JPS6072293A - アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板 - Google Patents
アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板Info
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- JPS6072293A JPS6072293A JP18141383A JP18141383A JPS6072293A JP S6072293 A JPS6072293 A JP S6072293A JP 18141383 A JP18141383 A JP 18141383A JP 18141383 A JP18141383 A JP 18141383A JP S6072293 A JPS6072293 A JP S6072293A
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- resin layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント回路基板に用いられるアディティブ用
積層基板並びにこれを用いた印刷回路基板に関するもの
である。
積層基板並びにこれを用いた印刷回路基板に関するもの
である。
従来の印刷回路基板は銅張り積層板を配線パターンに基
づき不要の胴部分をエツチングするいわゆるサブトラク
ティブ法が主として使われている。
づき不要の胴部分をエツチングするいわゆるサブトラク
ティブ法が主として使われている。
近年、電子機器か軽薄短小化されるに伴い、片面回路基
板から両面板、多層板へとニーズが高まりつ\ある。特
に両面スルーボールめっき以上の多層基板は旧来法のサ
ブトラクティブ法では工程も複雑化し、大量の銅のエツ
チング廃液を出すなど好ましくない結果を招いている。
板から両面板、多層板へとニーズが高まりつ\ある。特
に両面スルーボールめっき以上の多層基板は旧来法のサ
ブトラクティブ法では工程も複雑化し、大量の銅のエツ
チング廃液を出すなど好ましくない結果を招いている。
このような背景から必要な11(1所にだけ回路づけを
しようとする従来法とは逆発想のアディティブ法が近年
見直されてきている。
しようとする従来法とは逆発想のアディティブ法が近年
見直されてきている。
現在実用されているアディティブ法には触媒核となる貴
金属(例えばPd)を配合した積層板にゴム系接着剤を
塗布し、酸化剤で表面粗化して無電解めっきを行うCC
−4法や、普通の積層板にゴム系接着剤を塗布硬化した
後無水クロム酸と硫酸の混合液でゴム表面を粗化し、こ
れに触媒づけ(Pd)を行った後無電解めっきを行うP
A−II法などがある。
金属(例えばPd)を配合した積層板にゴム系接着剤を
塗布し、酸化剤で表面粗化して無電解めっきを行うCC
−4法や、普通の積層板にゴム系接着剤を塗布硬化した
後無水クロム酸と硫酸の混合液でゴム表面を粗化し、こ
れに触媒づけ(Pd)を行った後無電解めっきを行うP
A−II法などがある。
しかしこれらに用いられている積層板自身は何れも紙・
フェノールなど熱硬化性のプリプレグを何枚か積層して
通常30kg/−以上の加圧下でプレス成形される積層
板が使用されている。光学顕微鏡でこの断面を観察する
と基材相互間並びに表面に実質的に全面に亘り連続した
樹脂層が認められない。従来の積層板は上述の如くプレ
ス加工にて製造される為プリプレグとして半硬化してい
る基材中の含浸樹脂はプレス時に積層板から排除され樹
脂量の少ない積層板となっている。そのために積層板自
身の表面樹脂層は本来的に殆ど付いておらず、アディテ
ィブ用としてはそのためにわざわざ表面にゴム系接着剤
などを20〜60μ■1塗布したものが用いられている
。逆にそのために積層板自体のもっている耐熱性、耐薬
品性、難燃性の特性を低下させる原因ともなっている。
フェノールなど熱硬化性のプリプレグを何枚か積層して
通常30kg/−以上の加圧下でプレス成形される積層
板が使用されている。光学顕微鏡でこの断面を観察する
と基材相互間並びに表面に実質的に全面に亘り連続した
樹脂層が認められない。従来の積層板は上述の如くプレ
ス加工にて製造される為プリプレグとして半硬化してい
る基材中の含浸樹脂はプレス時に積層板から排除され樹
脂量の少ない積層板となっている。そのために積層板自
身の表面樹脂層は本来的に殆ど付いておらず、アディテ
ィブ用としてはそのためにわざわざ表面にゴム系接着剤
などを20〜60μ■1塗布したものが用いられている
。逆にそのために積層板自体のもっている耐熱性、耐薬
品性、難燃性の特性を低下させる原因ともなっている。
逆に表面にゴム層または樹脂層を付けない積層板は直接
粗化すると基材のセルロース繊維が露出してめっきの密
度強度低下の原因となり良い基板にはなり難い。
粗化すると基材のセルロース繊維が露出してめっきの密
度強度低下の原因となり良い基板にはなり難い。
一方、従来の積層板の構造とは異なる積層板の特性とそ
の製法が特公昭58−31753および特公昭58−3
1757に各々示されている。本発明者らは同一出願人
の出願に係る上記積層板すなわち両表面ならびに基材相
互間に実質的に全面に亘って連続した樹脂層を有する積
層板の応用についても鋭急研究を行った結果、少なくと
も両表面に実質的に全面積に亘って連続した樹脂層を塗
布などの手段によらず積層板製造時に本来的に有する積
層板は表面を化学的および/または物理的粗化手段を付
加することで、アディティブ用基板として非常に適した
特性を有していることを見出した。
の製法が特公昭58−31753および特公昭58−3
1757に各々示されている。本発明者らは同一出願人
の出願に係る上記積層板すなわち両表面ならびに基材相
互間に実質的に全面に亘って連続した樹脂層を有する積
層板の応用についても鋭急研究を行った結果、少なくと
も両表面に実質的に全面積に亘って連続した樹脂層を塗
布などの手段によらず積層板製造時に本来的に有する積
層板は表面を化学的および/または物理的粗化手段を付
加することで、アディティブ用基板として非常に適した
特性を有していることを見出した。
すなわち、本発明で適用される積層板は本発明と同一出
願人の発明に係る特開昭55−4838等に開示される
如く通常連続法でかつ実質無圧下で良好に形成されるた
め表面樹脂層ならびに基材間の樹脂層の厚みが比較的容
易にコントロールし易く、アディティブ用に適した積層
板が安価に得られる。表面に本来的に実質的に全面積に
亘って連続した樹脂層を有する積層板は従来法の如くゴ
ム系接着剤を塗布することなく、直接表面樹脂層を粗化
することができる。さらに基材相互間に実質的に全面積
に亘り、連続した樹脂層を有する積層板は穴明けを行っ
てもスルーボールの断面には何層も連続した樹脂層があ
るためめっきが従来の積層板に比べてきれいで密着強度
の強固なものが得られるという特徴をも有する。またア
ディティブ法でよく用いられるフルアディティブ法はp
)(12以上のアルカリ下約70℃の高温下に10〜2
0時間と長時間過酷な条件に曝されるが基材間に樹脂層
を形成している本発明の積N坂は基月内への水分の浸透
等に基づく電気的、機械的特性の低下が格段に少なくア
ディティブ用基板として好適の素材であった。
願人の発明に係る特開昭55−4838等に開示される
如く通常連続法でかつ実質無圧下で良好に形成されるた
め表面樹脂層ならびに基材間の樹脂層の厚みが比較的容
易にコントロールし易く、アディティブ用に適した積層
板が安価に得られる。表面に本来的に実質的に全面積に
亘って連続した樹脂層を有する積層板は従来法の如くゴ
ム系接着剤を塗布することなく、直接表面樹脂層を粗化
することができる。さらに基材相互間に実質的に全面積
に亘り、連続した樹脂層を有する積層板は穴明けを行っ
てもスルーボールの断面には何層も連続した樹脂層があ
るためめっきが従来の積層板に比べてきれいで密着強度
の強固なものが得られるという特徴をも有する。またア
ディティブ法でよく用いられるフルアディティブ法はp
)(12以上のアルカリ下約70℃の高温下に10〜2
0時間と長時間過酷な条件に曝されるが基材間に樹脂層
を形成している本発明の積N坂は基月内への水分の浸透
等に基づく電気的、機械的特性の低下が格段に少なくア
ディティブ用基板として好適の素材であった。
第1図に通常実施されるアディティブ法の工程例を示す
。八がセミアディティブ法の例、Bがフルアディティブ
法の例である。本発明の積層板はA、 Bの画法に共に
良好に使用でき優秀な回路基板を製造することができる
。
。八がセミアディティブ法の例、Bがフルアディティブ
法の例である。本発明の積層板はA、 Bの画法に共に
良好に使用でき優秀な回路基板を製造することができる
。
本発明に用いられる表面の粗化方法は特に限定はしない
−。従来使用されている有効な手段等が適用されるが樹
脂の種類ならびにその組成に対応して化学的および/ま
たは物理的手段が選ばれる。
−。従来使用されている有効な手段等が適用されるが樹
脂の種類ならびにその組成に対応して化学的および/ま
たは物理的手段が選ばれる。
化学的表面粗化法としては、例えば不飽和ポリエステル
の場合はアルカリや酸化剤で粗化できるが基材に含浸さ
せた樹脂配合組成中の無機物(Si(h。
の場合はアルカリや酸化剤で粗化できるが基材に含浸さ
せた樹脂配合組成中の無機物(Si(h。
5bz03+ CaCO3+ TiO2,AI (OH
)3.等)を酸やアルカリで溶出または変化させること
による粗化も可能である。また必要に応じて溶剤によっ
て膨潤化の前処理を施すことも効果的である。
)3.等)を酸やアルカリで溶出または変化させること
による粗化も可能である。また必要に応じて溶剤によっ
て膨潤化の前処理を施すことも効果的である。
以上の如き湿式反応だけでなり、S03と空気の混合気
体による乾式エツチングやオゾン分解など気相反応や適
用可能である。さらにこれら種々の化学的処理法の中の
複数の処理法を併用することもできる。化学的処理法で
はミクロな粗化も伴うが極性官能基の導入等によるめっ
きの密着強度を向上させる点で寄与が大きい。
体による乾式エツチングやオゾン分解など気相反応や適
用可能である。さらにこれら種々の化学的処理法の中の
複数の処理法を併用することもできる。化学的処理法で
はミクロな粗化も伴うが極性官能基の導入等によるめっ
きの密着強度を向上させる点で寄与が大きい。
物理的表面粗化手段としては、例えばサンドブラスト、
界面活性剤入りケイ酸アルミニウム系微粉末による表面
研磨洗浄、ホーニング、液体ホーニング、プラズマ表面
粗化法などが用いられる。
界面活性剤入りケイ酸アルミニウム系微粉末による表面
研磨洗浄、ホーニング、液体ホーニング、プラズマ表面
粗化法などが用いられる。
また連続的に積層板を形成するときに表面粗化を連続的
に同時に行うために積層基材の片面または両面に樹脂含
浸基材積層板のカバーシートとして約0.05〜10μ
m、好ましくは0.1〜5 p mの表面粗さをもつ金
M箔例えば電解銅箔面または表面粗化したプラスチツル
フィルムを用いることができる。既述の物理的手段を複
数併用することもできる。
に同時に行うために積層基材の片面または両面に樹脂含
浸基材積層板のカバーシートとして約0.05〜10μ
m、好ましくは0.1〜5 p mの表面粗さをもつ金
M箔例えば電解銅箔面または表面粗化したプラスチツル
フィルムを用いることができる。既述の物理的手段を複
数併用することもできる。
以上述べた物理的粗化方法と化学的粗化法を併用するこ
とも粗化方法として効率的であり、特に前者を後者に先
行させて実施させることは効果的である。マクロな凹凸
面を先に形成し、次に化学的処理で凹凸面をより微細で
複雑なものにし、力・つ極性基導入でめっきの密着強度
を向上させf、lるものと理解される。
とも粗化方法として効率的であり、特に前者を後者に先
行させて実施させることは効果的である。マクロな凹凸
面を先に形成し、次に化学的処理で凹凸面をより微細で
複雑なものにし、力・つ極性基導入でめっきの密着強度
を向上させf、lるものと理解される。
物理的粗化の程度は0.05〜10μm程度が好適であ
る。0.05μm以下だと細かすぎて密着強度が上らず
、また10μm以上の粗化では大きすぎて密着強度に良
い効果をもたらさない。
る。0.05μm以下だと細かすぎて密着強度が上らず
、また10μm以上の粗化では大きすぎて密着強度に良
い効果をもたらさない。
無電解銅めっき(化学めっき)は通當スル−ホール後パ
ラジウム等の触媒づけを行った後、硫酸銅ホルマリン系
の化学銅めっき液に浸漬する等の通常の無電解めっきが
適用される。めっき時間を短縮するために化学銅めっき
を薄くつけた後で通常用いられる電解銅めっきが良好に
用いられる。
ラジウム等の触媒づけを行った後、硫酸銅ホルマリン系
の化学銅めっき液に浸漬する等の通常の無電解めっきが
適用される。めっき時間を短縮するために化学銅めっき
を薄くつけた後で通常用いられる電解銅めっきが良好に
用いられる。
また本発明に用いられる表面および基材間に実質的に全
面積に亘り連続した樹脂層を有する積層板はパンチング
し易く、さらにパンチング面に欠けもなく、はぼ円柱状
の穴があくなど良好なためスルーホールめっきも従来の
積層板に比べて極めて良好に実施可能である。さらに基
材相互間に存在する樹脂層の影響でめっき付着性も良好
である。
面積に亘り連続した樹脂層を有する積層板はパンチング
し易く、さらにパンチング面に欠けもなく、はぼ円柱状
の穴があくなど良好なためスルーホールめっきも従来の
積層板に比べて極めて良好に実施可能である。さらに基
材相互間に存在する樹脂層の影響でめっき付着性も良好
である。
本発明に用いられる積層板の表面並びに基材間の樹脂層
の厚みは5〜100μmが好適である。好ましくは10
〜80μm、さらに好ましくは15〜60μmである。
の厚みは5〜100μmが好適である。好ましくは10
〜80μm、さらに好ましくは15〜60μmである。
5μIrl以下だと上述の効果が少なく、また100μ
m11以上だと基板自身の機械的強度が悪くなってくる
。これらの樹脂層、特に層間樹脂層は反射型光学顕微鏡
で容易に観察し得る。
m11以上だと基板自身の機械的強度が悪くなってくる
。これらの樹脂層、特に層間樹脂層は反射型光学顕微鏡
で容易に観察し得る。
以下に実施の例示を行うが本発明はこれに限定されるも
のではない。
のではない。
実施例1
市販の不飽和ポリエステル樹脂(成田薬品製、ポリマー
ル6304)1.00重量部とクメンハイドロパーオキ
サイド1重量部からなる樹脂液を厚さが270μm2坪
ff1150g/nfのクラフト紙に含浸し、各々約1
朋になる程度に塗布し、これらを6枚重ねてさらに両表
面に厚さが100μInのアルミニウム箔を重ね、次い
でクリアランスが1800μmに設定されたロール間を
通して100℃×30分、次ぎに150℃×30分の条
件で硬化させ、次いでアルミニウム箔を剥削し厚さが約
1.6mの積層板を得た。
ル6304)1.00重量部とクメンハイドロパーオキ
サイド1重量部からなる樹脂液を厚さが270μm2坪
ff1150g/nfのクラフト紙に含浸し、各々約1
朋になる程度に塗布し、これらを6枚重ねてさらに両表
面に厚さが100μInのアルミニウム箔を重ね、次い
でクリアランスが1800μmに設定されたロール間を
通して100℃×30分、次ぎに150℃×30分の条
件で硬化させ、次いでアルミニウム箔を剥削し厚さが約
1.6mの積層板を得た。
そしてこのものは両表面並びに基材間に約20μmの樹
脂層を有していた。
脂層を有していた。
この積層板を、珪酸アルミニウムを主体とする鉱物系微
粉末(粒径0.3μm〜5μm)で両表面を研磨した後
、無水クロム酸、硫酸の混酸を用いて55℃で約30分
間処理したところ、表面は緻密に粗化された積層板が得
られた。
粉末(粒径0.3μm〜5μm)で両表面を研磨した後
、無水クロム酸、硫酸の混酸を用いて55℃で約30分
間処理したところ、表面は緻密に粗化された積層板が得
られた。
5loan社のDek tak表面粗さ計で測定したと
ころ0.05〜5μmの粗さのものが高密度に増えてい
ることが確認できた。
ころ0.05〜5μmの粗さのものが高密度に増えてい
ることが確認できた。
このものに0PC−80(奥野製薬製キャタリスト)を
主成分とする触媒液に7分浸漬後、or’c−555(
奥野製薬製アクセレーター)を主成分とする活性化剤に
10分浸漬後、水洗してopc−750、A、B液(奥
野盟薬製、化学めっき液)を主成分とするめっき液に2
5分間空気攪拌下に浸漬して約0.5μIflの銅めっ
きをつけた後、電解銅めっきで約40μlHにつけた。
主成分とする触媒液に7分浸漬後、or’c−555(
奥野製薬製アクセレーター)を主成分とする活性化剤に
10分浸漬後、水洗してopc−750、A、B液(奥
野盟薬製、化学めっき液)を主成分とするめっき液に2
5分間空気攪拌下に浸漬して約0.5μIflの銅めっ
きをつけた後、電解銅めっきで約40μlHにつけた。
JIS C6481による銅箔の剥離強度は1.6 k
g / cmであり、アディティブ用積層扱として好適
であることがわかった。
g / cmであり、アディティブ用積層扱として好適
であることがわかった。
以上の処理に基づく粗化積15板に回路パターンに基づ
く穴をあけ、同様の触媒づけ、めっき付けを行った後メ
ンキレジストでパターン印刷を行い、OPCカッパー(
奥野製薬製、銅めっき液)A、B。
く穴をあけ、同様の触媒づけ、めっき付けを行った後メ
ンキレジストでパターン印刷を行い、OPCカッパー(
奥野製薬製、銅めっき液)A、B。
C液を主成分とする銅めっき液で約40μmの銅めっき
を行ったところ、スルーホールめっきもパターンめっき
もレジストに忠実なパターンが得られた。レジストを除
去後回路以外の銅を除去するためクイックエッチすると
ファインな回路基板が得られた。
を行ったところ、スルーホールめっきもパターンめっき
もレジストに忠実なパターンが得られた。レジストを除
去後回路以外の銅を除去するためクイックエッチすると
ファインな回路基板が得られた。
なおこの回路基板のスルーボールめっき部分のテストを
MIL202E/107に基づいて一65°Cと125
℃のサイクルテストを行ったところ50ザイクルでもス
ルーホール接続抵抗に異常は認められなかった。
MIL202E/107に基づいて一65°Cと125
℃のサイクルテストを行ったところ50ザイクルでもス
ルーホール接続抵抗に異常は認められなかった。
実施例2
エポキシ樹脂(シェル、エピコー)82B)100重量
部、メチルテトラヒドロフタル酸無水物(日立化成HN
−2200) 80部、ジメチルベンジルアミン0.1
部を実施例1で用いた紙6枚に含浸し、同様の操作を経
て150°C×60分の条件で硬化させ、アルミ箔を剥
離して約1.6顛の積層板を得た。このものの表面並び
に基材相互間に約20μmの連続した樹脂層を有する積
層板を得た。
部、メチルテトラヒドロフタル酸無水物(日立化成HN
−2200) 80部、ジメチルベンジルアミン0.1
部を実施例1で用いた紙6枚に含浸し、同様の操作を経
て150°C×60分の条件で硬化させ、アルミ箔を剥
離して約1.6顛の積層板を得た。このものの表面並び
に基材相互間に約20μmの連続した樹脂層を有する積
層板を得た。
このものに実施例1と同様の粗化触媒づげ、化学銅めっ
き、電解銅めっきを施した。JIS C(i481によ
るこのもののビール強度は1.4 kg / cmであ
った。この粗化された積層板を用いて実施例1と同様の
アディティブ法で基板の回路化を試みたところパターン
並びにスルーボールめっきのきれいな回路基板を得た。
き、電解銅めっきを施した。JIS C(i481によ
るこのもののビール強度は1.4 kg / cmであ
った。この粗化された積層板を用いて実施例1と同様の
アディティブ法で基板の回路化を試みたところパターン
並びにスルーボールめっきのきれいな回路基板を得た。
実施例1と同じヒートザイクルテストを行ったところ5
0サイクルでもスルーホール接続抵抗に異常は認められ
なかった。
0サイクルでもスルーホール接続抵抗に異常は認められ
なかった。
実施例3
実施例1と同様に紙・不飽和ポリエステルからなる積層
板を実質的無圧下で連続的に製造した。
板を実質的無圧下で連続的に製造した。
すなわち実施例1と同様の樹脂含浸紙を6枚重ね合わせ
て、加熱硬化するに際し、表面の粗化は35μmの電解
銅箔を両表面にあてがいクリアランスが1700 mμ
のロール間を通過させ100℃×30分後150°cx
30’分の条件で硬化させた加熱硬化炉から出てきた直
後に両表面の銅箔を剥離することで両表面には電解銅箔
の粗面が忠実に転写された積層板が得られた。この積層
板の断面を光学顕微鏡で観察したところ表面ならびに基
材間に約30μの連続した樹脂層を有していた。
て、加熱硬化するに際し、表面の粗化は35μmの電解
銅箔を両表面にあてがいクリアランスが1700 mμ
のロール間を通過させ100℃×30分後150°cx
30’分の条件で硬化させた加熱硬化炉から出てきた直
後に両表面の銅箔を剥離することで両表面には電解銅箔
の粗面が忠実に転写された積層板が得られた。この積層
板の断面を光学顕微鏡で観察したところ表面ならびに基
材間に約30μの連続した樹脂層を有していた。
この積層板をさらに15%Na01l水溶液に60℃で
1時間&漬粗化を行った後実施例1と同様の触媒づけ、
めっき付けを行った後JIS C6481のビールテス
トを行ったところ1.6 kg / cmであった。
1時間&漬粗化を行った後実施例1と同様の触媒づけ、
めっき付けを行った後JIS C6481のビールテス
トを行ったところ1.6 kg / cmであった。
この素材を用いるとスルーホールめっきもパターンめっ
きもきれいに行うことができた。
きもきれいに行うことができた。
比較例1
実施例1で用いた樹脂液を上方から流下させて紙に含浸
し、樹脂付着含浸紙を得、このものを7枚重ねて100
mμのアルミ箔にはさみ1800μmのスリットを通し
100℃×30分加熱後、プレスで150℃×30分硬
化させて積層板を得た。このものの断面を顕微鏡で見た
ところ実質的に全面に亘り連続した樹脂層は表面および
紙基材間にも認められず基材は一体化してしまっていた
。
し、樹脂付着含浸紙を得、このものを7枚重ねて100
mμのアルミ箔にはさみ1800μmのスリットを通し
100℃×30分加熱後、プレスで150℃×30分硬
化させて積層板を得た。このものの断面を顕微鏡で見た
ところ実質的に全面に亘り連続した樹脂層は表面および
紙基材間にも認められず基材は一体化してしまっていた
。
このものを用いて実施例1同様の粗化を行った後めっき
を行ったところ粗化でセルロースが露出してきたため、
めっきのビール強度は0.5kg/cmであった。スル
ーホールめっきのヒートザイクルテストを実施したとこ
ろ1部回で異常を認めた。
を行ったところ粗化でセルロースが露出してきたため、
めっきのビール強度は0.5kg/cmであった。スル
ーホールめっきのヒートザイクルテストを実施したとこ
ろ1部回で異常を認めた。
パターンも積層板表面の粗さがわざわいしてきれいなも
のは得られなかった。
のは得られなかった。
比較例2
実施例1と同じ紙にエポキシ樹脂(大部化成製YD−0
11)100重量部、アセトン25部、ジシアンジアミ
ド4部、DMF 15部、メチルセロソルブ15部、ヘ
ンシルジメチルアミン0.35部、MEK40部からな
る組成物を含浸し、130℃×10分の条件で乾燥して
プリプレグを得た3このプリプレグを7枚重ね合わせ1
70℃×40分、20 kg / cfの加熱加圧条件
下で積層し、厚さが約1.6鮪の積層板を得た。このも
のの断面を顕微鏡で観察したところ基材である紙の各層
間および表面に実質的に樹脂層を認めなかった。この積
層板を実施例1と同様の粗化、触媒づけ、めっき付けを
通用しビール強度を測定したところ0.5 kg/ c
mであった。
11)100重量部、アセトン25部、ジシアンジアミ
ド4部、DMF 15部、メチルセロソルブ15部、ヘ
ンシルジメチルアミン0.35部、MEK40部からな
る組成物を含浸し、130℃×10分の条件で乾燥して
プリプレグを得た3このプリプレグを7枚重ね合わせ1
70℃×40分、20 kg / cfの加熱加圧条件
下で積層し、厚さが約1.6鮪の積層板を得た。このも
のの断面を顕微鏡で観察したところ基材である紙の各層
間および表面に実質的に樹脂層を認めなかった。この積
層板を実施例1と同様の粗化、触媒づけ、めっき付けを
通用しビール強度を測定したところ0.5 kg/ c
mであった。
スルーホールめっきのサイクルテストを行ったところ1
5サイクルで異品を認めた。
5サイクルで異品を認めた。
第1図はアディティブ法による印刷回路基板の製造法の
フローチャー1−である。 Aはセミアディティブ法、Bはフルアディティブ法を示
す。 手続右11正初:(方式) %式% ■、事件の表示 昭和58年特許願第181423号 2、 発明の名称 アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基靜3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 (0り4)鐘淵化学工業株式会社4、代理人 5、補正命令の日付 昭和59年1月110 6、 補正により増加する発明の数 なし7、補正の対
象 図面 8、補正の内容 別紙のとおり
フローチャー1−である。 Aはセミアディティブ法、Bはフルアディティブ法を示
す。 手続右11正初:(方式) %式% ■、事件の表示 昭和58年特許願第181423号 2、 発明の名称 アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基靜3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 (0り4)鐘淵化学工業株式会社4、代理人 5、補正命令の日付 昭和59年1月110 6、 補正により増加する発明の数 なし7、補正の対
象 図面 8、補正の内容 別紙のとおり
Claims (6)
- (1)積N坂の少なくとも両表面に実質的に全面積に亘
って連続した樹脂層を本来的に有する紙基材不飽和ポリ
エステルまたはエポキシ樹脂積層板の表面に粗化処理を
施したアディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板
。 - (2)積層板の両表面およびfl(層板を構成する紙基
材相互間に実質的に全面積に亘って連続した樹脂層を本
来的に有する紙基材不飽和ポリエステルまたはエポキシ
樹脂績N板の表面に粗化処理を施した特許請求の範囲第
1項記載の基板。 - (3)表面および基柱間の樹脂層の厚みが5〜100μ
mの厚みを有する特許請求の範囲第1項または第2項記
載の基板。 - (4) 表面の粗化は化学的および/または物理的に行
って得られる特許請求の範囲第1項または第2項記載の
基板。 - (5)表面の物理的粗化が主として0.05μm〜10
μmである特許請求の範囲第1項または第2項記載の基
板。 - (6) 物理的処理を化学的処理に先行させて得られる
特許請求の範囲第4項記載の基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18141383A JPS6072293A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18141383A JPS6072293A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6072293A true JPS6072293A (ja) | 1985-04-24 |
Family
ID=16100325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18141383A Pending JPS6072293A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | アディティブ用基板並びにこれを用いた回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6072293A (ja) |
-
1983
- 1983-09-28 JP JP18141383A patent/JPS6072293A/ja active Pending
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