JPS6075588A - 加熱機構付のスパツタエツチング装置 - Google Patents

加熱機構付のスパツタエツチング装置

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JPS6075588A
JPS6075588A JP18027783A JP18027783A JPS6075588A JP S6075588 A JPS6075588 A JP S6075588A JP 18027783 A JP18027783 A JP 18027783A JP 18027783 A JP18027783 A JP 18027783A JP S6075588 A JPS6075588 A JP S6075588A
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JP
Japan
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treated
heating
electrode
etching
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松崎　英夫
Yojiro Takabe
高部　洋二郎
Ryoji Oritsuki
折付　良二
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Hitachi Ltd
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0425229U (enExample) * 1990-06-21 1992-02-28
WO2012169006A1 (ja) * 2011-06-07 2012-12-13 株式会社ユーテック ポーリング処理方法、プラズマポーリング装置、圧電体及びその製造方法、成膜装置及びエッチング装置、ランプアニール装置

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JPWO2012169006A1 (ja) * 2011-06-07 2015-02-23 株式会社ユーテック ポーリング処理方法、プラズマポーリング装置、圧電体及びその製造方法、成膜装置及びエッチング装置、ランプアニール装置

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