JPS6071553A - 超小形レンズの製造方法 - Google Patents
超小形レンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS6071553A JPS6071553A JP59115622A JP11562284A JPS6071553A JP S6071553 A JPS6071553 A JP S6071553A JP 59115622 A JP59115622 A JP 59115622A JP 11562284 A JP11562284 A JP 11562284A JP S6071553 A JPS6071553 A JP S6071553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- glass plate
- lenses
- refractive index
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLJMHXGZUJRTL-UHFFFAOYSA-L calcium;n-cyclohexylsulfamate Chemical compound [Ca+2].[O-]S(=O)(=O)NC1CCCCC1.[O-]S(=O)(=O)NC1CCCCC1 UKLJMHXGZUJRTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);thallium(1+) Chemical compound [O-2].[Tl+].[Tl+] WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003438 thallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
- G02B6/1245—Geodesic lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Focusing (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス板内に埋込まれた超小形レンズを組合わ
せて1つの超小形レンズを製造する方法に関するもので
ある。超小形レンズはl mmより小さい直径を持つレ
ンズ、特に20乃至100ミクロンの直径をもつレンズ
を意味する。これらの寸法のレンズは例えば光伝送路を
光源に結合するための又は光伝送路同志をお互に結合す
るための結合素子に使われる。レンズは一定の屈折率を
もつ材料から作るか、別法としては成る屈折率変造プロ
フィルをもっている。
せて1つの超小形レンズを製造する方法に関するもので
ある。超小形レンズはl mmより小さい直径を持つレ
ンズ、特に20乃至100ミクロンの直径をもつレンズ
を意味する。これらの寸法のレンズは例えば光伝送路を
光源に結合するための又は光伝送路同志をお互に結合す
るための結合素子に使われる。レンズは一定の屈折率を
もつ材料から作るか、別法としては成る屈折率変造プロ
フィルをもっている。
上記目的に使える球レンズの製造方法は既知である。
米国特許明細書筒8,666.847号は先ず所望直径
の高屈折率をもった均質ガラス球を作る方法を記載して
いる。これらの球はタリウム酸化物の含有量の高いもの
である。前記球は溶融塩浴中に浸され、前記塩浴は高温
に加熱されかつカリウムイオンを含んでいる。タリウム
イオンとカリウムイオンは拡散により置換される。こう
することにより球の直径上に1つの屈折率ブpフィルが
出来る。
の高屈折率をもった均質ガラス球を作る方法を記載して
いる。これらの球はタリウム酸化物の含有量の高いもの
である。前記球は溶融塩浴中に浸され、前記塩浴は高温
に加熱されかつカリウムイオンを含んでいる。タリウム
イオンとカリウムイオンは拡散により置換される。こう
することにより球の直径上に1つの屈折率ブpフィルが
出来る。
この方法により出来るプロフィルは拡散により作られ、
かつ一般に所望のプロフィルに近似したものとなる。
かつ一般に所望のプロフィルに近似したものとなる。
ドイツ国特許明細書第2,728,972号はイオン交
換法に加えて、球レンズの製造方法を記載している。こ
の方法は、非常に小さい直径のカラス核を蒸気相から酸
化物の混合物の層で被覆せしめ、前記層の屈折率は直径
に対して減少するものとなした如き方法である。二酸化
チタンと二酸化ケイ素の混合物の前記層は酸素、四塩化
チタン、及び四塩化ケイ素を含む雰囲気から作ることが
できる。その際TiO!、の割合は被覆作業中連続的に
減少させる。
換法に加えて、球レンズの製造方法を記載している。こ
の方法は、非常に小さい直径のカラス核を蒸気相から酸
化物の混合物の層で被覆せしめ、前記層の屈折率は直径
に対して減少するものとなした如き方法である。二酸化
チタンと二酸化ケイ素の混合物の前記層は酸素、四塩化
チタン、及び四塩化ケイ素を含む雰囲気から作ることが
できる。その際TiO!、の割合は被覆作業中連続的に
減少させる。
実除上、数個の球を同時に被覆するときその被覆作業の
間に球の衝突するのを防止することは殆んど不可能であ
ることが分った。上記衝突の結果、層はくもり、レンズ
の透明度は減少する。
間に球の衝突するのを防止することは殆んど不可能であ
ることが分った。上記衝突の結果、層はくもり、レンズ
の透明度は減少する。
既知の方法は多数の個別のガラス球を供給する。
本文冒頭に記載した形式の結合素子に使用するためには
光フアイバーコア程度の直径をもった球が必要である。
光フアイバーコア程度の直径をもった球が必要である。
100ミクロンより小ざい直径をもったかかる球はその
取扱いがめんどうであり、かつ球を前記目的に利用する
場合には特殊工具が必要となる。
取扱いがめんどうであり、かつ球を前記目的に利用する
場合には特殊工具が必要となる。
本発明の目的は簡単に取扱うことのできる超小形レンズ
の製造方法を提供することにある。
の製造方法を提供することにある。
本発明によれば、上記目的は、回転対称形の凹部をガラ
ス板に作りその後前記四部が完全に充填されるまでガラ
ス質層を前記ガラス板上に蒸着法により沈着させ、その
後この被覆されたガラス板を元の厚さ値又はそれより小
さい厚さ値まで減少させることにより達成される。
ス板に作りその後前記四部が完全に充填されるまでガラ
ス質層を前記ガラス板上に蒸着法により沈着させ、その
後この被覆されたガラス板を元の厚さ値又はそれより小
さい厚さ値まで減少させることにより達成される。
本発明法によれば、所望形状の屈折率変遷プロフィルを
もつ超小形レンズも作ることができる。
もつ超小形レンズも作ることができる。
そのためには次第に増大する屈折率をもつガラス質層を
ガラス板上に蒸着させ、これらの層は例えばドーピング
させた石英ガラスから成るものとする。このようにすれ
ば、所望の屈折率変遷プ9フィル、例えば放@線的変遭
プ四フィルを得ることができる0ガラス板は例えば石英
ガラスから成り、又は普通力゛ラスから成る。
ガラス板上に蒸着させ、これらの層は例えばドーピング
させた石英ガラスから成るものとする。このようにすれ
ば、所望の屈折率変遷プ9フィル、例えば放@線的変遭
プ四フィルを得ることができる0ガラス板は例えば石英
ガラスから成り、又は普通力゛ラスから成る。
回転対称形の四部は種々の手法でガラス板に作ることが
できる。
できる。
前記凹部はガラス板にドリル加工により又はエツチング
により作ることができる。エツチングにより作るときに
は、光抵抗性マスクを先ずガラス板上に配置し、次いで
エツチングを行なう。エツチングは湿式化学法か又はプ
ラズマエツチング法により行なうことができる。エツチ
ングは全方向同じに生ずるものである点に注意すべきで
ある。
により作ることができる。エツチングにより作るときに
は、光抵抗性マスクを先ずガラス板上に配置し、次いで
エツチングを行なう。エツチングは湿式化学法か又はプ
ラズマエツチング法により行なうことができる。エツチ
ングは全方向同じに生ずるものである点に注意すべきで
ある。
次に光抵抗体を除失する。他の可能な方法はル−ザを用
いて局部的に強く加熱して材料な蒸発させることによる
焼き除きによって四部を作ることである。他の方法は型
を用いて軟化したガラスに高温で凹部な加圧成形するこ
とである。
いて局部的に強く加熱して材料な蒸発させることによる
焼き除きによって四部を作ることである。他の方法は型
を用いて軟化したガラスに高温で凹部な加圧成形するこ
とである。
放物線的屈折率変遷プロフィルをもつ超小形レンズを作
るためには生球状四部をもつカラス板石・使用するのが
有利である。
るためには生球状四部をもつカラス板石・使用するのが
有利である。
本発明法の後続の工程では、ガラス質層をガラス板上に
蒸気相から沈着させる。この沈着は化学蒸着法により行
なうことができる。蒸気相の組成は一定の屈折率をもつ
レンズを製造するときには変化しない。適当な材料は例
えば5i8N、である。
蒸気相から沈着させる。この沈着は化学蒸着法により行
なうことができる。蒸気相の組成は一定の屈折率をもつ
レンズを製造するときには変化しない。適当な材料は例
えば5i8N、である。
屈折率変遷プロフィルをもつレンズの製造アは、ドーピ
ング材料の量が連続的に増している石英ガラス層を、最
後の層で所望の屈折率に達するまで、互に重ねて沈着さ
せる。得るべき屈折率差の値は可能なドーピング材料の
選択を限定するファクターとなる。例えば石英ドーピン
グ材料として使うことができ、かつ2程度の屈折率をも
つSi、N4、sb、o、その他の材料が球レンズの製
造に適していることが分った。
ング材料の量が連続的に増している石英ガラス層を、最
後の層で所望の屈折率に達するまで、互に重ねて沈着さ
せる。得るべき屈折率差の値は可能なドーピング材料の
選択を限定するファクターとなる。例えば石英ドーピン
グ材料として使うことができ、かつ2程度の屈折率をも
つSi、N4、sb、o、その他の材料が球レンズの製
造に適していることが分った。
理想的な球レンズ(ルネベルクレンズ)は的な屈折率変
遷プロフーfルを必要とする。このレンズはr=Qの中
心で屈折率N=V’2をもち、r=aでn=1の屈折率
をもつ。この場合aは球の半径である。屈折率n=1の
ガラスは無いので、n=no〔2−(蚤〕2Jをもつレ
ンズを目指している。こ−でn。= 1.45は石英ガ
ラスの屈折率である。この場合、球の中心でn = 2
.05 、縁でn = 1.45となる。
遷プロフーfルを必要とする。このレンズはr=Qの中
心で屈折率N=V’2をもち、r=aでn=1の屈折率
をもつ。この場合aは球の半径である。屈折率n=1の
ガラスは無いので、n=no〔2−(蚤〕2Jをもつレ
ンズを目指している。こ−でn。= 1.45は石英ガ
ラスの屈折率である。この場合、球の中心でn = 2
.05 、縁でn = 1.45となる。
本発明によれば、前記層はガス相からいわゆる非等温プ
ラズマ−0VD法により沈着せしめるのが好適である。
ラズマ−0VD法により沈着せしめるのが好適である。
非等温プラズマ−GVD法はこ\では電子のみが高連動
エネルギーをもっている如きいわゆる低温プラズマを使
用する方法を意味するものと解釈する。かかるプラズマ
を用いると、熱的に反応しないガス混合物を反応させる
ことすら可能である。更にガラスInは幾分低温のガス
相から非等温POVD法により直接沈着させ得ることが
分った。従ってこの方法では、ガラススツ) (5oo
t )層を沈着させる手法で必要とするガラス化を目的
とした後続の加熱作業は省略することができる。前記方
法を使用すると、沈着を比較的低い温度、即ち室温と8
00°C間の温度で行なうときはガラス板の材料の熱膨
張率と沈着層の熱膨張率の差は害を与える程の大きさと
はならない。
エネルギーをもっている如きいわゆる低温プラズマを使
用する方法を意味するものと解釈する。かかるプラズマ
を用いると、熱的に反応しないガス混合物を反応させる
ことすら可能である。更にガラスInは幾分低温のガス
相から非等温POVD法により直接沈着させ得ることが
分った。従ってこの方法では、ガラススツ) (5oo
t )層を沈着させる手法で必要とするガラス化を目的
とした後続の加熱作業は省略することができる。前記方
法を使用すると、沈着を比較的低い温度、即ち室温と8
00°C間の温度で行なうときはガラス板の材料の熱膨
張率と沈着層の熱膨張率の差は害を与える程の大きさと
はならない。
被覆したガラス板の厚さを元の厚さ値又はそれより小さ
い厚さ値に減少させることは例えば研削及び、又は研磨
加工により行なう。
い厚さ値に減少させることは例えば研削及び、又は研磨
加工により行なう。
こうして作った2つのレンズは次に、平らな側面でお互
を重ね合わせるようにして埋込まれたレンズを配置する
ことにより1つのレンズに組合わせる。
を重ね合わせるようにして埋込まれたレンズを配置する
ことにより1つのレンズに組合わせる。
以下、図に基づき本発明を実施例につき詳述する。
例I
C02レーザを用いて、70ミクロンの直径の半球状凹
部2,8.4が石英板1 (80mtn、 80wm。
部2,8.4が石英板1 (80mtn、 80wm。
1 am厚さ)に作られる(第1図)。
次にこの半球状の孔を有する板1は反応管51内に置か
れる(第5図)。反応管51は電気炉52内に貨かれる
。前記電気炉内でマイクロ波共振子58は反応管に沿っ
て往復動することができる。このとき55ミクロン厚さ
をもっSi、N、の層6が非等温プラズマによりガス相
から沈着せしめられる。この沈着の間前記板lは摂氏数
百度の温15度をもつ。反応管51中の圧力はほぼ6ミ
リバールであった。5ict、とNH8を含むガス混合
物を使用した。反応ガス量は0℃、1oooミリバール
におけるCm”/+ (即ちseam ニスタンダート
・キュービック:センチメートル・パー・ミニット)の
単位で測定した。これらのガス量は5iat、では10
sccm % Nogiは0乃至30 secmであ
った。
れる(第5図)。反応管51は電気炉52内に貨かれる
。前記電気炉内でマイクロ波共振子58は反応管に沿っ
て往復動することができる。このとき55ミクロン厚さ
をもっSi、N、の層6が非等温プラズマによりガス相
から沈着せしめられる。この沈着の間前記板lは摂氏数
百度の温15度をもつ。反応管51中の圧力はほぼ6ミ
リバールであった。5ict、とNH8を含むガス混合
物を使用した。反応ガス量は0℃、1oooミリバール
におけるCm”/+ (即ちseam ニスタンダート
・キュービック:センチメートル・パー・ミニット)の
単位で測定した。これらのガス量は5iat、では10
sccm % Nogiは0乃至30 secmであ
った。
プラズマは2.45 GH2,の周波数をもつマイクロ
波共振子により発生せしめた。被覆6は1000個の個
別の層からm成されており、各層は0.085ミクロン
厚さであった(第2図)。
波共振子により発生せしめた。被覆6は1000個の個
別の層からm成されており、各層は0.085ミクロン
厚さであった(第2図)。
図中にはこれらの層のうちの数層のみを示している。
その後、石英ガラス板1の厚さは元の厚さにまで研曙す
ることにより減少せしめる。この結果、一定の屈折率を
もつ半球状レンズ(7,8,9)ができる。これらのレ
ンズは石英ガラス中に合体している(第8図)。2個の
石英ガラス板をお互に締め合わせて、1つ又はそれ以上
の球レンズ10を石英ガラス1l−11A内に埋込んだ
状態となす(第4a図)。片方の側面を研磨することに
よって、レンズ1oと石英ガラス円盤11の表面間の距
離をレンズ10の焦点距離に一致するようになすことが
できる。こうすると円盤11の表面は光源方位の優れた
基準面となる。もし石英板を元の厚さより小さい厚さま
で研磨すれば、焦点距離を半球状孔の曲率半径とレンズ
材料の屈折率に応じて変化させることのできる平たいレ
ンズを作ることができる(第4b図)。
ることにより減少せしめる。この結果、一定の屈折率を
もつ半球状レンズ(7,8,9)ができる。これらのレ
ンズは石英ガラス中に合体している(第8図)。2個の
石英ガラス板をお互に締め合わせて、1つ又はそれ以上
の球レンズ10を石英ガラス1l−11A内に埋込んだ
状態となす(第4a図)。片方の側面を研磨することに
よって、レンズ1oと石英ガラス円盤11の表面間の距
離をレンズ10の焦点距離に一致するようになすことが
できる。こうすると円盤11の表面は光源方位の優れた
基準面となる。もし石英板を元の厚さより小さい厚さま
で研磨すれば、焦点距離を半球状孔の曲率半径とレンズ
材料の屈折率に応じて変化させることのできる平たいレ
ンズを作ることができる(第4b図)。
例2
別の実験で、屈折率が段階的に変遷するレンズいわゆる
ルネベルグ(Luneberg )レンズを作った。半
球状凹部は例1に記載したのと同じ手法で作った。被覆
作業、圧力、温度などの実験条件も例1のものと同じに
し、相違点は使用ガスの種類と、そのガスの流iについ
てである。即ち、5in4゜NH8及びN、Oを使用し
、ガス流量は下記の如くであった。
ルネベルグ(Luneberg )レンズを作った。半
球状凹部は例1に記載したのと同じ手法で作った。被覆
作業、圧力、温度などの実験条件も例1のものと同じに
し、相違点は使用ガスの種類と、そのガスの流iについ
てである。即ち、5in4゜NH8及びN、Oを使用し
、ガス流量は下記の如くであった。
SiH,: 10 SCCm 、実験期間中一定とする
。
。
NH8: 0〜30 secm 、実験期間中増加して
いく。
いく。
N、O: 50〜o seam 、実験期間中減少して
いく。
いく。
一定のSiH4をもつガス相中のNとOの比は沈着層中
のsio、 −5i8N、の比を決定し、それ故屈折率
を決定する。放物線的に変遷する屈折率のブo y イ
/l/ (Parabolic refractive
1ndex profile )が得られた。層の厚
さとその後の研磨工程は例1のものと同じであった。
のsio、 −5i8N、の比を決定し、それ故屈折率
を決定する。放物線的に変遷する屈折率のブo y イ
/l/ (Parabolic refractive
1ndex profile )が得られた。層の厚
さとその後の研磨工程は例1のものと同じであった。
本発明は更に光源とレンズを有する結合素子にも関して
おり、この光源は支持体に固定され、この支持体はレン
ズな入れたキャップを備える。本発明によるカラス板内
に埋込まれかつ非常に小さな寸法をもつ超小形レンズは
最も簡単な手法で光源に対して前記キャップ内に配置で
きる。本発明による結合素子の1実施例を第6図に略示
している。ヒートシンクとして働く銅ブロック62は金
属支持部材61上に置く。レーザダイオード68はブロ
ック62上に取付ける。更に、支持体61は2つのガラ
ス供給孔部材64.65を有し、これらの部材中には接
続ピン66.67を配置し、これらのピンは夫々リード
線68と69を経てレーザダイオード63と銅ブロック
62に接続している。更に、前記素子はキャップ70と
容器71をもつ。ガラス板72は例えば接着剤によりキ
ャップ中に固定するガラス板72は球レンズ78をもち
、このレンズ78は、レンズ中心がレーザダ整列させる
。
おり、この光源は支持体に固定され、この支持体はレン
ズな入れたキャップを備える。本発明によるカラス板内
に埋込まれかつ非常に小さな寸法をもつ超小形レンズは
最も簡単な手法で光源に対して前記キャップ内に配置で
きる。本発明による結合素子の1実施例を第6図に略示
している。ヒートシンクとして働く銅ブロック62は金
属支持部材61上に置く。レーザダイオード68はブロ
ック62上に取付ける。更に、支持体61は2つのガラ
ス供給孔部材64.65を有し、これらの部材中には接
続ピン66.67を配置し、これらのピンは夫々リード
線68と69を経てレーザダイオード63と銅ブロック
62に接続している。更に、前記素子はキャップ70と
容器71をもつ。ガラス板72は例えば接着剤によりキ
ャップ中に固定するガラス板72は球レンズ78をもち
、このレンズ78は、レンズ中心がレーザダ整列させる
。
本発明による方法は下記の利点をもつ:(1) レンズ
は、簡単に取扱うことができるが実際の使用のためには
密閉した結合素子内に置くことのできる窓ガラ東向に自
動的に合体されている。
は、簡単に取扱うことができるが実際の使用のためには
密閉した結合素子内に置くことのできる窓ガラ東向に自
動的に合体されている。
(2)実質的に任意の形状をもつ非常に精密な屈折率の
変遷プロフィルをOVD処理法、特に非等温プラズマO
VD式沈着処理法により作ることができる。
変遷プロフィルをOVD処理法、特に非等温プラズマO
VD式沈着処理法により作ることができる。
(81多数の凹部、それ故超小形しンズ全1つのガラス
板に作ることができる。
板に作ることができる。
(4〕 任意の所望の形状と屈折率変遷プロフィルをも
つ回転対称形のレンズを本発明法により作ることができ
る。
つ回転対称形のレンズを本発明法により作ることができ
る。
第1図は生球状凹部をもつ石英ガラス板の一部の横断面
図、 第2図は被覆した板の横断面図、 第8図は仕上げ研磨後の第2図に示す板の横断面図、 第4a図は仕上げた球レンズの横断面図、第4b図は仕
上げた平たい形状のレンズ、第5図は被覆装置の概略図
、 第6図は結合素子の概略図である。 1・・・石英板、 2.L4・・・半球状レンズ6・・
・層、7.8#9・・・半球状レンズ10・・・球レン
ズ 1l−11A・・・石英ガラス51・・・反応管
52・・・電気炉 53・・・マイクロ波共振子61・・・支持体62・・
・銅ブロック 68・・・レーザダイオード64.65
・・・ガラス供給孔部材 66.67・・・接続ピン 68.69・・・リード線
70・・・キャップ 71・・・容器 72・・・カラス板 78・・・レンズ。 第1頁の続き 0発 明 者 ギオク・ディアン・コ ニ 0発 明 者 キュツペルス・ディー チル オランダ国アインドーフエン、ピーチル ツエーマンシ
ュトラート6 ドイツ連邦共和国 5100 アーヒエン モンハイム
ザレー7
図、 第2図は被覆した板の横断面図、 第8図は仕上げ研磨後の第2図に示す板の横断面図、 第4a図は仕上げた球レンズの横断面図、第4b図は仕
上げた平たい形状のレンズ、第5図は被覆装置の概略図
、 第6図は結合素子の概略図である。 1・・・石英板、 2.L4・・・半球状レンズ6・・
・層、7.8#9・・・半球状レンズ10・・・球レン
ズ 1l−11A・・・石英ガラス51・・・反応管
52・・・電気炉 53・・・マイクロ波共振子61・・・支持体62・・
・銅ブロック 68・・・レーザダイオード64.65
・・・ガラス供給孔部材 66.67・・・接続ピン 68.69・・・リード線
70・・・キャップ 71・・・容器 72・・・カラス板 78・・・レンズ。 第1頁の続き 0発 明 者 ギオク・ディアン・コ ニ 0発 明 者 キュツペルス・ディー チル オランダ国アインドーフエン、ピーチル ツエーマンシ
ュトラート6 ドイツ連邦共和国 5100 アーヒエン モンハイム
ザレー7
Claims (1)
- 1 回転対称形の四部をガラス板に作り、その後前記四
部が完全に充填されるまでガラス質5層を前記ガラス板
上に蒸着法により沈着させ、その後この被覆されたガラ
ス板を元の厚さ値又はそれより小さい厚さ値まで減少さ
せることによってガラス板内に埋込まれた超小形レンズ
を作り、このようにして作った2つのレンズを、埋込ま
れたレンズを平らな側面によりお互に重ね合わせること
によって1つのレンズに組合わせることを特徴とする超
小形レンズの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2913843.0 | 1979-04-06 | ||
DE19792913843 DE2913843A1 (de) | 1979-04-06 | 1979-04-06 | Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6071553A true JPS6071553A (ja) | 1985-04-23 |
JPS6240311B2 JPS6240311B2 (ja) | 1987-08-27 |
Family
ID=6067592
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55042925A Expired JPS5943428B2 (ja) | 1979-04-06 | 1980-04-03 | 超小形レンズの製造方法 |
JP59115622A Granted JPS6071553A (ja) | 1979-04-06 | 1984-06-07 | 超小形レンズの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55042925A Expired JPS5943428B2 (ja) | 1979-04-06 | 1980-04-03 | 超小形レンズの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4296143A (ja) |
EP (1) | EP0017296B1 (ja) |
JP (2) | JPS5943428B2 (ja) |
AT (1) | ATE4795T1 (ja) |
AU (1) | AU531030B2 (ja) |
CA (1) | CA1133769A (ja) |
DE (2) | DE2913843A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8006410A (nl) * | 1980-11-25 | 1982-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van geintegreerde optische golfgeleider circuits en circuits verkregen met deze werkwijze. |
DE3303157A1 (de) * | 1982-02-01 | 1983-08-11 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd., Osaka | Plattenlinse und verfahren zu ihrer herstellung |
JPS58134613A (ja) * | 1982-02-04 | 1983-08-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | マルチフアイバ−コネクタ− |
JPS58171014A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光結合器 |
DE3329511A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-02-28 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung von mikrolinsen |
DE3329512A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-02-28 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Stablinse aus mehreren glasschichten |
DE3329510A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-02-28 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung eines lichtbeugenden bauelementes |
DE3402258A1 (de) * | 1984-01-24 | 1985-08-01 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Farbenzerlegendes bauelement |
EP0164834B1 (en) * | 1984-04-06 | 1989-03-01 | Plessey Overseas Limited | Improvements relating to the fabrication of optical devices |
US4697866A (en) * | 1984-10-15 | 1987-10-06 | Honeywell Inc. | Apparatus and method for fabricating a sandwich lens |
JPS61106425A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-24 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
NL8403535A (nl) * | 1984-11-21 | 1986-06-16 | Philips Nv | Inrichting voor het optisch koppelen van een stralingsbron aan een optische transmissievezel. |
FR2578658B1 (fr) * | 1985-03-05 | 1990-06-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Plaque a microlentilles et son procede de fabrication |
GB2181861B (en) * | 1985-10-16 | 1989-09-13 | Zeiss Stiftung | Method of making a planar lightwave guide |
JPH02208601A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Seiko Instr Inc | 光学用窓材及びその製造方法 |
US5236511A (en) * | 1990-03-16 | 1993-08-17 | Schott Glaswerke | Plasma CVD process for coating a dome-shaped substrate |
DE4008405C1 (ja) * | 1990-03-16 | 1991-07-11 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
US7068870B2 (en) * | 2000-10-26 | 2006-06-27 | Shipley Company, L.L.C. | Variable width waveguide for mode-matching and method for making |
US6987919B2 (en) * | 2000-12-14 | 2006-01-17 | Shipley Company, L.L.C. | Optical waveguide termination with vertical and horizontal mode shaping |
US7251406B2 (en) * | 2000-12-14 | 2007-07-31 | Shipley Company, L.L.C. | Optical waveguide termination with vertical and horizontal mode shaping |
US7158701B2 (en) * | 2001-02-21 | 2007-01-02 | Shipley Company, L.L.C. | Method for making optical devices with a moving mask and optical devices made thereby |
US6912345B2 (en) * | 2001-03-30 | 2005-06-28 | Shipley Company, L.L.C. | Tapered optical fiber for coupling to diffused optical waveguides |
US8759228B2 (en) * | 2007-10-09 | 2014-06-24 | Micron Technology, Inc. | Chemistry and compositions for manufacturing integrated circuits |
US20110020623A1 (en) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Raytheon Company | Method and Apparatus for Repairing an Optical Component Substrate Through Coating |
EP2516546B1 (en) | 2009-12-23 | 2014-01-15 | Basell Poliolefine Italia S.r.l. | Polyolefinic compositions for injection-moulded drainage systems |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR836412A (fr) * | 1937-09-27 | 1939-01-18 | Holophane Sa | Procédé de décoration des pièces en verre |
US3176574A (en) * | 1960-12-19 | 1965-04-06 | Bell & Howell Co | Low reflectance coatings for optical elements including graduated high index layer |
JPS4922898B1 (ja) * | 1969-03-17 | 1974-06-12 | ||
US3917384A (en) * | 1973-09-11 | 1975-11-04 | Ibm | High resolution lenses for optical waveguides |
US3841733A (en) * | 1973-12-05 | 1974-10-15 | Itek Corp | Optical waveguide system for producing a line of modulated radiation data |
US4141621A (en) * | 1977-08-05 | 1979-02-27 | Honeywell Inc. | Three layer waveguide for thin film lens fabrication |
-
1979
- 1979-04-06 DE DE19792913843 patent/DE2913843A1/de not_active Withdrawn
- 1979-10-05 US US06/082,394 patent/US4296143A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-03-27 CA CA348,765A patent/CA1133769A/en not_active Expired
- 1980-03-28 AU AU56962/80A patent/AU531030B2/en not_active Ceased
- 1980-03-28 EP EP80200291A patent/EP0017296B1/de not_active Expired
- 1980-03-28 DE DE8080200291T patent/DE3065008D1/de not_active Expired
- 1980-03-28 AT AT80200291T patent/ATE4795T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-04-03 JP JP55042925A patent/JPS5943428B2/ja not_active Expired
-
1984
- 1984-06-07 JP JP59115622A patent/JPS6071553A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4296143A (en) | 1981-10-20 |
JPS55135806A (en) | 1980-10-23 |
ATE4795T1 (de) | 1983-10-15 |
DE2913843A1 (de) | 1980-10-23 |
EP0017296A3 (en) | 1981-01-28 |
EP0017296B1 (de) | 1983-09-28 |
AU5696280A (en) | 1980-10-09 |
DE3065008D1 (en) | 1983-11-03 |
JPS5943428B2 (ja) | 1984-10-22 |
JPS6240311B2 (ja) | 1987-08-27 |
AU531030B2 (en) | 1983-08-04 |
EP0017296A2 (de) | 1980-10-15 |
CA1133769A (en) | 1982-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6071553A (ja) | 超小形レンズの製造方法 | |
US11161773B2 (en) | Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler | |
EP0149645B1 (en) | Method of fabricating high birefringence fibers | |
US3823995A (en) | Method of forming light focusing fiber waveguide | |
JPS5945609B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
JP2018104286A (ja) | 特別に成形された端部を有するガラス膜、その製造方法およびその使用 | |
KR20160140598A (ko) | 마이크로-렌즈 및 어레이용 광활성 기판의 제작 방법 | |
JPH02293340A (ja) | 光屈折性の異なる領域を有するガラス物体の製造方法 | |
JPS58145634A (ja) | ド−プされたガラス状シリカの製造方法 | |
KR900009020B1 (ko) | 중공 코어 광섬유의 제조방법 | |
JPH0232221B2 (ja) | ||
CN106094065A (zh) | 一种梯度折射率石英玻璃透镜的制备方法 | |
KR100277358B1 (ko) | 화학기상증착방법에 의한 광섬유모재 제조장치 및 방법 | |
US4116653A (en) | Optical fiber manufacture | |
KR100723330B1 (ko) | 굴절형 유리 마이크로렌즈 곡면의 정밀 제작방법 | |
JPS6086047A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JP2006193379A (ja) | 光ファイバの線引き方法 | |
JP2934008B2 (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
JPH044261B2 (ja) | ||
JPS61210304A (ja) | 光平面導波路の製造方法 | |
JPH0930824A (ja) | 偏波保持光ファイバの製造方法及び偏波保持光ファイバ | |
JPS58140336A (ja) | 光フアイバ−用母材の製造方法 | |
JP2603652B2 (ja) | 光導波路製造方法 | |
JPS59127005A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2004231478A (ja) | 屈折率分布型レンズ及びその製造方法 |