JPS6075576A - エ−ロゾル液の製法および固形物体の被覆法 - Google Patents

エ−ロゾル液の製法および固形物体の被覆法

Info

Publication number
JPS6075576A
JPS6075576A JP59148732A JP14873284A JPS6075576A JP S6075576 A JPS6075576 A JP S6075576A JP 59148732 A JP59148732 A JP 59148732A JP 14873284 A JP14873284 A JP 14873284A JP S6075576 A JPS6075576 A JP S6075576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aerosol
coating
stream
aerosol stream
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59148732A
Other languages
English (en)
Inventor
ラインハルト・キユーネ
マツクス・クイスル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Patent Verwaltungs GmbH filed Critical Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Publication of JPS6075576A publication Critical patent/JPS6075576A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45519—Inert gas curtains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45576—Coaxial inlets for each gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/04—Multi-nested ports
    • C03B2207/06—Concentric circular ports
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/04—Multi-nested ports
    • C03B2207/08—Recessed or protruding ports
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • C03B2207/26—Multiple ports for glass precursor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/34—Liquid, e.g. mist or aerosol
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/46—Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
  • Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガスおよび／または蒸気混合物から無火炎化
学反応によってエーロゾルをつくるエーロゾル流の製法
および該エーロゾル流を用いて固形物体を被覆する方法
に関する。
従来の技術 本発明は、殊に固体粒子（微粒子）ならびに少なくとも
１種のガスおよび／または蒸気を含有するエーロゾルに
関する。この種のエーロゾルは煙霧とも呼ばれる。ガス
および／または蒸気ならびに液状粒子を含有するエーロ
ゾルは霧とも呼ばれる。流れるエーロゾル（下記にエー
ロゾル流と記載する）の例示的製法は、ガス−および／
または蒸気状の化学成分をノズルを用いて混合し、生じ
るガス−および／または蒸気混合物を熱反応、たとえば
炎内加水分解によりエーロゾル流に変換する事から成る
。エーロゾル流中で粒子は種々の角度で種々の方向に運
動する。この種のエーロゾル流は、たとえばたんに粒子
を被覆すべき物体に衝突させる（その周囲にではない）
被覆装置においてはしばしば適用が不経済である。この
種のエーロゾル流を機械的手段、たとえば絞りにより制
限する事は容易に推測できる。この種の処置は、例示的
に選択された絞りが所望でない方法で同様に被覆される
ので同様に不利に経済的でない。エーロゾル流では損失
が生じ、これは費用のかかる清掃作業を必要とする。
発明が解決しようとする問題点 従って、本発明の課題はこの種の方法を、できるだけ高
い粒子密度を有し、費用の点で有利に制御可能で、殊に
被覆−および／または分離装置に適当であるエーロゾル
流が可能になるように改良する事である。
問題点を解決するための手段 この課題は本発明により、特許請求の範囲第１項の特徴
、即ちエーロゾル流１０を、大体においてエーロゾル不
含のガスおよび／または蒸気流２０によって案内する事
によって解決される。
本発明方法により製造されたエーロゾル流１０をその中
に含まれている粒子で固形物体４０を被覆するためには
、特許請求の範囲第９項の特徴により、固形物体４０を
エーロゾル流１０内に配置するようにして使用する。
本発明の実施態様は特許請求の範囲第２〜第８項および
第１０〜第１５項から明らかである。
次に、本発明を１実施例につき図面を参照して詳述する
。
実施例 図面は、大体において、同心に配置され、生じたエーロ
ゾル流の使用に適合された横断面を有する管２１，３１
．４１から成るエーロゾル発生器の縦断面図である。横
断面はたとえば円形または四角形に選択されている。内
管２１゜３１により、層流で流れるがスーおよび／また
は蒸気状成分２，３はまず反応室１に導かれる。
ここでは、拡散によりガス−および／または蒸気混合物
が生じ、これが化学反応によりエーロゾル、エーロゾル
流１０に変換される。この化学反応はたとえば、反応室
１の周囲に設けられた炉６０により生じる熱作用により
惹起される。
生じた、大体において層流で流れるエーロゾル流１０は
、エーロゾル流１０に外管４１によって供給されるエー
ロゾル（粒子）不含のガスおよび／または蒸気流２０に
よって案内される。
同様に大体において層流で流れるガス−および／または
蒸気流２０は、エーロゾル流１０中に含有されている粒
子の半径方向の運動を阻止する。それにより、殊に被覆
装置において、エーロゾル流１０の横断面をノズルによ
り、経済的被覆が可能になるように形成する事が可能に
なる。ガス−および／または蒸気流２０により殊にノズ
ルの着垢が避けられ、そこで費用的に不利な清掃が避け
られる。図面には被覆すべき物体４０が示されており、
該物体は空気力学的案内５０により、エーロゾル流１０
中に含有されている粒子がほぼ完全に物体４０にあたり
、こうして経済的被覆が可能になるように取り囲まれて
いる。分離割合をさらに支持するために、物体４０およ
び案内５０との間に電場をつくる事が可能であり、この
電場によりエーロゾル流１０中に含有されている粒子は
物体４０上へ導かれる。この粒子が誘電体、たとえばガ
ラスから成る場合には、電場を、粒子中に物体４０の被
覆を支持する電気的双極が生じるように構成する事が可
能である。この種の双極により、物体４０が静電気的に
帯電されて、爾後の被覆が困難になる事が避けられる。
適用例 物体４０は、その外套面がガラス状および／またはガラ
ス形成層で、光波導体を引き出す事のできるいわゆる予
備成形型が生じるように被覆される棒状または管状支持
体として構成される。この例では、物体４０はその長手
軸のまわりを回転し、管２１，３１．４１の横断面は四
角形に形成されているので、物体４０の外套線に沿った
同時被覆が可能になる。管２１．３１中を導かれる成分
２ないしは３は、四塩化ケイ素（５ｉＣｔａ　）ないし
は水蒸気（Ｎ２０　）から成り、これらは反応室１中で
熱作用下に式： ％式％ により反応して二酸化ケイ素（５ｉＯ２）含有エーロゾ
ル流を形成する。
このエーロゾル流が、不活性ガス、たとえばＮ２を含有
するガス−および／または蒸気流２０よって導かれる。
ガス状の四塩化ケイ素にドーピング物質、たとえば四塩
化ゲルマニウム（ＧｅＯｌ、　）を添加する場合には、
支持体上にドーピングされたガラス層を分離させる事が
可能である。管２１，３１．４１内の流速は、一方で層
流が生じるが、他方では反応室１からの再拡散が避けら
れるように選択される。それにより、管２１，３１．４
１中での望ましくない粒子析離が避けられる。
本発明は記載された実施例に限定されていないで、他の
例、たとえばケイ素円板（ウェーハ）の被覆に同様に適
用可能である。
発明の効果 本発明によれば、できるだけ高い粒子密度を有し、費用
の点で有利に制御可能なエーロゾル流が得られ、それに
含有されている固体粒子で固形物体を外套線に沿って同
時的被覆する事が可能となった。
【図面の簡単な説明】
図面はエーロデル発生器の縦断面図である。 １・・・反応室、２，３・・・蒸気−および／またはガ
ス状成分、１０・・・エーロゾル流、２０・・・エーロ
ゾル不含のガスおよび／または蒸気流、２１゜３１．４
１・・・同心に配置された管、４０・・・被覆すべき物
体、５０・・・案内、６０・・・炉団面の浄書（内容に
変更なし） 八〇 Ｆ；３．　１ 手続補正書（方式） 昭和５９年１り月／シ日 特許庁長官殿 １・　事件の表示　昭和５９年特許願第１４８７３２号
２、発明の名称 エーロゾル液の製法および固形物体の被覆法３、補正を
する者 事件との関係　特許出願人 名称リツエンツイアパ、・ξテントーフエルヴアルツン
グスーゲゼルシャフ＋−・ミツｌ−拳ベシュレンクテル
・ハフラング４、代理人 ６・補正の対象 （２）は別紙のとおり、但し図面の浄書（内容に変更な
し）４１５−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、　がスーおよび／または蒸気混合物から無炎化学反
    応によりエーロゾルをつくる、エーロツル流の製法にお
    いて、エーロツル流（１・０）な大体においてエーロゾ
    ル不含のガス−および／またｉま蒸気流（２０）によっ
    て案内する事を特徴とする、エーロゾル流の製法。 ２、反応室（１）に層流で流れる蒸気−および／または
    ガス状成分（２，３）を供給し、反応室（１）中で成分
    から差当り生じるガス−および／または蒸気混合物を化
    学反応によりエーロゾルに変換し、生じるエーロゾル流
    （１０）を、ガス−および／または蒸気流（２０）によ
    り、大体において層流で案内する、特許請求の範囲第１
    項記載のエーロゾル流の製法。 ３、　ガス−および／または蒸気混合物を成分（２，３
    ）の相互散乱によりつくる、特許請求の範囲第１項また
    は第２項記載のエーロゾル流の製法。 ４、　ガス−および／または蒸気流（２０）として不活
    性ガスを特徴する特許請求の範囲第１項から第３項まで
    のいずれか１項記載のエーロゾル流の製法。 ５、　成分（２，３）ならびにガス−および／または蒸
    気流（２０）を大体において同心に配置された管（２１
    ，３１，４１）中を反応室（１）に向って案内し、ガス
    −および／または蒸気流（２０）を最外側管（４１）中
    を特徴する特許請求の範囲第１項から第４項までのいず
    れか１項記載のエーロゾル流の製法。 ６、　少なくとも１′つの管（４１）を一端でノズルと
    して構成し、エーロゾル流（１０）の渦形成を特徴する
    特許請求の範囲第１項から第５項までのいずれか１項記
    載のエーロゾル流の製法。 ２　固形の二酸化ケイ素（”ｉ０２　）−粒子を含有す
    るエーロゾルをつくる、特許請求の範囲第１項から第６
    項までのいずれが１項記載のエーロゾル流の製法。 ８、四塩化ケイ素（５ｉｃｚ、　）の蒸気状の水との式
    ：　ＳｉＣ！ｔ４　＋２Ｈ２”→５ｉ０２　＋　４ａａ
    ｚによる化学反応により生じる、固形８１０２粒子を含
    有するエーロゾルをつくる、特許請求の範囲第１項から
    第７項までのいずれが１項記載のエーロゾル流の製法。 ９　ガス−および／または蒸気混合物がら無炎化学反応
    によりエーロゾルをつくる、エーロゾル流の製法によっ
    てつくられたエーロゾル流中に含まれている粒子で固形
    物体を被覆する方法において、該物体（４０）をエーロ
    ゾル流（１０）内に配置する事を特徴とする、固形物体
    の被覆法。 １０、エーロゾル流（１０）の形成のために、物体（４
    ０）の範囲内に、物体（４０）の被覆を支持する、少な
    くとも１つの空気力学的案内（５０）を設ける、特許請
    求の範囲第９項（３） 記載の被覆法。 １１、物体（４０）と案内（５ｏ）との間に、物体（４
    ０）の被覆を支持する電場をつくる、特許請求の範囲第
    ９項または第１ｏ項記載の被覆法。 １２、誘電体粒子を有するエーロゾル流（１ｏ）の場合
    電場を、物体（４ｏ）の被覆を支持する、電気的有極粒
    子が生じるように構成する、特許請求の範囲第１１項記
    載の被覆法。 １６、物体（４０）として少なくとも１つの円筒形の支
    持体を使用し、該相持物体から被覆により光波導体の製
    造のための予備成形型をつくる、特許請求の範囲第９項
    がら第１２項までのいずれか１項記載の固形物体の被覆
    法。 １４、支持体を大体において同時に少なくとも１つの外
    套線に沿って被覆する、特許請求の範囲第１３項記載の
    固形体の被覆法。 １５、エーロゾル流（１０）中に含有されている被覆の
    ための粒子がドーピングされたおよび／またはげ一ピン
    グされていない５１ｏ２粒子（４） である、特許請求の範囲第９項から第１４項までのいず
    れか１項記載の被覆法。
JP59148732A 1983-07-20 1984-07-19 エ−ロゾル液の製法および固形物体の被覆法 Pending JPS6075576A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3326043.5 1983-07-20
DE19833326043 DE3326043A1 (de) 1983-07-20 1983-07-20 Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6075576A true JPS6075576A (ja) 1985-04-27

Family

ID=6204376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59148732A Pending JPS6075576A (ja) 1983-07-20 1984-07-19 エ−ロゾル液の製法および固形物体の被覆法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4597983A (ja)
EP (1) EP0134507B1 (ja)
JP (1) JPS6075576A (ja)
AT (1) ATE31187T1 (ja)
CA (1) CA1222660A (ja)
DE (2) DE3326043A1 (ja)
FI (1) FI77636C (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60215540A (ja) * 1984-04-06 1985-10-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 光フアイバ−用多孔質母材の製造装置
DE3417438A1 (de) * 1984-05-11 1985-11-14 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines aerosolstromes
DE3434674A1 (de) * 1984-09-21 1986-04-03 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes
JPH07101751B2 (ja) * 1985-03-28 1995-11-01 キヤノン株式会社 光起電力素子の製造方法
DE3530153A1 (de) * 1985-08-23 1987-03-05 Licentia Gmbh Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes
KR910009841B1 (ko) * 1985-09-30 1991-11-30 유니온 카바이드 코포레이션 진공챔버중에서 피막을 아아크 증착하기 위한 방법 및 장치
JPH02222134A (ja) * 1989-02-23 1990-09-04 Nobuo Mikoshiba 薄膜形成装置
CA2061069C (en) * 1991-02-27 1999-06-29 Toshio Kubota Method of electrostatically spray-coating a workpiece with paint
US6312656B1 (en) * 1995-12-19 2001-11-06 Corning Incorporated Method for forming silica by combustion of liquid reactants using oxygen
US5746834A (en) * 1996-01-04 1998-05-05 Memc Electronics Materials, Inc. Method and apparatus for purging barrel reactors
EP1010672A1 (en) 1998-12-17 2000-06-21 PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis
US6331689B1 (en) 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4002512A (en) * 1974-09-16 1977-01-11 Western Electric Company, Inc. Method of forming silicon dioxide
US4083708A (en) * 1976-09-15 1978-04-11 Exxon Research & Engineering Co. Forming a glass on a substrate
CA1080562A (en) * 1977-02-10 1980-07-01 Frederick D. King Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube
JPS5927728B2 (ja) * 1977-08-11 1984-07-07 日本電信電話株式会社 煤状ガラスロッドの製造方法
US4233045A (en) * 1978-11-27 1980-11-11 Corning Glass Works Apparatus and method for making optical filament preform
DE2930781A1 (de) * 1979-07-28 1981-02-12 Licentia Gmbh Verfahren zur herstellung einer lichtleitfaser
CA1166527A (en) * 1979-09-26 1984-05-01 Shiro Takahashi Method and apparatus for producing multi-component glass fiber preform
US4310474A (en) * 1980-04-02 1982-01-12 Western Electric Company, Inc. Method and apparatus for generating a vapor stream
DE3027450C2 (de) * 1980-07-19 1982-06-03 Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zur Innenbeschichtung eines Glas-Substratrohres für die Herstellung eines Glasfaser-Lichtleiters
WO1982003345A1 (en) * 1981-03-30 1982-10-14 Western Electric Co Universal torch
US4378987A (en) * 1981-10-15 1983-04-05 Corning Glass Works Low temperature method for making optical fibers
US4440558A (en) * 1982-06-14 1984-04-03 International Telephone And Telegraph Corporation Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition

Also Published As

Publication number Publication date
FI842910A (fi) 1985-01-21
FI77636B (fi) 1988-12-30
DE3326043A1 (de) 1985-02-07
EP0134507B1 (de) 1987-12-02
FI77636C (fi) 1989-04-10
CA1222660A (en) 1987-06-09
DE3467891D1 (en) 1988-01-14
EP0134507A1 (de) 1985-03-20
ATE31187T1 (de) 1987-12-15
US4597983A (en) 1986-07-01
FI842910A0 (fi) 1984-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4320790B2 (ja) リアクティブ噴射器を有する誘導プラズマトーチ及びその使用する方法
JPS6075576A (ja) エ−ロゾル液の製法および固形物体の被覆法
US4233045A (en) Apparatus and method for making optical filament preform
JP3274740B2 (ja) 金属およびセラミツク微粉末を製造するための装置及び方法
JPH11335844A (ja) 化学気相成長装置
US5486383A (en) Laminar flow shielding of fluid jet
JP2010171442A (ja) フレームフリー湿式酸化
CA1291645C (en) Method of manufacturing solid glass preforms from hollow preforms
WO1980000440A1 (en) The fabrication of optical fibers utilizing thermophoretic deposition of glass precursor particulates
EP0610392A1 (en) METHODS AND APPARATUS FOR SURFACE TREATMENT.
US3565346A (en) Method and apparatus for forming an article of high purity metal oxide
US5139876A (en) Ceramic article having wear resistant coating
US4682994A (en) Process and apparatus for forming optical fiber preform
US3609829A (en) Apparatus for the formation of silica articles
WO2004056714A1 (en) Burner for chemical vapour deposition of glass
JPH0816527B2 (ja) 酸素を除去した有毒気体溶出物の燃焼のための方法および装置
CA1241875A (en) Method for producing an aerosol stream
US20050257570A1 (en) Method and device for producing a blank mold from synthetic quartz glass by using a plasma-assisted deposition method
US4312654A (en) Method and apparatus for making large diameter optical waveguide preforms
US3524590A (en) Nozzle for a pyrolytic coating and deposition process
GB2023129A (en) Method and apparatus for making optical glass articles
Morse et al. Laser enhancement of thermophoretic deposition processes
US3440092A (en) Art of producing metal salt impregnated silica-coated substrates
US4507135A (en) Method of making optical fiber preform
JP2004284944A (ja) ガラス加工方法及びガラス加工装置