FI77636C - Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. - Google Patents

Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. Download PDF

Info

Publication number
FI77636C
FI77636C FI842910A FI842910A FI77636C FI 77636 C FI77636 C FI 77636C FI 842910 A FI842910 A FI 842910A FI 842910 A FI842910 A FI 842910A FI 77636 C FI77636 C FI 77636C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
aerosol
gas
stream
coating
reaction
Prior art date
Application number
FI842910A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI77636B (fi
FI842910A (fi
FI842910A0 (fi
Inventor
Max Kuisl
Reinhart Kuehne
Original Assignee
Licentia Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Gmbh filed Critical Licentia Gmbh
Publication of FI842910A0 publication Critical patent/FI842910A0/fi
Publication of FI842910A publication Critical patent/FI842910A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI77636B publication Critical patent/FI77636B/fi
Publication of FI77636C publication Critical patent/FI77636C/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45519—Inert gas curtains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45576—Coaxial inlets for each gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/04—Multi-nested ports
    • C03B2207/06—Concentric circular ports
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/04—Multi-nested ports
    • C03B2207/08—Recessed or protruding ports
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
    • C03B2207/26—Multiple ports for glass precursor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/34—Liquid, e.g. mist or aerosol
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/46—Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
  • Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
  • Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

77636
Menetelmä kappaleen päällystämiseksi
Keksinnön kohteena on menetelmä kappaleen päällystämiseksi aerosolivirtausta käyttäen patenttivaatimuksen 1 johdanto-osan mukaisesti.
Keksinnön kohteena on etenkin aerosoli, joka sisältää kiinteitä hiukkasia (pieniä osasia) sekä vähintään yhtä kaasua ja/tai höyryä. Tällaista aerosolia nimitetään myös savuksi. Aerosolia, joka sisältää kaasua ja/tai höyryä sekä nestemäisiä hiukkasia, nimitetään myös sumuksi. Esimerkkimenetelmä virtaavan aerosolin valmistamiseksi, jota nimitetään seuraavaesa aero-801ivirtaukseksi, on sellainen, että kaasu- ja/tai höyrymäiset kemialliset aineosat sekoitetaan suuttimen avulla ja muodostuva kaasu- ja/tai höyryseos saatetaan reagoimaan termisen reaktion, esim. liekkihydrolyysin avulla aerosolivirtaukseksi. Tässä aerosolivirtauksessa hiukkaset liikkuvat erilaisissa kulmissa eri suunnissa. Tällaista aerosolivirtausta ei useinkaan ole taloudellista käyttää esim. päällystyslaitteissa, joissa vain hiukkasilla päällystettäviin esineisiin on osuttava eikä niiden ympäristöön. On selvää rajoittaa tällainen aerosolivirtaus mekaanisilla välineillä, esim. kaihtimilla. Tällainen menettely on haitallisella tavalla samoin epätaloudellista, koska esimerkiksi valitut kaihtimet päällystetään samoin ei-toivotulla tavalla. Aerosolivirtauksessa esiintyy hukkaa, tarvitaan kalliita puhdistustöitä.
Keksinnön tehtävänä on tästä syystä parantaa alussa esitetyn tyyppistä menetelmää sikäli, että halvalla tavalla hallittavissa oleva aerosolivirtaus, jossa on mahdollisimman suuri hiukkastiheys, tulee mahdolliseksi ja joka soveltuu etenkin päällystys- ja/tai saostuslaitteisiin.
Tämä tehtävä ratkaistaan keksinnön mukaisesti patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa esitetyillä keinoilla. Edelleen-kehitys ja sovellutukset on esitetty alivaatimuksissa.
2 77636
Keksintöä selitetään seuraavassa suoritusesimerkin avulla lähemmin viitaten kaaviomaiseen piirustukseen.
Kuvio esittää pitkittäisleikkauskuvaa aerosoligeneraattorista, joka muodostuu olennaisesti samankeskisesti järjestetyistä putkista 21, 31, 41, joissa on poikkileikkaus, joka on sovitettu tuotetun aerosolivirtauksen käyttöön. Poikkileikkaus on valittu esimerkiksi pyöreäksi tai suorakulmaiseksi. Sisäputkien 21, 31 läpi johdetaan laminaarisesti virtaavat kaasu- ja/tai höyrymäi-set aineosat 2, 3 ensin reaktiotilaan 1. Siinä muodostuu diffuusion avulla kaasu- ja/tai höyryseos, joka reagoi kemiallisen reaktion avulla aerosoliksi, aerosolivirtaukseksi 10. Tämä kemiallinen reaktio laukaistaan esimerkiksi lämmön vaikutuksella, joka tuotetaan reaktiotilan 10 ympärille sijoitetulla uunilla 60. Muodostunut olennaisesti laminaarisesti virtaava aerosolivirtaus 10 ohjataan nyt aerosoli-(hiukkas-)vapaan kaasu- ja/tai höyry-virran 20 läpi, joka johdetaan aerosolivirtaukseen 10 ulkoputken 41 läpi. Samoin olennaisesti laminaarisesti virtaava kaasu-ja/tai höyryvirtaus 20 estää aerosolivirtaukseen 10 sisältyvien hiukkasten säteittäisen liikkeen. Siten on mahdollista etenkin päällystyslaitteissa muodostaa aerosolivirtauksen 10 poikkileikkaus suuttimilla niin, että taloudellinen päällystys on mahdollista. Kaasu- ja/tai höyryvirtauksen 20 avulla vältetään etenkin suuttimien karstaantuminen, niin että vältetään kalliit puhdistukset. Kuviossa on esitetty päällystettävä kappale 40, joka on ympäröity aerodynaamisilla ohjauskappaleilla 50 niin, että aerosolivirtaukseen 10 sisältyvät hiukkaset osuvat lähes täysin kappaleeseen 40 ja ne mahdollistavat tällä tavalla taloudellisen päällystyksen. Saostusmäärän tukemiseksi edelleen on mahdollista tuottaa kappaleen 40 ja ohjauskappaleiden 50 väliin sähkökenttä, jonka avulla ohjataan aerosolivirtaukseen 10 sisältyvät hiukkaset kappaleeseen 40. Jos nämä hiukkaset koostuvat eristeestä, esim. lasista, niin on mahdollista muodostaa sähkökenttä niin, että hiukkasissa mudostuu sähköisiä dipoleja, jotka tukevat kappaleen 40 päällystystä. Tällaisten dipolien avulla vältetään se, että kappale 40 ei varaudu sähköstaattisesti niin, että edelleen-päällystys vaikeutuu.
3 77636 Käyttöesimerkki
Kappale 40 muodostetaan sauva- tai putkimaiseksi tukikappaleeksi, jonka ulkovaippapinta päällystetään lasimaisella ja/tai lasin-muodostavalla kerroksella niin, että muodostuu niin kutsuttu esimuoto, josta voidaan vetää valoaaltojohdin. Tässä esimerkissä kappale 40 käännetään pitkittäisakselinsa ympäri, putkien 21, 31, 41 poikkileikkaus on muodostettu suorakulmaiseksi, niin että samanaikainen päällystys kappaleen 40 vaippalinjaa pitkin on mahdollista. Putkiin 21, 31 johdetut aineosat 2 tai vast. 3 koostuvat piitetrakloridista (SiCl^) tai vast, vesihöyrystä (f^O), jotka reagoivat reaktiotilassa 1 lämmön vaikutuksessa piidioksidi ( SiC>2 ) -pitoiseksi aerosolivirtaukseksi kaavan
SiCl4 + 2 H20 -> Si02 + 4 HC1 mukaisesti.
Tämä aerosolivirtaus ohjataan kaasu- ja/tai höyryvirtauksen 20 läpi, joka sisältää inerttiä kaasua, esim. N2:a. Jos kaasumaiseen piitetrakloridiin lisätään seostusaineita, esim. germanium-tetrakloridia (GeCl^), niin on mahdollista saostaa tukikappaleen päälle seostettuja lasikerroksia. Virtausnopeudet putkissa 21, 31, 41 valitaan niin, että toisaalta muodostuu laminaarinen virtaus, mutta toisaalta vältetään takaisindiffuusio reaktiotilasta 1. Siten vältetään ei-toivottu hiukkasten saostuminen putkissa 21, 31, 41.
Keksintöä ei ole rajoitettu esitettyyn suoritusesimerkkiin, vaan sitä voidaan soveltaa merkityksen mukaisesti muihin esimerkkeihin, esim. piikiekkojen (puolijohdekiekkojen) päällystykseen.

Claims (7)

1. Menetelmä kappaleen päällyetämieekai, erityieeeti ym- pyräeylinterimäisen kantokappaleen päällystämiseksi SiC^-hiukkasilla käyttäen aerosolivirtausta esimuodon valmistamiseksi valoaaltojohdinta varten, tunnettu siitä, että aerosoli muodostetaan kaasu- ja/tai höyryseoksesta liekittömällä kemiallisella reaktiolla, jolloin aerosoli sisältää erityisesti SiC>2~hiukkaeia esimuodon valmistamiseksi valoaalto johdinta varten, että kuumennettavaan reaktiotilaan (1) tuodaan laminaarieesti virtaavat höyry- ja/tai kaasumaiset ainesosat (2, 3), että reaktiotilassa (1) aikaansaadaan ainesosien (2, 3. di f fuusiotapahtumalla ensin kaasu- ja/tai höyryseos, joka tämän jälkeen muutetaan liekittömällä kemiallisella reaktiolla aerosoliksi, että syntyvä aerosolivirta (10) johdetaan oleellisesti laminaariseeti oleellisesti aerosolittoman kaasu-ja/tai höyryvirran (20) läpi, että aerosolivirta (10) johdetaan päällystettävää kiinteää kappaletta (40) vasten, että aerosolivirtauksen (10) muodostamiseksi kappaleen (40) alueelle on asennettu ainakin yksi aerodynaaminen ohjauskap-pale (50), joka tukee kappaleen (40) päällystystä, ja että kappaleen (40) ja ohjauskappaleen (50) väliin voidaan tuoda dielektrinen kenttä päällystyksen edelleen tukemiseksi.
2. Förfarande enligt patentkravet 1, kännetecknat av att en inert gas användes säsom gas- och/eller ängström (20).
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kaasu- ja/tai höyryvirtana (20) käytetään inert-tiä kaasua.
3. Förfarande enligt patentkravet 1 eller 2, kännetecknat av att komponenterna (2, 3) liksoin gas- och/eller äng-strömmen (20) föres genom väsentligen koncentriskt anordnade rör (21, 31, 41) till reaktionsrummet (1) och att gas- och/-eller ängströmmen (20) föres i det yttersta av rören (41).
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että ainesosat (2, 3) sekä kaasu- ja/tai höyry-virta (20) johdetaan olennaisesti samankeskisesti järjestettyjen putkien (21, 31, 41) läpi reaktiotilaan (1), ja että kaasu- ja/tai höyryvirta (20) johdetaan uloimmassa putkessa (41) .
4. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-3, kännetecknat av att minet ett av rören (41) i ena änden är utfor-mat som ett munstycke, som förhindrar en virvelbildning av aerosoletrömmen (10).
4. Jonkin patenttivaatimuksista 1-3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että vähintään yksi putkista (41) on muo 77636 toiltu toisesta pääetä suuttimeksi, joka estää aerosolivirran CIO) pyörteilyn.
4 77636
5. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-4, kännetecknat av att vid en aerosolström (10) med dielektriska partiklar det elektriska fältet är sä utformat att elektriskt polariserade partiklar alstras, vilka underetödjer beläggningen av kroppen (40).
5· Jonkin patenttivaatimuksista 1-4 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolivirrassa CIO), jossa on di-elektrieiä hiukkasia, sähkökenttä on siten muotoutunut, että syntyy sähköisesti polaroituneita hiukkasia, jotka tukevat kappaleen C40) päällystystä. ®· Jonkin patenttivaatimuksista 1-5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kappaleena C40) käytetään ainakin yhtä ympyräsylinterimäistä kantokappaletta, ja päällystetään oleellisesti samanaikaisesti pitkin ainakin yhtä vaippalinjaa sillä tavoin, että muodostuu esimuoto valoaaltojohtimen vai-mistueta v&rten ^' Jonkin patenttivaatimuksista 1-6 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolivirrassa CIO) käytetään seostettuja ja/tai seostamattomia Si02~hiukkasia päällystykseen. *· Förfarande för att förse en kropp med en beläggning, speciellt för att belägga en cirkelcylindrisk bärkropp med Si02~partiklar för framställning av en förform för en ljus-vägsledare under användning av en aerosolström, kännetecknat av att en aerosol bildas av en gas- och/eller ängblandning genom en flammfri kemisk reaktion, vilken aerosol särskilt innehäller Si02-partiklar för framställning av en förform för en 1jusvägeledare, att ett uppvärmbart reaktionsrum Cl) till-föres laminärt strömmande äng- och/eller gasformiga komponen-ter C 2, 3), att i reaktionsrummet Cl) genom ett diffusionsför-lopp av komponenterna C2, 3) alstras föret gasen och/eller ängblandningen, som därefter genom en flammfri kemisk reaktion omsättes till aerosolen, att den uppkommande aerosol-strömmen (10) väsentligen tillföres laminärt genom en väsent-ligen aerosoliri gas- och/eller ängström (20), att aerosol-strömmen CIO) ledes mot en fast kropp (40), som skall förses 77636 med beläggning, att för formning av aerosoletrömmen <10> inom omrädet för kroppen (40) minet en aerodynamisk ledkropp (50) är anbragt, vilken underetödjer beläggningen av kroppen (40), eamt att ett dielektriekt fält kan anbringae för ytterligare underetödjande av beläggningen mellan kroppen (40) och led-kroppen (50).
6. Förfarande enligt n&got av patentkraven 1-5, kännetecknat av att säeom kropp (40) användes minet en cirkelcy-lindrisk bärkropp, som väsentligen samtidigt utmed minet en mantellinje förses med en beläggning pä sä sätt att en för-form för framställning av en 1jusbägsledare bildas.
7. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-6, kännetecknat av att i aerosoletrömmen (10) utnyttjas doterade och/eller odoterade Si02~partiklar för beläggningen.
FI842910A 1983-07-20 1984-07-19 Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning. FI77636C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3326043 1983-07-20
DE19833326043 DE3326043A1 (de) 1983-07-20 1983-07-20 Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI842910A0 FI842910A0 (fi) 1984-07-19
FI842910A FI842910A (fi) 1985-01-21
FI77636B FI77636B (fi) 1988-12-30
FI77636C true FI77636C (fi) 1989-04-10

Family

ID=6204376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI842910A FI77636C (fi) 1983-07-20 1984-07-19 Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4597983A (fi)
EP (1) EP0134507B1 (fi)
JP (1) JPS6075576A (fi)
AT (1) ATE31187T1 (fi)
CA (1) CA1222660A (fi)
DE (2) DE3326043A1 (fi)
FI (1) FI77636C (fi)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60215540A (ja) * 1984-04-06 1985-10-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 光フアイバ−用多孔質母材の製造装置
DE3417438A1 (de) * 1984-05-11 1985-11-14 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines aerosolstromes
DE3434674A1 (de) * 1984-09-21 1986-04-03 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes
JPH07101751B2 (ja) * 1985-03-28 1995-11-01 キヤノン株式会社 光起電力素子の製造方法
DE3530153A1 (de) * 1985-08-23 1987-03-05 Licentia Gmbh Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes
DE3672819D1 (de) * 1985-09-30 1990-08-23 Union Carbide Corp Vorrichtung und verfahren zum beschichten in einer vakuumkammer durch lichtbogendampfniederschlag.
JPH02222134A (ja) * 1989-02-23 1990-09-04 Nobuo Mikoshiba 薄膜形成装置
CA2061069C (en) * 1991-02-27 1999-06-29 Toshio Kubota Method of electrostatically spray-coating a workpiece with paint
US6312656B1 (en) * 1995-12-19 2001-11-06 Corning Incorporated Method for forming silica by combustion of liquid reactants using oxygen
US5746834A (en) * 1996-01-04 1998-05-05 Memc Electronics Materials, Inc. Method and apparatus for purging barrel reactors
EP1010672A1 (en) 1998-12-17 2000-06-21 PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis
US6331689B1 (en) 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4002512A (en) * 1974-09-16 1977-01-11 Western Electric Company, Inc. Method of forming silicon dioxide
US4083708A (en) * 1976-09-15 1978-04-11 Exxon Research & Engineering Co. Forming a glass on a substrate
CA1080562A (en) * 1977-02-10 1980-07-01 Frederick D. King Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube
JPS5927728B2 (ja) * 1977-08-11 1984-07-07 日本電信電話株式会社 煤状ガラスロッドの製造方法
US4233045A (en) * 1978-11-27 1980-11-11 Corning Glass Works Apparatus and method for making optical filament preform
DE2930781A1 (de) * 1979-07-28 1981-02-12 Licentia Gmbh Verfahren zur herstellung einer lichtleitfaser
CA1166527A (en) * 1979-09-26 1984-05-01 Shiro Takahashi Method and apparatus for producing multi-component glass fiber preform
US4310474A (en) * 1980-04-02 1982-01-12 Western Electric Company, Inc. Method and apparatus for generating a vapor stream
DE3027450C2 (de) * 1980-07-19 1982-06-03 Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zur Innenbeschichtung eines Glas-Substratrohres für die Herstellung eines Glasfaser-Lichtleiters
WO1982003345A1 (en) * 1981-03-30 1982-10-14 Western Electric Co Universal torch
US4378987A (en) * 1981-10-15 1983-04-05 Corning Glass Works Low temperature method for making optical fibers
US4440558A (en) * 1982-06-14 1984-04-03 International Telephone And Telegraph Corporation Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition

Also Published As

Publication number Publication date
CA1222660A (en) 1987-06-09
US4597983A (en) 1986-07-01
DE3326043A1 (de) 1985-02-07
EP0134507A1 (de) 1985-03-20
ATE31187T1 (de) 1987-12-15
EP0134507B1 (de) 1987-12-02
FI77636B (fi) 1988-12-30
FI842910A (fi) 1985-01-21
JPS6075576A (ja) 1985-04-27
DE3467891D1 (en) 1988-01-14
FI842910A0 (fi) 1984-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI77636C (fi) Foerfarande foer att foerse en kropp med en belaeggning.
US5692087A (en) Optical fiber with low OH impurity and communication system using the optical fiber
US4082420A (en) An optical transmission fiber containing fluorine
US4415404A (en) Process of etching glass surfaces, particularly in the manufacture of optical waveguides
US6682339B2 (en) Flame stabilizer for flame hydrolysis deposition
US4161505A (en) Process for producing optical transmission fiber
US4242375A (en) Process for producing optical transmission fiber
JP2022048348A (ja) 改良された粒子蒸着システムと方法
WO1999002459A1 (en) Germanium chloride and siloxane feedstock for forming silica glass and method
US20030115909A1 (en) Plasma chemical vapor deposition methods and apparatus
JP2000272925A (ja) オルガノシランの分解によるシリカの製造法
JP2004331440A (ja) 多孔質ガラス微粒子堆積体の製造法及び前記製造法に用いられるガラス合成用バーナ
FI78283B (fi) Foerfarande foer aostadkommande av en aerosolstroem.
Geisler et al. Optical Fibres: EPO Applied Technology Series
Morse et al. Aerosol doping technique for MCVD and OVD
SE7904892L (sv) Forfarande och anordning for framstellning av optiska glasforemal
US4610892A (en) Method for producing a directed aerosol stream
JP7500584B2 (ja) マルチチャネルスプリッタスプール
EP0059564A1 (en) Manufacture of optical fibre preforms
GB2149779A (en) Manufacture of optical fibre preforms
KR100238183B1 (ko) 일차원 입자분포를 갖는 선형 토치
JPS6036343A (ja) 光伝送用ガラス素材の製法
JPH0225853B2 (fi)
JP2005067931A (ja) 耐熱性誘電物質の加熱装置及び該装置を用いた耐熱性誘電物質の製造方法、ガラス体加熱装置及び該装置を用いた光ファイバ母材製造方法並びに光ファイバ母材及び光ファイバ
JP2992329B2 (ja) 光導波路用ガラス膜の形成方法およびその装置ならびに光導波路

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: LICENTIA PATENT- VERWALTUNGS-G.M.B.H.