JPS6072293A - アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板 - Google Patents

アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板

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JPS6072293A
JPS6072293A JP18141383A JP18141383A JPS6072293A JP S6072293 A JPS6072293 A JP S6072293A JP 18141383 A JP18141383 A JP 18141383A JP 18141383 A JP18141383 A JP 18141383A JP S6072293 A JPS6072293 A JP S6072293A
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paper
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JP18141383A
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Inventor
松尾 哲男
巧 小杉
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリント回路基板に用いられるアディティブ用
積層基板並びにこれを用いた印刷回路基板に関するもの
である。
従来の印刷回路基板は銅張り積層板を配線パターンに基
づき不要の胴部分をエツチングするいわゆるサブトラク
ティブ法が主として使われている。
近年、電子機器か軽薄短小化されるに伴い、片面回路基
板から両面板、多層板へとニーズが高まりつ\ある。特
に両面スルーボールめっき以上の多層基板は旧来法のサ
ブトラクティブ法では工程も複雑化し、大量の銅のエツ
チング廃液を出すなど好ましくない結果を招いている。
このような背景から必要な11(1所にだけ回路づけを
しようとする従来法とは逆発想のアディティブ法が近年
見直されてきている。
現在実用されているアディティブ法には触媒核となる貴
金属(例えばPd)を配合した積層板にゴム系接着剤を
塗布し、酸化剤で表面粗化して無電解めっきを行うCC
−4法や、普通の積層板にゴム系接着剤を塗布硬化した
後無水クロム酸と硫酸の混合液でゴム表面を粗化し、こ
れに触媒づけ(Pd)を行った後無電解めっきを行うP
A−II法などがある。
しかしこれらに用いられている積層板自身は何れも紙・
フェノールなど熱硬化性のプリプレグを何枚か積層して
通常30kg/−以上の加圧下でプレス成形される積層
板が使用されている。光学顕微鏡でこの断面を観察する
と基材相互間並びに表面に実質的に全面に亘り連続した
樹脂層が認められない。従来の積層板は上述の如くプレ
ス加工にて製造される為プリプレグとして半硬化してい
る基材中の含浸樹脂はプレス時に積層板から排除され樹
脂量の少ない積層板となっている。そのために積層板自
身の表面樹脂層は本来的に殆ど付いておらず、アディテ
ィブ用としてはそのためにわざわざ表面にゴム系接着剤
などを20〜60μ■1塗布したものが用いられている
。逆にそのために積層板自体のもっている耐熱性、耐薬
品性、難燃性の特性を低下させる原因ともなっている。
逆に表面にゴム層または樹脂層を付けない積層板は直接
粗化すると基材のセルロース繊維が露出してめっきの密
度強度低下の原因となり良い基板にはなり難い。
一方、従来の積層板の構造とは異なる積層板の特性とそ
の製法が特公昭58−31753および特公昭58−3
1757に各々示されている。本発明者らは同一出願人
の出願に係る上記積層板すなわち両表面ならびに基材相
互間に実質的に全面に亘って連続した樹脂層を有する積
層板の応用についても鋭急研究を行った結果、少なくと
も両表面に実質的に全面積に亘って連続した樹脂層を塗
布などの手段によらず積層板製造時に本来的に有する積
層板は表面を化学的および/または物理的粗化手段を付
加することで、アディティブ用基板として非常に適した
特性を有していることを見出した。
すなわち、本発明で適用される積層板は本発明と同一出
願人の発明に係る特開昭55−4838等に開示される
如く通常連続法でかつ実質無圧下で良好に形成されるた
め表面樹脂層ならびに基材間の樹脂層の厚みが比較的容
易にコントロールし易く、アディティブ用に適した積層
板が安価に得られる。表面に本来的に実質的に全面積に
亘って連続した樹脂層を有する積層板は従来法の如くゴ
ム系接着剤を塗布することなく、直接表面樹脂層を粗化
することができる。さらに基材相互間に実質的に全面積
に亘り、連続した樹脂層を有する積層板は穴明けを行っ
てもスルーボールの断面には何層も連続した樹脂層があ
るためめっきが従来の積層板に比べてきれいで密着強度
の強固なものが得られるという特徴をも有する。またア
ディティブ法でよく用いられるフルアディティブ法はp
)(12以上のアルカリ下約70℃の高温下に10〜2
0時間と長時間過酷な条件に曝されるが基材間に樹脂層
を形成している本発明の積N坂は基月内への水分の浸透
等に基づく電気的、機械的特性の低下が格段に少なくア
ディティブ用基板として好適の素材であった。
第1図に通常実施されるアディティブ法の工程例を示す
。八がセミアディティブ法の例、Bがフルアディティブ
法の例である。本発明の積層板はA、 Bの画法に共に
良好に使用でき優秀な回路基板を製造することができる
本発明に用いられる表面の粗化方法は特に限定はしない
−。従来使用されている有効な手段等が適用されるが樹
脂の種類ならびにその組成に対応して化学的および/ま
たは物理的手段が選ばれる。
化学的表面粗化法としては、例えば不飽和ポリエステル
の場合はアルカリや酸化剤で粗化できるが基材に含浸さ
せた樹脂配合組成中の無機物(Si(h。
5bz03+ CaCO3+ TiO2,AI (OH
)3.等)を酸やアルカリで溶出または変化させること
による粗化も可能である。また必要に応じて溶剤によっ
て膨潤化の前処理を施すことも効果的である。
以上の如き湿式反応だけでなり、S03と空気の混合気
体による乾式エツチングやオゾン分解など気相反応や適
用可能である。さらにこれら種々の化学的処理法の中の
複数の処理法を併用することもできる。化学的処理法で
はミクロな粗化も伴うが極性官能基の導入等によるめっ
きの密着強度を向上させる点で寄与が大きい。
物理的表面粗化手段としては、例えばサンドブラスト、
界面活性剤入りケイ酸アルミニウム系微粉末による表面
研磨洗浄、ホーニング、液体ホーニング、プラズマ表面
粗化法などが用いられる。
また連続的に積層板を形成するときに表面粗化を連続的
に同時に行うために積層基材の片面または両面に樹脂含
浸基材積層板のカバーシートとして約0.05〜10μ
m、好ましくは0.1〜5 p mの表面粗さをもつ金
M箔例えば電解銅箔面または表面粗化したプラスチツル
フィルムを用いることができる。既述の物理的手段を複
数併用することもできる。
以上述べた物理的粗化方法と化学的粗化法を併用するこ
とも粗化方法として効率的であり、特に前者を後者に先
行させて実施させることは効果的である。マクロな凹凸
面を先に形成し、次に化学的処理で凹凸面をより微細で
複雑なものにし、力・つ極性基導入でめっきの密着強度
を向上させf、lるものと理解される。
物理的粗化の程度は0.05〜10μm程度が好適であ
る。0.05μm以下だと細かすぎて密着強度が上らず
、また10μm以上の粗化では大きすぎて密着強度に良
い効果をもたらさない。
無電解銅めっき(化学めっき)は通當スル−ホール後パ
ラジウム等の触媒づけを行った後、硫酸銅ホルマリン系
の化学銅めっき液に浸漬する等の通常の無電解めっきが
適用される。めっき時間を短縮するために化学銅めっき
を薄くつけた後で通常用いられる電解銅めっきが良好に
用いられる。
また本発明に用いられる表面および基材間に実質的に全
面積に亘り連続した樹脂層を有する積層板はパンチング
し易く、さらにパンチング面に欠けもなく、はぼ円柱状
の穴があくなど良好なためスルーホールめっきも従来の
積層板に比べて極めて良好に実施可能である。さらに基
材相互間に存在する樹脂層の影響でめっき付着性も良好
である。
本発明に用いられる積層板の表面並びに基材間の樹脂層
の厚みは5〜100μmが好適である。好ましくは10
〜80μm、さらに好ましくは15〜60μmである。
5μIrl以下だと上述の効果が少なく、また100μ
m11以上だと基板自身の機械的強度が悪くなってくる
。これらの樹脂層、特に層間樹脂層は反射型光学顕微鏡
で容易に観察し得る。
以下に実施の例示を行うが本発明はこれに限定されるも
のではない。
実施例1 市販の不飽和ポリエステル樹脂(成田薬品製、ポリマー
ル6304)1.00重量部とクメンハイドロパーオキ
サイド1重量部からなる樹脂液を厚さが270μm2坪
ff1150g/nfのクラフト紙に含浸し、各々約1
朋になる程度に塗布し、これらを6枚重ねてさらに両表
面に厚さが100μInのアルミニウム箔を重ね、次い
でクリアランスが1800μmに設定されたロール間を
通して100℃×30分、次ぎに150℃×30分の条
件で硬化させ、次いでアルミニウム箔を剥削し厚さが約
1.6mの積層板を得た。
そしてこのものは両表面並びに基材間に約20μmの樹
脂層を有していた。
この積層板を、珪酸アルミニウムを主体とする鉱物系微
粉末(粒径0.3μm〜5μm)で両表面を研磨した後
、無水クロム酸、硫酸の混酸を用いて55℃で約30分
間処理したところ、表面は緻密に粗化された積層板が得
られた。
5loan社のDek tak表面粗さ計で測定したと
ころ0.05〜5μmの粗さのものが高密度に増えてい
ることが確認できた。
このものに0PC−80(奥野製薬製キャタリスト)を
主成分とする触媒液に7分浸漬後、or’c−555(
奥野製薬製アクセレーター)を主成分とする活性化剤に
10分浸漬後、水洗してopc−750、A、B液(奥
野盟薬製、化学めっき液)を主成分とするめっき液に2
5分間空気攪拌下に浸漬して約0.5μIflの銅めっ
きをつけた後、電解銅めっきで約40μlHにつけた。
JIS C6481による銅箔の剥離強度は1.6 k
g / cmであり、アディティブ用積層扱として好適
であることがわかった。
以上の処理に基づく粗化積15板に回路パターンに基づ
く穴をあけ、同様の触媒づけ、めっき付けを行った後メ
ンキレジストでパターン印刷を行い、OPCカッパー(
奥野製薬製、銅めっき液)A、B。
C液を主成分とする銅めっき液で約40μmの銅めっき
を行ったところ、スルーホールめっきもパターンめっき
もレジストに忠実なパターンが得られた。レジストを除
去後回路以外の銅を除去するためクイックエッチすると
ファインな回路基板が得られた。
なおこの回路基板のスルーボールめっき部分のテストを
MIL202E/107に基づいて一65°Cと125
℃のサイクルテストを行ったところ50ザイクルでもス
ルーホール接続抵抗に異常は認められなかった。
実施例2 エポキシ樹脂(シェル、エピコー)82B)100重量
部、メチルテトラヒドロフタル酸無水物(日立化成HN
−2200) 80部、ジメチルベンジルアミン0.1
部を実施例1で用いた紙6枚に含浸し、同様の操作を経
て150°C×60分の条件で硬化させ、アルミ箔を剥
離して約1.6顛の積層板を得た。このものの表面並び
に基材相互間に約20μmの連続した樹脂層を有する積
層板を得た。
このものに実施例1と同様の粗化触媒づげ、化学銅めっ
き、電解銅めっきを施した。JIS C(i481によ
るこのもののビール強度は1.4 kg / cmであ
った。この粗化された積層板を用いて実施例1と同様の
アディティブ法で基板の回路化を試みたところパターン
並びにスルーボールめっきのきれいな回路基板を得た。
実施例1と同じヒートザイクルテストを行ったところ5
0サイクルでもスルーホール接続抵抗に異常は認められ
なかった。
実施例3 実施例1と同様に紙・不飽和ポリエステルからなる積層
板を実質的無圧下で連続的に製造した。
すなわち実施例1と同様の樹脂含浸紙を6枚重ね合わせ
て、加熱硬化するに際し、表面の粗化は35μmの電解
銅箔を両表面にあてがいクリアランスが1700 mμ
のロール間を通過させ100℃×30分後150°cx
30’分の条件で硬化させた加熱硬化炉から出てきた直
後に両表面の銅箔を剥離することで両表面には電解銅箔
の粗面が忠実に転写された積層板が得られた。この積層
板の断面を光学顕微鏡で観察したところ表面ならびに基
材間に約30μの連続した樹脂層を有していた。
この積層板をさらに15%Na01l水溶液に60℃で
1時間&漬粗化を行った後実施例1と同様の触媒づけ、
めっき付けを行った後JIS C6481のビールテス
トを行ったところ1.6 kg / cmであった。
この素材を用いるとスルーホールめっきもパターンめっ
きもきれいに行うことができた。
比較例1 実施例1で用いた樹脂液を上方から流下させて紙に含浸
し、樹脂付着含浸紙を得、このものを7枚重ねて100
mμのアルミ箔にはさみ1800μmのスリットを通し
100℃×30分加熱後、プレスで150℃×30分硬
化させて積層板を得た。このものの断面を顕微鏡で見た
ところ実質的に全面に亘り連続した樹脂層は表面および
紙基材間にも認められず基材は一体化してしまっていた
このものを用いて実施例1同様の粗化を行った後めっき
を行ったところ粗化でセルロースが露出してきたため、
めっきのビール強度は0.5kg/cmであった。スル
ーホールめっきのヒートザイクルテストを実施したとこ
ろ1部回で異常を認めた。
パターンも積層板表面の粗さがわざわいしてきれいなも
のは得られなかった。
比較例2 実施例1と同じ紙にエポキシ樹脂(大部化成製YD−0
11)100重量部、アセトン25部、ジシアンジアミ
ド4部、DMF 15部、メチルセロソルブ15部、ヘ
ンシルジメチルアミン0.35部、MEK40部からな
る組成物を含浸し、130℃×10分の条件で乾燥して
プリプレグを得た3このプリプレグを7枚重ね合わせ1
70℃×40分、20 kg / cfの加熱加圧条件
下で積層し、厚さが約1.6鮪の積層板を得た。このも
のの断面を顕微鏡で観察したところ基材である紙の各層
間および表面に実質的に樹脂層を認めなかった。この積
層板を実施例1と同様の粗化、触媒づけ、めっき付けを
通用しビール強度を測定したところ0.5 kg/ c
mであった。
スルーホールめっきのサイクルテストを行ったところ1
5サイクルで異品を認めた。
【図面の簡単な説明】
第1図はアディティブ法による印刷回路基板の製造法の
フローチャー1−である。 Aはセミアディティブ法、Bはフルアディティブ法を示
す。 手続右11正初:(方式) %式% ■、事件の表示 昭和58年特許願第181423号 2、 発明の名称 アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基靜3、 
補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 (0り4)鐘淵化学工業株式会社4、代理人 5、補正命令の日付 昭和59年1月110 6、 補正により増加する発明の数 なし7、補正の対
象 図面 8、補正の内容 別紙のとおり

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)積N坂の少なくとも両表面に実質的に全面積に亘
    って連続した樹脂層を本来的に有する紙基材不飽和ポリ
    エステルまたはエポキシ樹脂積層板の表面に粗化処理を
    施したアディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板
  2. (2)積層板の両表面およびfl(層板を構成する紙基
    材相互間に実質的に全面積に亘って連続した樹脂層を本
    来的に有する紙基材不飽和ポリエステルまたはエポキシ
    樹脂績N板の表面に粗化処理を施した特許請求の範囲第
    1項記載の基板。
  3. (3)表面および基柱間の樹脂層の厚みが5〜100μ
    mの厚みを有する特許請求の範囲第1項または第2項記
    載の基板。
  4. (4) 表面の粗化は化学的および/または物理的に行
    って得られる特許請求の範囲第1項または第2項記載の
    基板。
  5. (5)表面の物理的粗化が主として0.05μm〜10
    μmである特許請求の範囲第1項または第2項記載の基
    板。
  6. (6) 物理的処理を化学的処理に先行させて得られる
    特許請求の範囲第4項記載の基板。
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