FI77636B - Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. - Google Patents
Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. Download PDFInfo
- Publication number
- FI77636B FI77636B FI842910A FI842910A FI77636B FI 77636 B FI77636 B FI 77636B FI 842910 A FI842910 A FI 842910A FI 842910 A FI842910 A FI 842910A FI 77636 B FI77636 B FI 77636B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- aerosol
- gas
- stream
- coating
- reaction
- Prior art date
Links
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 claims 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000004479 aerosol dispenser Substances 0.000 claims 3
- 241000233866 Fungi Species 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 claims 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims 1
- 235000020094 liqueur Nutrition 0.000 claims 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45519—Inert gas curtains
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
- C23C16/45576—Coaxial inlets for each gas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/08—Recessed or protruding ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
- C03B2207/26—Multiple ports for glass precursor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
- C03B2207/34—Liquid, e.g. mist or aerosol
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/46—Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
77636
Menetelmä kappaleen päällystämiseksi
Keksinnön kohteena on menetelmä kappaleen päällystämiseksi aerosolivirtausta käyttäen patenttivaatimuksen 1 johdanto-osan mukaisesti.
Keksinnön kohteena on etenkin aerosoli, joka sisältää kiinteitä hiukkasia (pieniä osasia) sekä vähintään yhtä kaasua ja/tai höyryä. Tällaista aerosolia nimitetään myös savuksi. Aerosolia, joka sisältää kaasua ja/tai höyryä sekä nestemäisiä hiukkasia, nimitetään myös sumuksi. Esimerkkimenetelmä virtaavan aerosolin valmistamiseksi, jota nimitetään seuraavaesa aero-801ivirtaukseksi, on sellainen, että kaasu- ja/tai höyrymäiset kemialliset aineosat sekoitetaan suuttimen avulla ja muodostuva kaasu- ja/tai höyryseos saatetaan reagoimaan termisen reaktion, esim. liekkihydrolyysin avulla aerosolivirtaukseksi. Tässä aerosolivirtauksessa hiukkaset liikkuvat erilaisissa kulmissa eri suunnissa. Tällaista aerosolivirtausta ei useinkaan ole taloudellista käyttää esim. päällystyslaitteissa, joissa vain hiukkasilla päällystettäviin esineisiin on osuttava eikä niiden ympäristöön. On selvää rajoittaa tällainen aerosolivirtaus mekaanisilla välineillä, esim. kaihtimilla. Tällainen menettely on haitallisella tavalla samoin epätaloudellista, koska esimerkiksi valitut kaihtimet päällystetään samoin ei-toivotulla tavalla. Aerosolivirtauksessa esiintyy hukkaa, tarvitaan kalliita puhdistustöitä.
Keksinnön tehtävänä on tästä syystä parantaa alussa esitetyn tyyppistä menetelmää sikäli, että halvalla tavalla hallittavissa oleva aerosolivirtaus, jossa on mahdollisimman suuri hiukkastiheys, tulee mahdolliseksi ja joka soveltuu etenkin päällystys- ja/tai saostuslaitteisiin.
Tämä tehtävä ratkaistaan keksinnön mukaisesti patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa esitetyillä keinoilla. Edelleen-kehitys ja sovellutukset on esitetty alivaatimuksissa.
2 77636
Keksintöä selitetään seuraavassa suoritusesimerkin avulla lähemmin viitaten kaaviomaiseen piirustukseen.
Kuvio esittää pitkittäisleikkauskuvaa aerosoligeneraattorista, joka muodostuu olennaisesti samankeskisesti järjestetyistä putkista 21, 31, 41, joissa on poikkileikkaus, joka on sovitettu tuotetun aerosolivirtauksen käyttöön. Poikkileikkaus on valittu esimerkiksi pyöreäksi tai suorakulmaiseksi. Sisäputkien 21, 31 läpi johdetaan laminaarisesti virtaavat kaasu- ja/tai höyrymäi-set aineosat 2, 3 ensin reaktiotilaan 1. Siinä muodostuu diffuusion avulla kaasu- ja/tai höyryseos, joka reagoi kemiallisen reaktion avulla aerosoliksi, aerosolivirtaukseksi 10. Tämä kemiallinen reaktio laukaistaan esimerkiksi lämmön vaikutuksella, joka tuotetaan reaktiotilan 10 ympärille sijoitetulla uunilla 60. Muodostunut olennaisesti laminaarisesti virtaava aerosolivirtaus 10 ohjataan nyt aerosoli-(hiukkas-)vapaan kaasu- ja/tai höyry-virran 20 läpi, joka johdetaan aerosolivirtaukseen 10 ulkoputken 41 läpi. Samoin olennaisesti laminaarisesti virtaava kaasu-ja/tai höyryvirtaus 20 estää aerosolivirtaukseen 10 sisältyvien hiukkasten säteittäisen liikkeen. Siten on mahdollista etenkin päällystyslaitteissa muodostaa aerosolivirtauksen 10 poikkileikkaus suuttimilla niin, että taloudellinen päällystys on mahdollista. Kaasu- ja/tai höyryvirtauksen 20 avulla vältetään etenkin suuttimien karstaantuminen, niin että vältetään kalliit puhdistukset. Kuviossa on esitetty päällystettävä kappale 40, joka on ympäröity aerodynaamisilla ohjauskappaleilla 50 niin, että aerosolivirtaukseen 10 sisältyvät hiukkaset osuvat lähes täysin kappaleeseen 40 ja ne mahdollistavat tällä tavalla taloudellisen päällystyksen. Saostusmäärän tukemiseksi edelleen on mahdollista tuottaa kappaleen 40 ja ohjauskappaleiden 50 väliin sähkökenttä, jonka avulla ohjataan aerosolivirtaukseen 10 sisältyvät hiukkaset kappaleeseen 40. Jos nämä hiukkaset koostuvat eristeestä, esim. lasista, niin on mahdollista muodostaa sähkökenttä niin, että hiukkasissa mudostuu sähköisiä dipoleja, jotka tukevat kappaleen 40 päällystystä. Tällaisten dipolien avulla vältetään se, että kappale 40 ei varaudu sähköstaattisesti niin, että edelleen-päällystys vaikeutuu.
3 77636 Käyttöesimerkki
Kappale 40 muodostetaan sauva- tai putkimaiseksi tukikappaleeksi, jonka ulkovaippapinta päällystetään lasimaisella ja/tai lasin-muodostavalla kerroksella niin, että muodostuu niin kutsuttu esimuoto, josta voidaan vetää valoaaltojohdin. Tässä esimerkissä kappale 40 käännetään pitkittäisakselinsa ympäri, putkien 21, 31, 41 poikkileikkaus on muodostettu suorakulmaiseksi, niin että samanaikainen päällystys kappaleen 40 vaippalinjaa pitkin on mahdollista. Putkiin 21, 31 johdetut aineosat 2 tai vast. 3 koostuvat piitetrakloridista (SiCl^) tai vast, vesihöyrystä (f^O), jotka reagoivat reaktiotilassa 1 lämmön vaikutuksessa piidioksidi ( SiC>2 ) -pitoiseksi aerosolivirtaukseksi kaavan
SiCl4 + 2 H20 -> Si02 + 4 HC1 mukaisesti.
Tämä aerosolivirtaus ohjataan kaasu- ja/tai höyryvirtauksen 20 läpi, joka sisältää inerttiä kaasua, esim. N2:a. Jos kaasumaiseen piitetrakloridiin lisätään seostusaineita, esim. germanium-tetrakloridia (GeCl^), niin on mahdollista saostaa tukikappaleen päälle seostettuja lasikerroksia. Virtausnopeudet putkissa 21, 31, 41 valitaan niin, että toisaalta muodostuu laminaarinen virtaus, mutta toisaalta vältetään takaisindiffuusio reaktiotilasta 1. Siten vältetään ei-toivottu hiukkasten saostuminen putkissa 21, 31, 41.
Keksintöä ei ole rajoitettu esitettyyn suoritusesimerkkiin, vaan sitä voidaan soveltaa merkityksen mukaisesti muihin esimerkkeihin, esim. piikiekkojen (puolijohdekiekkojen) päällystykseen.
Claims (7)
1. Menetelmä kappaleen päällyetämieekai, erityieeeti ym- pyräeylinterimäisen kantokappaleen päällystämiseksi SiC^-hiukkasilla käyttäen aerosolivirtausta esimuodon valmistamiseksi valoaaltojohdinta varten, tunnettu siitä, että aerosoli muodostetaan kaasu- ja/tai höyryseoksesta liekittömällä kemiallisella reaktiolla, jolloin aerosoli sisältää erityisesti SiC>2~hiukkaeia esimuodon valmistamiseksi valoaalto johdinta varten, että kuumennettavaan reaktiotilaan (1) tuodaan laminaarieesti virtaavat höyry- ja/tai kaasumaiset ainesosat (2, 3), että reaktiotilassa (1) aikaansaadaan ainesosien (2, 3. di f fuusiotapahtumalla ensin kaasu- ja/tai höyryseos, joka tämän jälkeen muutetaan liekittömällä kemiallisella reaktiolla aerosoliksi, että syntyvä aerosolivirta (10) johdetaan oleellisesti laminaariseeti oleellisesti aerosolittoman kaasu-ja/tai höyryvirran (20) läpi, että aerosolivirta (10) johdetaan päällystettävää kiinteää kappaletta (40) vasten, että aerosolivirtauksen (10) muodostamiseksi kappaleen (40) alueelle on asennettu ainakin yksi aerodynaaminen ohjauskap-pale (50), joka tukee kappaleen (40) päällystystä, ja että kappaleen (40) ja ohjauskappaleen (50) väliin voidaan tuoda dielektrinen kenttä päällystyksen edelleen tukemiseksi.
2. Förfarande enligt patentkravet 1, kännetecknat av att en inert gas användes säsom gas- och/eller ängström (20).
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kaasu- ja/tai höyryvirtana (20) käytetään inert-tiä kaasua.
3. Förfarande enligt patentkravet 1 eller 2, kännetecknat av att komponenterna (2, 3) liksoin gas- och/eller äng-strömmen (20) föres genom väsentligen koncentriskt anordnade rör (21, 31, 41) till reaktionsrummet (1) och att gas- och/-eller ängströmmen (20) föres i det yttersta av rören (41).
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että ainesosat (2, 3) sekä kaasu- ja/tai höyry-virta (20) johdetaan olennaisesti samankeskisesti järjestettyjen putkien (21, 31, 41) läpi reaktiotilaan (1), ja että kaasu- ja/tai höyryvirta (20) johdetaan uloimmassa putkessa (41) .
4. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-3, kännetecknat av att minet ett av rören (41) i ena änden är utfor-mat som ett munstycke, som förhindrar en virvelbildning av aerosoletrömmen (10).
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että vähintään yksi putkista (41) on muo 77636 toiltu toisesta pääetä suuttimeksi, joka estää aerosolivirran CIO) pyörteilyn.
4 77636
5. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-4, kännetecknat av att vid en aerosolström (10) med dielektriska partiklar det elektriska fältet är sä utformat att elektriskt polariserade partiklar alstras, vilka underetödjer beläggningen av kroppen (40).
5· Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolivirrassa CIO), jossa on di-elektrieiä hiukkasia, sähkökenttä on siten muotoutunut, että syntyy sähköisesti polaroituneita hiukkasia, jotka tukevat kappaleen C40) päällystystä. ®· Jonkin patenttivaatimuksista 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kappaleena C40) käytetään ainakin yhtä ympyräsylinterimäistä kantokappaletta, ja päällystetään oleellisesti samanaikaisesti pitkin ainakin yhtä vaippalinjaa sillä tavoin, että muodostuu esimuoto valoaaltojohtimen vai-mistueta v&rten ^' Jonkin patenttivaatimuksista 1-6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolivirrassa CIO) käytetään seostettuja ja/tai seostamattomia Si02~hiukkasia päällystykseen. *· Förfarande för att förse en kropp med en beläggning, speciellt för att belägga en cirkelcylindrisk bärkropp med Si02~partiklar för framställning av en förform för en ljus-vägsledare under användning av en aerosolström, kännetecknat av att en aerosol bildas av en gas- och/eller ängblandning genom en flammfri kemisk reaktion, vilken aerosol särskilt innehäller Si02-partiklar för framställning av en förform för en 1jusvägeledare, att ett uppvärmbart reaktionsrum Cl) till-föres laminärt strömmande äng- och/eller gasformiga komponen-ter C 2, 3), att i reaktionsrummet Cl) genom ett diffusionsför-lopp av komponenterna C2, 3) alstras föret gasen och/eller ängblandningen, som därefter genom en flammfri kemisk reaktion omsättes till aerosolen, att den uppkommande aerosol-strömmen (10) väsentligen tillföres laminärt genom en väsent-ligen aerosoliri gas- och/eller ängström (20), att aerosol-strömmen CIO) ledes mot en fast kropp (40), som skall förses 77636 med beläggning, att för formning av aerosoletrömmen <10> inom omrädet för kroppen (40) minet en aerodynamisk ledkropp (50) är anbragt, vilken underetödjer beläggningen av kroppen (40), eamt att ett dielektriekt fält kan anbringae för ytterligare underetödjande av beläggningen mellan kroppen (40) och led-kroppen (50).
6. Förfarande enligt n&got av patentkraven 1-5, kännetecknat av att säeom kropp (40) användes minet en cirkelcy-lindrisk bärkropp, som väsentligen samtidigt utmed minet en mantellinje förses med en beläggning pä sä sätt att en för-form för framställning av en 1jusbägsledare bildas.
7. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-6, kännetecknat av att i aerosoletrömmen (10) utnyttjas doterade och/eller odoterade Si02~partiklar för beläggningen.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3326043 | 1983-07-20 | ||
DE19833326043 DE3326043A1 (de) | 1983-07-20 | 1983-07-20 | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI842910A0 FI842910A0 (fi) | 1984-07-19 |
FI842910A FI842910A (fi) | 1985-01-21 |
FI77636B true FI77636B (fi) | 1988-12-30 |
FI77636C FI77636C (fi) | 1989-04-10 |
Family
ID=6204376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI842910A FI77636C (fi) | 1983-07-20 | 1984-07-19 | Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4597983A (fi) |
EP (1) | EP0134507B1 (fi) |
JP (1) | JPS6075576A (fi) |
AT (1) | ATE31187T1 (fi) |
CA (1) | CA1222660A (fi) |
DE (2) | DE3326043A1 (fi) |
FI (1) | FI77636C (fi) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215540A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用多孔質母材の製造装置 |
DE3417438A1 (de) * | 1984-05-11 | 1985-11-14 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines aerosolstromes |
DE3434674A1 (de) * | 1984-09-21 | 1986-04-03 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes |
JPH07101751B2 (ja) * | 1985-03-28 | 1995-11-01 | キヤノン株式会社 | 光起電力素子の製造方法 |
DE3530153A1 (de) * | 1985-08-23 | 1987-03-05 | Licentia Gmbh | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes |
AU594979B2 (en) * | 1985-09-30 | 1990-03-22 | Union Carbide Corporation | Arc vapor depositing a coating in an evacuated chamber |
JPH02222134A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-04 | Nobuo Mikoshiba | 薄膜形成装置 |
CA2061069C (en) * | 1991-02-27 | 1999-06-29 | Toshio Kubota | Method of electrostatically spray-coating a workpiece with paint |
US6312656B1 (en) | 1995-12-19 | 2001-11-06 | Corning Incorporated | Method for forming silica by combustion of liquid reactants using oxygen |
US5746834A (en) * | 1996-01-04 | 1998-05-05 | Memc Electronics Materials, Inc. | Method and apparatus for purging barrel reactors |
EP1010672A1 (en) * | 1998-12-17 | 2000-06-21 | PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. | Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis |
US6331689B1 (en) | 1999-06-15 | 2001-12-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Method and device for producing a powder aerosol and use thereof |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4002512A (en) * | 1974-09-16 | 1977-01-11 | Western Electric Company, Inc. | Method of forming silicon dioxide |
US4083708A (en) * | 1976-09-15 | 1978-04-11 | Exxon Research & Engineering Co. | Forming a glass on a substrate |
CA1080562A (en) * | 1977-02-10 | 1980-07-01 | Frederick D. King | Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube |
JPS5927728B2 (ja) * | 1977-08-11 | 1984-07-07 | 日本電信電話株式会社 | 煤状ガラスロッドの製造方法 |
US4233045A (en) * | 1978-11-27 | 1980-11-11 | Corning Glass Works | Apparatus and method for making optical filament preform |
DE2930781A1 (de) * | 1979-07-28 | 1981-02-12 | Licentia Gmbh | Verfahren zur herstellung einer lichtleitfaser |
CA1166527A (en) * | 1979-09-26 | 1984-05-01 | Shiro Takahashi | Method and apparatus for producing multi-component glass fiber preform |
US4310474A (en) * | 1980-04-02 | 1982-01-12 | Western Electric Company, Inc. | Method and apparatus for generating a vapor stream |
DE3027450C2 (de) * | 1980-07-19 | 1982-06-03 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Innenbeschichtung eines Glas-Substratrohres für die Herstellung eines Glasfaser-Lichtleiters |
WO1982003345A1 (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-14 | Western Electric Co | Universal torch |
US4378987A (en) * | 1981-10-15 | 1983-04-05 | Corning Glass Works | Low temperature method for making optical fibers |
US4440558A (en) * | 1982-06-14 | 1984-04-03 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition |
-
1983
- 1983-07-20 DE DE19833326043 patent/DE3326043A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-07-13 AT AT84108296T patent/ATE31187T1/de active
- 1984-07-13 DE DE8484108296T patent/DE3467891D1/de not_active Expired
- 1984-07-13 EP EP84108296A patent/EP0134507B1/de not_active Expired
- 1984-07-19 FI FI842910A patent/FI77636C/fi not_active IP Right Cessation
- 1984-07-19 JP JP59148732A patent/JPS6075576A/ja active Pending
- 1984-07-19 US US06/632,291 patent/US4597983A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-07-19 CA CA000459231A patent/CA1222660A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE31187T1 (de) | 1987-12-15 |
EP0134507B1 (de) | 1987-12-02 |
DE3467891D1 (en) | 1988-01-14 |
FI842910A0 (fi) | 1984-07-19 |
FI77636C (fi) | 1989-04-10 |
JPS6075576A (ja) | 1985-04-27 |
CA1222660A (en) | 1987-06-09 |
US4597983A (en) | 1986-07-01 |
FI842910A (fi) | 1985-01-21 |
DE3326043A1 (de) | 1985-02-07 |
EP0134507A1 (de) | 1985-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI77636B (fi) | Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. | |
US5397372A (en) | MCVD method of making a low OH fiber preform with a hydrogen-free heat source | |
US4082420A (en) | An optical transmission fiber containing fluorine | |
JPH01103924A (ja) | 単一モード光ファイバの製造方法 | |
US4233045A (en) | Apparatus and method for making optical filament preform | |
US4415404A (en) | Process of etching glass surfaces, particularly in the manufacture of optical waveguides | |
GB2303129A (en) | Method of fabricating optical fiber doped with rare earth element using volatile complex | |
US4161505A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
EP1278009A2 (en) | Flame stablizer for burner for flame hydrolysis deposition | |
US4242375A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
WO1999002459A1 (en) | Germanium chloride and siloxane feedstock for forming silica glass and method | |
US4302230A (en) | High rate optical fiber fabrication process using thermophoretically enhanced particle deposition | |
US20030115909A1 (en) | Plasma chemical vapor deposition methods and apparatus | |
JP2000272925A (ja) | オルガノシランの分解によるシリカの製造法 | |
JP2004331440A (ja) | 多孔質ガラス微粒子堆積体の製造法及び前記製造法に用いられるガラス合成用バーナ | |
Geisler et al. | Optical Fibres: EPO Applied Technology Series | |
Morse et al. | Aerosol doping technique for MCVD and OVD | |
JPS5851892B2 (ja) | 光学的ガラス製品を製造するための方法および装置 | |
JPS61236628A (ja) | 有機金属化合物を使用するアルミナでド−プされたシリカフアイバの製造方法 | |
US4610892A (en) | Method for producing a directed aerosol stream | |
EP0059564A1 (en) | Manufacture of optical fibre preforms | |
GB2149779A (en) | Manufacture of optical fibre preforms | |
CN102276143B (zh) | 用于制造初级预制品的方法 | |
JPS6036343A (ja) | 光伝送用ガラス素材の製法 | |
KR100238183B1 (ko) | 일차원 입자분포를 갖는 선형 토치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed |
Owner name: LICENTIA PATENT- VERWALTUNGS-G.M.B.H. |