JPS6081162A - ジフエニルスルホン誘導体，その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル低級アルコキシ
基または）＼ロゲン原子を表わし、Ｒ２はα−（低級ア
ルキルカルボニルで示すれるジフェニルスルホン誘導体
（以下本発明化合物と記す。）その製造法およびそれを
有効成分とする除草剤に関するものである。

ある種のジフェニルスルホン誘導体、例えば、４−クロ
ロフェノキシ−４′−クロロジフェニルスルホンはＧａ
ｚｚ．ｃｈｉｍ．　Ｉｔａｌ．、　９１　２２３（１９
６１）に記載されている。しかしなからこれらの化合物
が、除草剤の有効成分として用いうろことについては何
らの記載もない。

本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
、問題となる種々の雑草、例えば、ソバカズラ、サナエ
タデ、スベリヒュ、シロザ、アオビユ（アオゲイトウ）
、ダイコン、ノハラガラシ、ナズナ、エビスグサ、イチ
ビ、アメリカキンゴジカ、ヤエムグラ、アメリカアサガ
オ、マルバアサカオ、セイヨウヒルガオ、ヒメオドリコ
ソウ、ホトケノザ、ｚ゛ ヨウシュチョウセンアサカオ、イヌホオｌキ、オオイヌ
ノフグリ、オナモミ、ヒマワリ、イヌカミツレ等の広葉
雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズ
メノカタビラ。

ブラックグラス、エンバク、カラスムギ、等のイネ科雑
草およびツユクサ等のツユクサ科゛雑草、コゴメカヤッ
リ、ハマスゲ等のカヤツリグサ科雑草等に対して除草効
力を有し、しかもいくつかの本発明化合物はトウモロコ
シ、コムギ、イネ、ダイズ、等の主要作物に対して問題
とな゛るような薬害を示さない。

また、本発明化合物は水田の湛水処理において問題とな
る種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマガヤ
ツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤツリ
グサ科雑草、コナギ、ウリカワ等の水田雑草に対して除
草効力を有し，しかもイネに対して問題となるような薬
害を示さない。

本発明化合物は、一般式 〔式中、Ｉ（１は前記と同じ意味を表わす。　〕で示さ
れるヒドロキシジフェニルスルホン誘導体と一般式 〔式中、Ｒ２は前記と同じ意味を表わし、Ｘはハロゲン
原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを溶媒中、説ノ・ロゲン化水
素剤の存在下、１０℃〜１００℃、ｏ．６ａＨＭｌ〜６
時間反応させることによって製造することができる。

この反応に供される試剤の鼠は、ヒドロキシジフェニル
スルホン読導体［１１１　１当凧に対して、ハロゲン化
物側は１〜１．５当量、脱ハロゲン化水素剤は１〜１．
　５当鼠である。

また、溶媒としてはベンゼン、トルエンキシレン等の芳
香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、イソホロン、シクロヘキサンノン等のケトン類、メ
タノール、エタノール、インプロパツール、ｔ−ブタノ
ール、オクタツール、シクロヘキサ７ール、メチルセロ
ソルブ、ジエチレングリコール、り゛リセリン等のアル
コール類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼ
ン等のニトロ化物、アセトニトリル、イソブチロニトリ
ル等のニトリル類、ヒ０リジン、トリエチルアミン、　
Ｎ　、　Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ
−メチルモルホリン等の第三級アミン類、ホルムアミド
、Ｎ、Ｎ−シメチルホルｌ、アミド、アセトアミド等の
酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルポラン等の硫
黄化合物、水等あるいは、それらの混合物があげられる
。

脱ハロゲン化水素剤としては、ピリジン、トリエチルア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化
すトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド等があげられる。。

反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等、通
常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再
結晶等の操作ニより精製して、目的の本発明化合物が得
られる。

次に本発明化合物の製造例を示す。

製造例　（本発明化合物６の製造） ４−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ
）−２−ヒドロキシ−４′−メチルジフェニルスルホン
０．５ｙ、８−クロロ−２−ブタノン０．１９８９およ
び炭酸カリＯ，ｌ　６　ｙをジメチルホルムアミド２０
．ｆ中に加え、６０℃で２時間反応した。反応後、飽和
食塩水を入れ、トルエンで抽出し、有機層を５％塩酸水
で洗い、さらに水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。乾燥剤をＰ別後、溶媒を濃縮して油状物を得た。

これをシリカゲルを担体としだカラムクロマトグラフィ
ー（溶出液：アセトン／　ｎ　−ヘキサン）で精製しｏ
、ｓｇｒの４−（２−クロロ−４−トリフルオロメチル
フェノキシ）−２−ｆｊ！−（メチルカルボニル）エチ
ル−４′−ジメチルジフェニルスルポンを得た。

・　十祐→−月１番手 このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第１表に示す。

第　１　表 一般式 本発明化合物を製造する場合、原料化合っであるヒドロ
キシジフェニルスルポン誘導（ＩＩは、一般式 〔式中、　Ｒ３は低級アルキル基を表わし、Ｒ」は前記
と同じ意味を表わす。〕 で示されるアルコキシジフェニルスルホンＶ導体と、こ
れに対して０．９〜ｌｏ当量の三ρ化ホウ累、臭化水素
酸等のエーテル結合開弘剤とをジクロロメタン、■、２
−ジクロロユタン、酢酸等の溶媒中、Ｏ’ｃ７１２（１
℃、１時間〜１５時間反応させることによって製造する
ことができる。

反応終了後の反応液は、水で洗浄し、有機層を濃縮する
等、通常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフ
ィー、Ｆ［晶等の操作により精製して、目的のヒドロキ
シジフェ；　／Ｌ／　７．　ルホン誘導体［Ｉｎが得ら
れる。

勿　次にこの一般式［１１ｏ、：□ヒドロキシジフェニ
ル１　誘導体の製造例を示す。

製造例８ ４−（２−１０ロー４−トリフルオロメチルフェノキシ
）−２〜メトキシ−４′−メチルジフェニルスルホン２
ｏｙをジクロロメタン１５０−ｆに溶かし、これに、三
臭化ポウ累１　Ｂ、　１６　ｙのジクロロメタン２０Ｔ
Ｒｅ溶液を常温で攪拌しながら滴下した、滴士後、−夜
放臥して、反応液を５％塩酸水で洗い、さらに１　水洗
いしてから有機層を＃縮し、シリカケルを担体としだカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：アセトン／　ｎ−ヘ
キサジ）で精製し、これをさらにトルエン・〉＜キサン
の混合溶媒で再結晶し、４−（ｚ−クロロ−４−トリフ
ルオロメチルフェノキシ）−２−ヒドロキシ−４７−メ
チルジフェニルスルホンｌ　８．　ｌ　５　ｙを得た。

ｍ、ｐ、８７．５　９ｌ−ｃ ｌｉか朝胛を 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は１
通電面体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、＆１濁剤、粒剤等に製
剤する。

これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重お
比で０．０５〜９０％、好ましくは０１〜８０％含有す
る。

固体担体には、カオリンクレー、アッタパルジャイトク
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、クルミ粉　尿素、硫酸アンモニ
ウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があ
り、液体担体には、キシレン、メチルナフタレン等の芳
香族炭化水素類、インプロパツール、エチレングリコー
ル、セロソルブ等のアルコ−７し類、アセトン、シクロ
ヘキザノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油
等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
水等がある。

乳化、分散、湿層等のために用いられる界面活性剤には
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル（アリール）スル
ホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等ノ
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
がある。製剤用補助剤には　リグニンスルホン酸塩、ア
ルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、Ｃ
ＭＣ（カルホキジメチルセルロース）、ＰＡＰ（１５Ｈ
ＪＥリン酸イソプロピル）等がある。

次に製剤例を示す。なお、本発明化＠物は第１表の化合
物番号で示す。部は重九部を示す。

製剤例１ 本発明化合物２．５０部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸
化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。

製剤例２ 本発明化合物９．１０部、ポリオキシエチレンスチリル
フェニルエーテル１０部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム５部およびシクロへキサノン７５部をよく混
合して乳剤を得る。

製剤例８ 本発明化合物３，２部、合成含水酸化珪素１部、リグニ
ンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およ
びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。

製剤例４ 本発明化合物６．２５部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート８ｍ、ＣＭＣ８部、水６９部を混合し
、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕してＲ填剤
を得る。

このようにして製剤された本発明化合物は、雑草の出芽
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。

また、他の除草剤と混合して用し・ることにより、除草
効力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺タニ剤、
殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤
等と混合して用いることもできる。

なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、
芝生地、森林、あるいは非農耕地等の除草剤の有効成分
として用いることができる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、方法、場
所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが１通常ｌ
アーＩしあたり０．５ｙ〜２００ｙ、好ましくは、Ｌｙ
−１００ｙであり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通常そ
の所定Ｑを（必要ならば、展着剤等の補助剤を添加した
）水で希釈してｌアールあたりｌリソ１−ル〜１０リッ
トルの敞η】の割合で処理し、粒剤等は通常なんら希釈
することなくそのまま処理する。

展着剤には、前記の界面活性剤のはか、；ｊ？　！Ｊオ
キシエチレン樹脂酸（エステＩし）、リグニンスルホン
酸塩、７ビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
塩、パラフィン等がある。１次に、本発明化合物が除草
剤の層剤成分として有用であることを試験例で示す。な
お、本発明化合物は、第１表の化合物番号で示し、比較
対照に用いた化合物は第２表の化合物記号Ｃ示す。

第　２　表 以下の各試験例における作物に対する薬害と雑草に対す
る効力との評価はすべて以下のように行なった。

すなわち、調査時点に枯れ残った植物体の茎葉部の生重
量をはかり、無処理区と比較したときの比率（％）を計
算し、作物と雑草とについて下表のような基準にもとづ
き薬害と除草効力を０から５までの数字で評価した。

試験例１　畑地発芽後処理試験 直径１０　ｃ＊、高さｌＯ調の円筒型プラスチックボッ
トにヒエ、エンバク、ダイコンおよびイチビの種子を播
き、温室内で１０日同前成した。前記製剤例２の処方に
準じて乳剤に製剤した薬剤の所定量を水（展着剤を含む
）に分散さぜ、１アールあたりｌｏリットル散布の割合
で小型噴甥器で植物体。−ノ上方から茎葉散布した。薬
剤処理後２０日間温室内で育成したあと、各植物につい
て除草効力を調査した。その結果を第８表に示す。

第　８　表 試験例２　発芽後処理試験 たて３５−１よこ２５備、たかさ１ＯｃＩｎのプラスチ
ックトレーに畑地土壌を詰め、トウモロコシ、コムギ、
ヒマワリ、オナモミ、マルバアサガオ、イチビ、アオビ
ユおよびイヌホオズキを播種し、温室内で８週間育成し
たあと、たて５０■、よこ１９０ｃｍ、たかさ４０側の
枠内にこのトレーを２個並べ植物体の上方から小型噴霧
器で各薬剤の所定量を枠内全面に茎葉処理した。薬剤散
布後さらに３週間温室内で育成したあと、各植物ごとに
薬害あるいは除草効力を調査した。その結果を第４表に
示す。なお、処理薬剤は前記製剤例２の処方に準じて作
った乳剤を、展着剤を含む水２５−に乳化させたものを
供試した。薬剤処理時の植物の大きさは種類によって異
なるが、はぼ木葉１〜４葉期で草丈１．５〜１５　ｃｍ
＋であった。

第　４　表 試験例８　畑地発芽前土壌混和処理試験直径１０ａｍ、
高さｌ０１Ｍの円筒型プラスチックポットに畑地土壌を
詰め、ヒエ、エンバク、マルバアサガオ、イチビおよび
ダイブの種子を播き、覆土後、前記製剤例２の処方に準
じて作成した乳剤形態の薬剤の所定量を水で希釈し、１
アールあたりｌＯリットル散布の割合で小型噴霧器で土
壌表面に散布したあと、深さ４ａまでの土壌表層部分を
よく混和した。薬剤処理後２０日間温室内で育成したあ
と、各植物について除草効力を調査した。

その結果を第６表に示す。

第　５　表 試験例４　畑地土壌処理試験 面積３５×２５７、深さ１５ｃＩｎのバットに畑地土壌
を詰め、ダイブ、オナモミ、ブタフサ、イチビ、アメリ
カキンゴジヵ、エビスグサ、マルバアサガオ、イスポオ
ズキ、ヨウシュチョウセンアサガオ、アオビユを播種し
、１〜ｚ側の厚さに覆土した。製剤例２に準じて供試化
合物を乳剤にし、その所定量を、水で希釈し、ｌアール
あたり１０リツトル散布の割合で、小型噴霧器にて土壌
表面に処理した。

処理後２０日問屋外で育成し、作物薬害と除草効力を調
査した。その結果を第６表に示１．っ試験例５　水田状
土壌処理試験 １７６０００アールのワグネルポットに水田土壌を詰め
、土壌表層ＳＣの部分にタイヌビエ、ホタルイ、広葉雑
草、（アゼナ、コナギ、キカシグサ）の種子を混入した
。

さらに、湛水法が４側になるまで水を加えたあと、８葉
期のイネとウリカワの塊茎を移植した。温室内に置き、
５日後各雑草が発芽を開始した時に、前記製剤例２の処
方に準じて作製した乳剤形態の薬剤の所定社をｌθミリ
リットルの水に希釈し水面に滴下処理した。

薬剤処理の２０日後に除草効力とイネ薬害を調査したが
、その結果を第７表に示す。

第　７　表

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （］）　一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基またはハロゲン原子を表わし、Ｒ２はα−（低級
   アルキルカルボニル）エチル基を表わす。〕 で示されるジフェニルスルホン誘導体、（２）　一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるヒドロキシジフェニルスルホン誘導体と一般
   式 〔式中、　Ｒ２はα−（低級アルキルカルボニル）エチ
   ル基を表わし、Ｘはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを反応させることを特徴とす
   る一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるジフェニルスルホン誘導体の製造法。 （３）　一般式 〔式中、Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシ基またはノ・ロゲン原子を表わし、Ｒ２はα−（低
   級アルキルカルボニル テ示すれるジフェニルスルホン誘導体を有効成分とする
   ことを特徴とする除草剤。