPS6089842 A JP S6089842A
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- Japan
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- recording
- substrate
- film
- medium
- naphthoquinone
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
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- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ光によって情報を記録再生することので
きる光学記録媒体に関し、さらに詳しくは半導体レーザ
の発振波長の光エネルギーにより物質状態の変化を利用
して記録を行う光学記録媒体に関する。
きる光学記録媒体に関し、さらに詳しくは半導体レーザ
の発振波長の光エネルギーにより物質状態の変化を利用
して記録を行う光学記録媒体に関する。
従来、この種の光学記録媒体としてＴｅ合金、Ｔｅ酸化
物、バブル形成媒体及び有機色素等が用いられていた。
物、バブル形成媒体及び有機色素等が用いられていた。
Ｔｅ合金は、Ｔｅと半導体、例えばＡｓ、８ｅ等の固溶
合金として用いられている。この媒体は、比較的書き込
み感度か高く、父記録再生の光学系を小型にし得る半導
体レーザにも適合するが、化学的に不安定であり、空気
中放置で容易に劣化することと、槽底材料（Ｔｅ、Ａｓ
、Ｓｅ＠か毒性を示すという問題点がある。
合金として用いられている。この媒体は、比較的書き込
み感度か高く、父記録再生の光学系を小型にし得る半導
体レーザにも適合するが、化学的に不安定であり、空気
中放置で容易に劣化することと、槽底材料（Ｔｅ、Ａｓ
、Ｓｅ＠か毒性を示すという問題点がある。
Ｔｅ酸化物は、Ｔｅ合金より安定であるが、その光学特
性、例えは吸収率、反射率が酸化状龜に敏感に依存する
。そのため、この媒体は媒体形成時に酸化状態を厳しく
制御しなけれはならないという欠点を有する。
性、例えは吸収率、反射率が酸化状龜に敏感に依存する
。そのため、この媒体は媒体形成時に酸化状態を厳しく
制御しなけれはならないという欠点を有する。
バブル形成媒体は、反射層、透過層、吸収層から成る３
層構造であり、繰り返し反射干渉により光の吸収率を高
め高感度化を図っている。したがって、この媒体は現在
量も高感度な媒体の一つであるが、多層構造のため成膜
回数が多いことと、繰り返し反射干渉が各層の厚さに大
きく依存するため、成膜時の膜厚制御を厳しく行なわな
けれはならないという欠点がある。
層構造であり、繰り返し反射干渉により光の吸収率を高
め高感度化を図っている。したがって、この媒体は現在
量も高感度な媒体の一つであるが、多層構造のため成膜
回数が多いことと、繰り返し反射干渉が各層の厚さに大
きく依存するため、成膜時の膜厚制御を厳しく行なわな
けれはならないという欠点がある。
有機色素媒体は種々の形態で開発されている。
それらを大別すると色素単体型と色素を高分子樹脂中に
溶剤で溶解させた相溶型に分けられる。相溶型の媒体は
たとえは特開昭５５−１６１６９０号に開示されている
ように高分子樹脂であるポリビニールアセテート１こ色
素としてポリエステルイエローを溶剤で相溶し、回転塗
布法で基板上に形成される。この媒体は、比較的短波長
領域（４００〜５００ｎｍ）ｌこ吸収を示すが、半導体
レーザの波長域（〜８００ｎｍ）ではほとんど吸収が無
く、半導体レーザを使用する記録装置の媒体としては使
用することができない。又、一般に相溶型の媒体は、媒
体形成法が溶媒塗布に限られ、基板に樹脂を使用する場
合は、樹脂を溶解しない溶剤を選択しなければならない
という制約がある。一方、色素単体型の媒体としては、
たとえはスクアＩＪ ＩＪウム色素を蒸着法で形成する
媒体が特開昭５６−４６２２１号に開示されている。こ
の色素は半導体レーザの発振波長である近赤外波長領域
に比較的大きな吸収があるか、記録感度はＴｅ合金より
も悪い一本発明の目的は、前述の従来技術の欠点を改良
し、半導体レーザの波長領域において高感度で化学的に
安定な光学記録媒体８提供することであるうすなわち本
発明は、基板の片側菫たは両側に記録層を設け、情報を
レーザ光線によって記録し、かつ読み取る光学記録媒体
において、記録層として （式中几はＯＨ，ＮＨ，、ＮＨＸ、ＮＸ、を表わし、Ａ
、Ｈ，Ｏはアルキル基あるいはアルコキシル基を表わす
。（ここでＸはアルキル基を表わす、））で表わされる
ナフトキノン系色素を主成分とする有機薄□膜を形成し
たことを特徴とする。
溶剤で溶解させた相溶型に分けられる。相溶型の媒体は
たとえは特開昭５５−１６１６９０号に開示されている
ように高分子樹脂であるポリビニールアセテート１こ色
素としてポリエステルイエローを溶剤で相溶し、回転塗
布法で基板上に形成される。この媒体は、比較的短波長
領域（４００〜５００ｎｍ）ｌこ吸収を示すが、半導体
レーザの波長域（〜８００ｎｍ）ではほとんど吸収が無
く、半導体レーザを使用する記録装置の媒体としては使
用することができない。又、一般に相溶型の媒体は、媒
体形成法が溶媒塗布に限られ、基板に樹脂を使用する場
合は、樹脂を溶解しない溶剤を選択しなければならない
という制約がある。一方、色素単体型の媒体としては、
たとえはスクアＩＪ ＩＪウム色素を蒸着法で形成する
媒体が特開昭５６−４６２２１号に開示されている。こ
の色素は半導体レーザの発振波長である近赤外波長領域
に比較的大きな吸収があるか、記録感度はＴｅ合金より
も悪い一本発明の目的は、前述の従来技術の欠点を改良
し、半導体レーザの波長領域において高感度で化学的に
安定な光学記録媒体８提供することであるうすなわち本
発明は、基板の片側菫たは両側に記録層を設け、情報を
レーザ光線によって記録し、かつ読み取る光学記録媒体
において、記録層として （式中几はＯＨ，ＮＨ，、ＮＨＸ、ＮＸ、を表わし、Ａ
、Ｈ，Ｏはアルキル基あるいはアルコキシル基を表わす
。（ここでＸはアルキル基を表わす、））で表わされる
ナフトキノン系色素を主成分とする有機薄□膜を形成し
たことを特徴とする。
上記の一般式で表わされるナフトキノン系色素は、どれ
も吸収ピーク波長が近赤外領域にあるが、上記一般式中
のＲとしてＮＨｌを付加したものが半導体レーザの発振
波長と最も良く適合し、ざらにＡ、Ｂ、Ｏが炭素数４以
下のアルキル基あるいはアルコキシル晶としたものが他
の諸条件に対して最も好ましいものである。
も吸収ピーク波長が近赤外領域にあるが、上記一般式中
のＲとしてＮＨｌを付加したものが半導体レーザの発振
波長と最も良く適合し、ざらにＡ、Ｂ、Ｏが炭素数４以
下のアルキル基あるいはアルコキシル晶としたものが他
の諸条件に対して最も好ましいものである。
たとえは
で表わされる５−アミノ−２，３−シ“シアノ−８−（
３，４，５−トリメトキシアニリ）−１，４−ナフトキ
ノンの吸収スペクトルをクロロホルムｉ Ａｌ１中で測
定すると、吸収極太波長λｍａｘとして７７２ｎｍが得
られ、半導体レーザＱ）発振波長と良く適合することが
判る。
３，４，５−トリメトキシアニリ）−１，４−ナフトキ
ノンの吸収スペクトルをクロロホルムｉ Ａｌ１中で測
定すると、吸収極太波長λｍａｘとして７７２ｎｍが得
られ、半導体レーザＱ）発振波長と良く適合することが
判る。
前記一般式で表わされるナフトキノン系色素Ｑ）合成例
を次に示す。
を次に示す。
菫す公知の２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノンを
硝酸と硫酸でニトロ化して５−ニトロ−２，３−ジクロ
ロ−１，４−ナフトキノンを得る。次に青酸ソーダでシ
アノ化を行ない５−ニトロ−２，３−ジシアノ−１，４
−ジヒドロキシナフタレンを得る。
硝酸と硫酸でニトロ化して５−ニトロ−２，３−ジクロ
ロ−１，４−ナフトキノンを得る。次に青酸ソーダでシ
アノ化を行ない５−ニトロ−２，３−ジシアノ−１，４
−ジヒドロキシナフタレンを得る。
続いて、塩化第１スズと塩酸で遷元処理後、塩化第２鉄
で酸化処理して５−アミノ−２，３−ジシアノ−１，４
ナフトキノン０）を得る。ＣＩ）Ｉｇ＋よく粉砕し、エ
タノール４００ｍ１ｌ に分散させ還流しておく。これ
に３．４．５−トリメトキシアニリノ１．６４ｇ（２モ
ル比）のエタノール（１０ｍ／）溶液を滴下し、還元下
に１０分かきまぜる。反応後熱時ｆ過し、Ｆ’液を水冷
して生じた沈澱をｆ過し、乾燥後クロロホルムから再結
晶すると７７９ｍｇ （収率４３％）の精製品（ｍｐ２
５７℃）が得られる。
で酸化処理して５−アミノ−２，３−ジシアノ−１，４
ナフトキノン０）を得る。ＣＩ）Ｉｇ＋よく粉砕し、エ
タノール４００ｍ１ｌ に分散させ還流しておく。これ
に３．４．５−トリメトキシアニリノ１．６４ｇ（２モ
ル比）のエタノール（１０ｍ／）溶液を滴下し、還元下
に１０分かきまぜる。反応後熱時ｆ過し、Ｆ’液を水冷
して生じた沈澱をｆ過し、乾燥後クロロホルムから再結
晶すると７７９ｍｇ （収率４３％）の精製品（ｍｐ２
５７℃）が得られる。
また、該精製品は
λｍａｘ （りｏｏホルム中） ７７２ｎｍ質量分析
４０４．３８９．３７９ 元素分析 計算値 ０：６２２４％Ｈ： ３．９９９６
Ｎ： １３．８６％実験値 ０：６２．２６％Ｈ：４．
０１％Ｎ：１３．８３ｔＩ６の同定データによりＮ認し
た。・ 前記ナフトキノン糸色素は、比較的高温、高湿の環境県
外でも安定であり、Ｔｅ合金のような突気中酸化による
劣化は示さない。このことは、保護膜無しで長期間の使
用に耐ることを意味する。
４０４．３８９．３７９ 元素分析 計算値 ０：６２２４％Ｈ： ３．９９９６
Ｎ： １３．８６％実験値 ０：６２．２６％Ｈ：４．
０１％Ｎ：１３．８３ｔＩ６の同定データによりＮ認し
た。・ 前記ナフトキノン糸色素は、比較的高温、高湿の環境県
外でも安定であり、Ｔｅ合金のような突気中酸化による
劣化は示さない。このことは、保護膜無しで長期間の使
用に耐ることを意味する。
又この化合物は、一般の有機色素と同様に低い熱１
伝導率を有しており、その値は金属の／ｉｏ〜’１００
である。したがって、レーザ光記録時の媒体中での熱の
拡散が少なくなり、元照射部の媒体温度を効率良く高め
ることができる。
である。したがって、レーザ光記録時の媒体中での熱の
拡散が少なくなり、元照射部の媒体温度を効率良く高め
ることができる。
記録媒体は、上記ナフトキノン糸色素を蒸着又は溶剤塗
布法により基板の片面又は両面に付着して形成される。
布法により基板の片面又は両面に付着して形成される。
基板材料としては種々のものか使用できるが、一般には
ガラス、ｌ 、合成樹脂が購ましい。合成樹脂としては
ポリメチルメタクリル（ＰＭＭＡ）、ポリビニールクロ
ライド（ＰＶＯ）、ポリサルホン、ポリカーボネート、
エポキシ樹脂等がある。載板形状は円板形状、テープ形
状、シート形状が適用できる。
ガラス、ｌ 、合成樹脂が購ましい。合成樹脂としては
ポリメチルメタクリル（ＰＭＭＡ）、ポリビニールクロ
ライド（ＰＶＯ）、ポリサルホン、ポリカーボネート、
エポキシ樹脂等がある。載板形状は円板形状、テープ形
状、シート形状が適用できる。
基板上に形成されたナフトキノン糸邑累膜に半導体レー
ザ光をレンズで収光して照射すると、照射部の色素膜が
除去されて孔が形成される。この孔形成の機構は明確で
はないが、然発（ｆ＋華）をともなう融解凝集に因ると
考えられる。形成される孔の大きさは、レーザ光の収光
径、レーザパワー、照射時間に依存するが、大体０．２
〜３μｍであることが望ましい。このような孔形成に必
要なレーザエネルギーは小さなものであり、したがって
、短時間で孔形成がｌＩ能である。具体的には、波長８
３０ｎｍ （７）ＡＪＧａＡｓ半導体レーザ光をビーム
径１．４μｍ に収光した場合、色素膜面上でのパワー
は２〜１０ ｍＷ、照射時間は５０〜３００ｎｓｅｃの
範囲で孔を形成することができる。当然のことながら、
上記パワーあるいは照射時間の上限値以上の条件でも孔
を形成することができるか、上記条件は望ましい使用条
件である。情報の記録は、２進情報を孔の有無に対応さ
せてることによりなされる。
ザ光をレンズで収光して照射すると、照射部の色素膜が
除去されて孔が形成される。この孔形成の機構は明確で
はないが、然発（ｆ＋華）をともなう融解凝集に因ると
考えられる。形成される孔の大きさは、レーザ光の収光
径、レーザパワー、照射時間に依存するが、大体０．２
〜３μｍであることが望ましい。このような孔形成に必
要なレーザエネルギーは小さなものであり、したがって
、短時間で孔形成がｌＩ能である。具体的には、波長８
３０ｎｍ （７）ＡＪＧａＡｓ半導体レーザ光をビーム
径１．４μｍ に収光した場合、色素膜面上でのパワー
は２〜１０ ｍＷ、照射時間は５０〜３００ｎｓｅｃの
範囲で孔を形成することができる。当然のことながら、
上記パワーあるいは照射時間の上限値以上の条件でも孔
を形成することができるか、上記条件は望ましい使用条
件である。情報の記録は、２進情報を孔の有無に対応さ
せてることによりなされる。
通常円板状媒体を等速回転させて、記録情報Ｅこ合わせ
て孔を形成して情報を記録する。なお、以上の場合にお
いて色素膜の膜厚は０．０１〜０．５μｍで、好適には
０．０２〜０．２μｍである。このように記録された情
報（孔）の読み出しは、媒体からの反射光又は透過光の
光量変化を検出することによりなされる。一般に反射光
を検出する方法が採用される。
て孔を形成して情報を記録する。なお、以上の場合にお
いて色素膜の膜厚は０．０１〜０．５μｍで、好適には
０．０２〜０．２μｍである。このように記録された情
報（孔）の読み出しは、媒体からの反射光又は透過光の
光量変化を検出することによりなされる。一般に反射光
を検出する方法が採用される。
これは、反射光検出の方が光学系が簡単にγＳるためで
ある。即ち、一つの光学系で投光と集光が可能であるた
めである。読み出しはレーザ光を連続させて照射する。
ある。即ち、一つの光学系で投光と集光が可能であるた
めである。読み出しはレーザ光を連続させて照射する。
その時の光量は媒体に何らの形状変化が起らない弱いエ
ネルギーに設定され、通常記録時の元ｊｊｔＱ）］１５
〜１／１ｏである。
ネルギーに設定され、通常記録時の元ｊｊｔＱ）］１５
〜１／１ｏである。
記録、再生時の光の入射方向として、媒体面側々基板面
側の２通りがある。本例の如き単層媒体では両方向の配
置とも使用可能である、基板面側入射でヲは、媒体面上
に付着した塵埃に影響されることなく記録、再生が可能
であり、より望ましい形態である。なお、媒体か形成さ
れている面の反ｌｊ側の基板面上ζこ付着した塵埃及び
その面のキズ等の欠陥は、基板厚さが１ｍ以上であれは
、その面でのビーム径か充分大きいので記録、再生に悪
影響を与えることは少ない。
側の２通りがある。本例の如き単層媒体では両方向の配
置とも使用可能である、基板面側入射でヲは、媒体面上
に付着した塵埃に影響されることなく記録、再生が可能
であり、より望ましい形態である。なお、媒体か形成さ
れている面の反ｌｊ側の基板面上ζこ付着した塵埃及び
その面のキズ等の欠陥は、基板厚さが１ｍ以上であれは
、その面でのビーム径か充分大きいので記録、再生に悪
影響を与えることは少ない。
情報は孔列として記録される。孔列は一般に同心円状又
はスパイラル状の多数のトラックｆ ノｌｔ Ｘする。
はスパイラル状の多数のトラックｆ ノｌｔ Ｘする。
再生する場合、光ビームは特定トラックの孔列上をＭ＃
甑＜追跡する必要がある。これを実現する一つの手段と
して、回転機構の精度を空気軸受１よどを使用して高め
るという方法がある。しかし、この場合は、回転系が複
雑となり、又高価となるので実用的ではない。より望ま
しいのは、裁板上に光の案内溝を設ける方法である。ビ
ーム径程度の溝に光が入射すると、元が回折される。
甑＜追跡する必要がある。これを実現する一つの手段と
して、回転機構の精度を空気軸受１よどを使用して高め
るという方法がある。しかし、この場合は、回転系が複
雑となり、又高価となるので実用的ではない。より望ま
しいのは、裁板上に光の案内溝を設ける方法である。ビ
ーム径程度の溝に光が入射すると、元が回折される。
ビーム中心が溝からすれるにつれで回折光強度の空間分
布が異なり、これを検出して、ビームを溝の中心に入射
させるようにサーボ糸を構成することができる。通常溝
の幅は０．６〜１．２μｍ、その深さは使用する記録再
生波長の１／８〜Ｘ／４ の範囲に設定される。したが
って記録層は溝付基板面上に形成される。
布が異なり、これを検出して、ビームを溝の中心に入射
させるようにサーボ糸を構成することができる。通常溝
の幅は０．６〜１．２μｍ、その深さは使用する記録再
生波長の１／８〜Ｘ／４ の範囲に設定される。したが
って記録層は溝付基板面上に形成される。
前記一般式で表わされるナフトキノン色素の薄膜は通常
の抵抗加熱蒸着法により容易に形成する、ことができる
。なお、置換基ＡＳＢ１０がすべて水素原子である場合
は、蒸着が困難で良好な膜か得られない。室温に保持さ
れた基板上に薄膜を形成すると、その結晶性は無定形、
即ち非晶質となる。非晶質膜からの反射光ζこは、多結
晶膜で見られる粒界ノイズが含まれないので非晶質膜を
使用した時の再生のＳ／Ｎは良好である。・以下図面を
参照して本発明の詳細な説明する。
の抵抗加熱蒸着法により容易に形成する、ことができる
。なお、置換基ＡＳＢ１０がすべて水素原子である場合
は、蒸着が困難で良好な膜か得られない。室温に保持さ
れた基板上に薄膜を形成すると、その結晶性は無定形、
即ち非晶質となる。非晶質膜からの反射光ζこは、多結
晶膜で見られる粒界ノイズが含まれないので非晶質膜を
使用した時の再生のＳ／Ｎは良好である。・以下図面を
参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は、笑際に蒸着で基板上に作成した５−アミノ−
２，３−ジシアノ−８−（３，４，５−１−リメトキシ
アニリ））−１，４−ナフトキノン色素の薄膜の吸収ス
ペクトルを示したものである。これより、Ａ １３ Ｇ
ａ Ａ ｓ半導体レーザの発振波長である〜８００ｎ
ｍ付近に吸収極大があり、本色素が半導体レーザを使用
する光学記録媒体として好適であることが確認された。
２，３−ジシアノ−８−（３，４，５−１−リメトキシ
アニリ））−１，４−ナフトキノン色素の薄膜の吸収ス
ペクトルを示したものである。これより、Ａ １３ Ｇ
ａ Ａ ｓ半導体レーザの発振波長である〜８００ｎ
ｍ付近に吸収極大があり、本色素が半導体レーザを使用
する光学記録媒体として好適であることが確認された。
次に１．２ＦＩｌｌ＋厚の円板状のＰＭＭＡ 裁板上に
、５−アミノ−２，３ジシアノ−８−（３，４，５−）
リメトキシアニリノ）−１，４−ナフトキノン色素を抵
抗加熱法で蒸着し、膜＃８３５ Ａの膜を得た。抵抗加
熱ボート材としてＭＯを使用し、蒸着前および蒸着時の
真壁度は七わぞれ６ Ｘ １０ ’ｌ’ｏｒζ９ＸｌＯ
Ｔ餌であった。蒸着速度を５Ａ／ｍｉｎとし、基板温度
は自然放置温度とした。この膜の波長８３０ｎｍでの吸
収率は３２％であり、反射率は２２％であった。
、５−アミノ−２，３ジシアノ−８−（３，４，５−）
リメトキシアニリノ）−１，４−ナフトキノン色素を抵
抗加熱法で蒸着し、膜＃８３５ Ａの膜を得た。抵抗加
熱ボート材としてＭＯを使用し、蒸着前および蒸着時の
真壁度は七わぞれ６ Ｘ １０ ’ｌ’ｏｒζ９ＸｌＯ
Ｔ餌であった。蒸着速度を５Ａ／ｍｉｎとし、基板温度
は自然放置温度とした。この膜の波長８３０ｎｍでの吸
収率は３２％であり、反射率は２２％であった。
第２図は、このようにして形成された媒体を示している
。ＰＭＭＡ 爪板ｌＯ上に色素膜２０が形成されている
。この媒体ｌこ矢印３０の方向から波長８３０ｎｍの半
導体レーザ光を光学系（図示せず）で収光して照射し、
記録再生を行なった。媒体の回転数は記録再生位置での
線速か約４ ｍ ／ ｓｅｅとなるように選択した。記
録周波数を１ＭＨｚ とした場合、記録パワーが５ｍＷ
以上で５０ｄＢ以上の再生（３／Ｎが得られた。このよ
うな記録再生特性は、基板１０を介して、即ち矢印５０
の方向から元を入射しても同様に可能であった。
。ＰＭＭＡ 爪板ｌＯ上に色素膜２０が形成されている
。この媒体ｌこ矢印３０の方向から波長８３０ｎｍの半
導体レーザ光を光学系（図示せず）で収光して照射し、
記録再生を行なった。媒体の回転数は記録再生位置での
線速か約４ ｍ ／ ｓｅｅとなるように選択した。記
録周波数を１ＭＨｚ とした場合、記録パワーが５ｍＷ
以上で５０ｄＢ以上の再生（３／Ｎが得られた。このよ
うな記録再生特性は、基板１０を介して、即ち矢印５０
の方向から元を入射しても同様に可能であった。
前記実施例と同様に、置換アニリノの置換基かエトキシ
ル基、メチル基、エチル基である５−アミノ−２，３−
ジンアノ−８−（３，４，５−置換アニリノ）−１，４
−ナフトキノン色素でも実施例と等しい有効性が得られ
た。また、ＣＣでは置換アニリノは同じ基か形成されて
いる場合を示したか、アルキル基とアルコキンル基を含
む場合、又は同種の基の甲で異なる基が任在する場合で
も前記実施例と類似の方法で合成でき、同様の有効性が
得られた。以上の種々のナフトキノン色素を用いた記＠
媒体の耐候性について加速試験を行なった１、４０℃〜
７０℃の温度範囲で行ない、膜の反射率変化によって室
温（２５℃）での寿命を推定した。前記ナフトキノン色
素では２０年以上の寿命を確認した。一方ナフトキノン
糸色素以外の色素では数日から数十日の寿命であり、ナ
フトキノン糸色素の中でもたとえば５−アミノ−２，３
−ジンア／−８−（アニリノ）−１，４−ナフトキノン
では数ケ月以内の寿命であった＠ 以上の実施例では、前記ナフトキノン色素の単俸膜を記
録層として用いる場合を示したが、これらの色素と金属
及び有徐物との混合膜あるいは分散膜を記録層とするこ
ともできる。例えは、金属として低融点を有するＧｅ、
Ａｓ、 Ｓｅ、 Ｃｄ、ｌｎ、Ｓｎ、 Ｓｂ、 Ｔｅ
、 ＴＡ、 Ｐｂ、 Ｂｉ ＠の年俸金属およびこれら
の合金８使用することかできる。金属との混合膜を形成
する方法としては、共蒸着が望ましい。有磯物としては
、ニトロセルロースおよび熱＠ｆｔｆｖノ性樹脂を使用
することができる。熱可塑性樹脂の具体例としては、ポ
リオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリビニルアセテート及びこれらの共重合ポ
リマー等が挙げられる。これら有機物との混合膜を形成
する方法としては、適当な溶剤に色素と有機物を溶解し
、回転塗布法を用いるのが簡便で望ましい。
ル基、メチル基、エチル基である５−アミノ−２，３−
ジンアノ−８−（３，４，５−置換アニリノ）−１，４
−ナフトキノン色素でも実施例と等しい有効性が得られ
た。また、ＣＣでは置換アニリノは同じ基か形成されて
いる場合を示したか、アルキル基とアルコキンル基を含
む場合、又は同種の基の甲で異なる基が任在する場合で
も前記実施例と類似の方法で合成でき、同様の有効性が
得られた。以上の種々のナフトキノン色素を用いた記＠
媒体の耐候性について加速試験を行なった１、４０℃〜
７０℃の温度範囲で行ない、膜の反射率変化によって室
温（２５℃）での寿命を推定した。前記ナフトキノン色
素では２０年以上の寿命を確認した。一方ナフトキノン
糸色素以外の色素では数日から数十日の寿命であり、ナ
フトキノン糸色素の中でもたとえば５−アミノ−２，３
−ジンア／−８−（アニリノ）−１，４−ナフトキノン
では数ケ月以内の寿命であった＠ 以上の実施例では、前記ナフトキノン色素の単俸膜を記
録層として用いる場合を示したが、これらの色素と金属
及び有徐物との混合膜あるいは分散膜を記録層とするこ
ともできる。例えは、金属として低融点を有するＧｅ、
Ａｓ、 Ｓｅ、 Ｃｄ、ｌｎ、Ｓｎ、 Ｓｂ、 Ｔｅ
、 ＴＡ、 Ｐｂ、 Ｂｉ ＠の年俸金属およびこれら
の合金８使用することかできる。金属との混合膜を形成
する方法としては、共蒸着が望ましい。有磯物としては
、ニトロセルロースおよび熱＠ｆｔｆｖノ性樹脂を使用
することができる。熱可塑性樹脂の具体例としては、ポ
リオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリビニルアセテート及びこれらの共重合ポ
リマー等が挙げられる。これら有機物との混合膜を形成
する方法としては、適当な溶剤に色素と有機物を溶解し
、回転塗布法を用いるのが簡便で望ましい。
さらに本発明によれば、前記ナフトキノン糸色素膜およ
び混合膜の記録層と一層以上の補助層を設けて多層媒体
とすることもできる。例えは、基板と記録層の間にＡ／
専の反射率の高い反射層を設けた２層線体、記録層上に
前記低融点金属膜を積層した２層線体、前記反射層を有
する２層線体の反射層の間に光学的に透明なスペーサを
挿入した３層線体等が構成できる。又、不発明の媒体の
最上層に公知の方法により、誘電体、有機物、高融点金
属等の保護膜を付与することもできる。
び混合膜の記録層と一層以上の補助層を設けて多層媒体
とすることもできる。例えは、基板と記録層の間にＡ／
専の反射率の高い反射層を設けた２層線体、記録層上に
前記低融点金属膜を積層した２層線体、前記反射層を有
する２層線体の反射層の間に光学的に透明なスペーサを
挿入した３層線体等が構成できる。又、不発明の媒体の
最上層に公知の方法により、誘電体、有機物、高融点金
属等の保護膜を付与することもできる。
第１図は５−アミノ−２，３−ジシアノ−８−（３，４
，５−トリメトキソアニリノ）−１，４−ナフトキノン
色素蒸着膜の吸収スペクトルを表わすグラフ、第２図は
、本発明による光学記録媒体の断面図であり図中１０は
基板、２０は色素膜、３０．５０は光の入射方向を示す
。 第１図 波 長 （ｎｍ） 第２図 手続補正書（自発） １．事件の表示 昭和５８年特 許願第１８３４３９号
２、発明の名称 光学記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 出 願 人 東京都港区芝五丁目３３番１号 （４２３） 日本電気株式会社 代表者 関本忠弘 ４、代理人 〒１０８ 東京都港区芝五丁目３７番８号 性成三田ビ
ル５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 １）明細書第６頁第３行目にｒ（３，４，５−トリメト
キシアニリ）」とあるのをｒ（３，４，５−トリメトキ
シアニリノ）」と補正する。 ２）明細書第１２頁第７行目に「トキシアニリ））」と
あるのを「トキシアニリノ）」と補正する。 ０“Ａ″′”−ｔ−ｎ ｍ ｉｔ（、、、二。
，５−トリメトキソアニリノ）−１，４−ナフトキノン
色素蒸着膜の吸収スペクトルを表わすグラフ、第２図は
、本発明による光学記録媒体の断面図であり図中１０は
基板、２０は色素膜、３０．５０は光の入射方向を示す
。 第１図 波 長 （ｎｍ） 第２図 手続補正書（自発） １．事件の表示 昭和５８年特 許願第１８３４３９号
２、発明の名称 光学記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 出 願 人 東京都港区芝五丁目３３番１号 （４２３） 日本電気株式会社 代表者 関本忠弘 ４、代理人 〒１０８ 東京都港区芝五丁目３７番８号 性成三田ビ
ル５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 １）明細書第６頁第３行目にｒ（３，４，５−トリメト
キシアニリ）」とあるのをｒ（３，４，５−トリメトキ
シアニリノ）」と補正する。 ２）明細書第１２頁第７行目に「トキシアニリ））」と
あるのを「トキシアニリノ）」と補正する。 ０“Ａ″′”−ｔ−ｎ ｍ ｉｔ（、、、二。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板の片側または両側に記録層を設け、情報をレーザ光
線によって記録し、かつ読み取る光学記録媒体において
、前記記録層として １＝ｔ 、 。 （式中Ｒは０Ｈ１ＮＨ，、ＮＨＸ、ＮＸ、を表わし、Ａ
ｌＢ、０はアルキル基あるいはアルコキシル基を表わす
。（ここでＸはアルキル基を表わす。））で表わされる
ナフトキノン糸色素を主Ｊｆｆ１分とする有機薄膜を形
成したことを特徴とする光学記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58183439A JPS6089842A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58183439A JPS6089842A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6089842A true JPS6089842A (ja) | 1985-05-20 |
Family
ID=16135785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58183439A Pending JPS6089842A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6089842A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150242A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-08-07 | Nec Corp | 光学記録媒体およびその製造方法 |
| US5020048A (en) * | 1988-12-17 | 1991-05-28 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium having a protective film which can be stripped |
| US6737143B2 (en) | 2001-06-14 | 2004-05-18 | Ricoh Company Ltd. | Optical recording medium, optical recording method and optical recording device |
| US6936323B2 (en) | 2003-04-30 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium, and method and device using the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58224793A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | Nec Corp | 光学記録媒体 |
| JPH0415112A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Goro Igarashi | カバースパイクタイヤ装置 |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP58183439A patent/JPS6089842A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58224793A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | Nec Corp | 光学記録媒体 |
| JPH0415112A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Goro Igarashi | カバースパイクタイヤ装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150242A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-08-07 | Nec Corp | 光学記録媒体およびその製造方法 |
| US5020048A (en) * | 1988-12-17 | 1991-05-28 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information recording medium having a protective film which can be stripped |
| US6737143B2 (en) | 2001-06-14 | 2004-05-18 | Ricoh Company Ltd. | Optical recording medium, optical recording method and optical recording device |
| US6936323B2 (en) | 2003-04-30 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium, and method and device using the same |
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