JPS6072838A - ホモアリルアルコ−ル類の不斉合成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学活性なホモアリルアルコール類の不斉合成
法に関する。更に詳細には、本発明は、下記式（Ｉ＞で
表わされる光学活性有機錫化合物をアルデヒドまたは非
対称ケトンと反応させた後、加水分解することを特徴と
する光学活性なホモアリルアルコール類の不斉合成法で
ある。

に′ 但し、上記式（Ｉ）において、Ｒ１は炭素数４〜２０の
飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不飽和鎖式脂肪
族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族基、芳香族置換脂肪
族基から選ばれ、且つ錫に結合する炭素原子から炭素原
子鎖に沿ってα−位、β−位またはγ−位の炭素原子の
少なくとも一つが不斉炭素原子である有機基である。Ｒ
２は水素原子、メチル基またはフェニル基を表わし、Ｒ
３は塩素、臭素、沃素から選ばれるハロゲン原子、また
は炭素数１〜１２の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族
基、不飽和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
基、芳香族置換脂肪族基から選ばれる有機基である。久
およびソは、λ＋ソ≦４を満足する１〜３の正の整数で
ある。

有機錫化合物の中には種々の有機反応に対する反応試剤
として、あるいはエステル化反応やエポキサイド類の開
環重合反応等の触媒として重要な用途を持つものが多い
。しかし反応試剤や触媒として用いられている従来まで
の有機錫化合物は光学的に不活性な化合物のみであり、
一方の光学異性体を優先的に与えるところのいわゆる不
斉反応の合成試剤や触媒としては全く効果がなかった。

一方有機錫化合物と類似の反応性を示す光学活性なアリ
ルケイ素化合物や、アリルホウ素化合物を用いた不斉ア
リル化反応が若干例見い出されているが、有機ケイ素化
合物ではアリル基がフェニル置換された特殊なタイプの
ものに限られていること、有機ホウ素化合物では空気中
での不安定性のため取扱い上制約を受けること、あるい
は試剤の再使用がむずかしい事など、不満足な点が多か
った。

今般本発明者らは不斉な有１ａ基とアリル基とを同時に
含有する新規光学活性有機錫化合物を見い出し、別途出
願したが、本発明は、それらをアルデヒド又はケトンの
アリル化反３一 応試剤として用いることにより、光学活性なホモアリル
アルコール類を得ることに成功し本発明を完成するに至
った。ホモアリルアルコール類は合成中間体として重要
なものが多い。

本発明の式（Ｉ）で表わされる光学活性有機錫化合物は
、以下のような方法で製造される。

下記式（ＩＩ）で表わされる光学活性な有機基を有する
有機ハライドより常法によりグリニヤール試薬を製造し
、これと下記式（Ｉ）で表わされるアリル置換錫ハライ
ドと適当な溶媒中で反応させることによりアリル基含有
光学活性有機錫化合物が得られる。

ＲＩＸ　（Ｉ［） ２ 但、上記式（Ｉ［）において、Ｘは塩素、臭素、沃素か
ら選ばれるハロゲン原子を表わし、Ｒ１４− は、前記式（Ｉ）のＲ１と同じである。上記式（Ｉ）に
おいて、Ｘは塩素、臭素、沃素より選ばれるハロゲン原
子を表わし、Ｒ２及びＲ３は、前記式（Ｉ）のＲ２及び
Ｒ３と同じである。λおよび３は、前記式（Ｉ）のλお
よびＳと同じである。

上記反応において、溶媒としてはテトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等が挙げられ、反
応温度は−１００〜１２０℃の適当な温度が選ばれる。

また、式（Ｉ）化合物の別な製造法としては、公知の方
法ＬＪ、　Ｓ、　Ｆｉｌｉｐｐｏ、　ＪｒらＪ　、　Ａ
ｍ　、　Ｃｈｅｍ　、Ｓｏｃ、１０４．２８３１　（１
９８２））で得られる下記式（ＩＶ）で表わされる光学
活性フェニル錫化合物を臭素と反応させて臭化錫化合物
とし、これとアリルマグネシウムハライドまたはトシラ
ートを反応させると、下記式（Ｖ）で表わされる光学活
性アリル錫化合物が得られる。

（Ｒ１）　χ　５ＴＩ（Ｃ４ト１５　）４、〜ヱ　（Ｉ
Ｉ７）但し、上記式（ＩＶ）および（Ｖ）において、Ｒ
１は、前記式（■）のＲ１と同じであり、また式（Ｖ）
において、Ｒ２は式（Ｉ）のＲ２と同じである。λは１
または２を表わず。

上記反応において、臭素化反応は、四塩化炭素、クロロ
ホルム、エーテル等の溶媒中で行なうことができる。反
応温度は、通常−１００〜１２０℃の範囲である。アリ
ルグリニヤール試薬との反応は、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ラメ１−キシエタン等の溶媒中で行なうこと
ができ、反応温度は、通常−１００〜１２０℃の範囲で
ある。

また、式（Ｉ）化合物の別な製造法としては、下記式（
Ｖｌ）で表わされる光学活性ジアリル鍋化合物を下記式
（Ｖｌｌ）で表わされる光学活性錫ハロゲン化物と不均
化反応させると、下記式（■）で表わされる光学活性モ
ノアリル錫化合物が得られる。

２ （Ｒ’）　２５ＴＩＸ２　（Ｖｌｌ） 「 （Ｒ’＞２３＋＋０（２０（−０（（ＶＩＩ）２ 但し、上記式（Ｖｌ）〜（■）において、Ｒ１は、前記
式（Ｉ）のＲ１と同じであり、式（Ｖｌ）及び式（■）
において、Ｒ２は式（Ｉ＞のＲ２と同じである。また式
（Ｖｌｌ）及び式（■）において、Ｘは塩素、臭素、沃
素から選ばれるハロゲン原子を表わす。

上記反応は、無溶媒ま１＝はエーテル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン等の溶媒中
で行なうことができる。

反応温度は、通常−８０〜１２０℃の範囲である。

本発明の不斉合成によるホモアリルアルコール類は、次
式（ＩＸ）で示される反応によって製造される。

７− ＼ ６ 但し、上記式（ア）において、Ｒ４とＲ５は水素原子ま
たは炭素数１〜３０の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪
族基、不飽和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香
族基、芳香Ｍ置換脂肪族基、ハロゲン置換脂肪族基、ハ
ロゲン置換芳香族基から選ばれる互に異なる塁を表ねす
。またＲ４とＲ５は炭素−炭素結合により環を形成して
いてもよい。Ｒ６は水素原子、メチル基またはフェニル
基を表わす。

上記式（［）に示されるように、アルデヒド又は非対称
ケトンと式（Ｉ）の光学活性アリル錫化合物を反応させ
、続いて反応物を加水分解すると目的物である光学活性
なホモア８− リルアルコールが得られる。

上記反応は、無溶媒あるいはエーテル、ジメトキシエタ
ン、ジクロロメタン等の溶媒中で行なうことができる。

反応温度は、通常−１００〜１２０℃の範囲が適当であ
る。カルボニル化合物に対する式（Ｉ）化合物のモル比
は、通常０．１〜１０の範囲でる。反応はフッ化ホウ素
エーテラート等のルイス酸の存在下で行なう方が好まし
く、カルボニル化合物に対するルイス酸の使用当量は０
．０１〜１０の範囲である。

反応終了後、反応残液に適当な処理を施こすことによっ
て光学活性な置換基は繰返し使用可能な形で回収できる
。

以下本発明を実施例によって説明する。

式（Ｉ＞化合物の製造例１ （＋）−１−クロロ−２−フエニＪレブタン（光学純度
９７％＞　１８．０（１　（　１０７ｍ　ｍｏｌ）から
調製した２−フェニルブチルマグネシウムクロライドの
テトラヒドロフラン溶液２０ｍ　ｌに、ジアリル錫ジブ
ロマイド１２．８（Ｊ　（３６ｍ　１１１０１）を室温
で加え、室温で１時間撹拌した後３０分間還流した。

反応混合物にヘキサン１００ｍ１を加えて濾過した後、
濾液を濃縮し、得られた油分を蒸留すると（−）−ジア
リルビス（２−フェニルブチル）錫（（）　（Ｃ２Ｈ５
（Ｃ４Ｈ６）００１（２）　２　Ｓｎ　（Ｏ（２Ｕ＝Ｃ
１１２）　２　）　１５．１！＋　カ得られた（収率９
０％、沸点２１０℃／　０．１５ｍｍ田、〔α〕ｖ３８
．１°　（ＣＯ，９７、ベンゼン））。元素分析　実測
値：炭素６７．１７％、水素７．９４％（０２６１−＋
　３６　Ｓｎとしての計算値：炭素６６．８３％、水素
７．７７％） ＮＭＲ（Ｃ印４溶媒ＴＭＳ規準δ） ０．６９　（６Ｈ）、０．８７〜１．９３　（１２Ｈ）
、２．０２〜２．８５　（２Ｈ）、４．４０〜４．８８
（４日）、５．１６〜６．０３　（２Ｈ）、７．００〜
　７．３０　（１０）−１） 式（Ｉ）化合物の製造例２ （−）−（Ｒ）−２−オクチルトリフェニル錫９．２６
ｇ　（２０ｍ　ｍｏｌ）の四塩化炭素溶液１００ｍ１に
、臭素３．３６０　（４２ｍ　ｍｏｌ）を０℃で滴下し
、室温で３０分間反応後減圧下溶媒を留去すると、（−
）−２−オクチルフェニル錫ジブロマイド９．１ｇが得
られたく収率９７％、（α）Ｆ　−２０，１°　（Ｃ４
，００、ヘンセン））。

得られた（＝）−２−オクヂルフェニル錫ジブロ？−１
’ド９．Ｏｇ　（１９ｍ　ｍｏｌ）のテトラヒドロフラ
ン溶液４０ｍ１を、アリルブロマイド９．２ａ　（７６
ｍ　ｍｏｌ）から調製したアリルマグネシウムブロマイ
ドのテトラヒドロフラン溶液６０ｍ１に一１０℃で滴下
し、１時間速流後反応液にヘキサン１００ｍ１を加えて
濾過し、濾液の溶媒を減圧下留去し、残留物を減圧蒸留
すると、（−）−ジアリル（２−オクチル）フェニル錫
（（−）　−（Ｃ８ＨＩ３　）　（Ｃ４１−１ｓ　）　
５ｎ（ａ（２（１）−〇（２）　２　）　６．３（］が
得られた（収率８５％、沸点１１５〜１８０℃／　０．
２ｎｌ１ｇ、Ｃ（Ｘ　）　Ｃ−２１，２°　（Ｃ３，５
２、ヘンセン））。

（−）−ジアリル（２−オクチル）フェニル１１− 錫の核磁気共鳴スペクトル（ＣＣＩ１４溶媒、１ＭＳ規
準）と赤外線吸収スペクトル（薄膜法）を第１図及び第
２図に示した。

式（Ｉ＞化合物の製造例３ 製造例１で得られた（＝）−ジアリルビス（２−フェニ
ルブチル）錫４，７ａ　（１０ｍ　ｍｏｌ）の四塩化炭
素溶液２０ｍ１に（−）−ビス（２−フェニルブチル）
錫ジクロライド４．６０　（１０ｍ　ｍｏｌ）を０℃で
加え、室温で１時間撹拌をつづけたのち溶媒を留去する
と、光学活性なアリルビス（２−フェニルブチル）錫ク
ロライド（（）　（Ｃ２Ｈｓ（ＣａＨｓ）（］（０（２
）　２　Ｓ＋＋Ｑｌ　（ＯＩ２ＣＭ−（１）２））４．
３（］が得られた（収率９５％）。

実施例１ （＝）−ジアリルビス（２−フェニルブチル）錫ｓ、ｏ
５ｇ　（１０，８ｍ　ｍｏｌ　）と三フッ化ホウ素エー
テラートの４７％エーテル溶液１　、０６ｍ　ｌ（５，
４ｍ　ｍｏｌ）を含むエーテル溶液２０ｍ１を一７８℃
に冷却し、プロピオンアルデヒド０．９４ｇ１２− （１６，２ｍ　ｍｏｌ）を加え、この温度で６．５時間
撹拌した。

反応混合物を０．５Ｎ　ＮａＯＨ溶液３０ｍ１で、続い
てＩＮＨＱ２溶液、水の順で洗浄した後硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、エーテルを留去し、残漬を蒸留すると、５
−ヘキセン−３−オール１．０２（ｌが得られたく収率
６３％、（α）Ｖ−２，９７°　（ＣＩｏ、７、ベンゼ
ン）％ｅｅ４９）。

５−ヘキセン−３−オールの蒸留残渣を無水酢酸１０ｍ
１に溶かし１時間）！流した仮載圧下無水酢酸を留去し
、得られた残渣に１＝２メタノール−３ＮＨ（７）溶液
を加えて一夜撹拌する。反応液をジクロロメタンで抽出
し、溶媒を留去すると、ビス（２−フェニルブチル）錫
ジクロライドが得られた。得られたビス（２−フェニル
ブチル）錫ジクロライドのエーテル溶液に２当母のアリ
ルマグネシウムクロライドを一１０℃で加え、１時間ｊ
！流した後ジクロロメタンで抽出し、溶媒を留去し減圧
蒸留すると、（−）−ジアリルビス（２−）工二ルブチ
ル）錫３．２８ｇが回収されたく回収率６５％）、。

実施例２〜１７ 実施例１と同様な方法で、第１表に示ず反応条件にて光
学活性アリル錫化合物によるカルボニル化合物のアリル
化反応を行ない、対応する光学活性ホモアリルアルコー
ル類を得た。その結果を第１表に示す。

なお、第１表中、生成物の収率において、実施例５〜１
７はカラムクロマトグラフィーで生成物を分離した値で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図はクー）−ジアリル（２−オクチル）フェニル錫
の核磁気共鳴スペクトルを示し、第２図は同物質の赤外
線吸収スペクトルを示す。 出願人　大阪曹達株式会社 代理人　弁理士　門多　透 １７−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記式（Ｉ）で表わされる光学活性有機錫化合物をアル
   デヒドまたは非対称ケトンと反応させた後、加水分解す
   ることを特徴とする光学活性なホモアリルアルコール類
   の不斉合成法。 ２ 但し、上記式（Ｉ）において、Ｒ１は炭素数４〜２０の
   飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族基、不飽和鎖式脂肪
   族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族基、芳香族置換脂肪
   族基から選ばれ、且つ錫に結合する炭素原子から炭素原
   子鎖に沿ってα−位、β−位またはγ−位の炭素原子の
   少なくとも一つが不斉炭素原子である有機基である。Ｒ
   ２は水素原子、メチル基またはフェニル基を表わし、Ｒ
   ３は塩素、臭素、沃素から選ばれるハロゲン原子、また
   は炭素数１〜１２の飽和鎖式脂肪族基、飽和環式脂肪族
   基、不飽和鎖式脂肪族基、不飽和環式脂肪族基、芳香族
   基、芳香族置換脂肪族基から選ばれる有機基である。λ
   およびツは、λ＋３≦４を満足する１〜３の正の整数で
   ある。