JPS6071140U - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JPS6071140U
JPS6071140U JP16339583U JP16339583U JPS6071140U JP S6071140 U JPS6071140 U JP S6071140U JP 16339583 U JP16339583 U JP 16339583U JP 16339583 U JP16339583 U JP 16339583U JP S6071140 U JPS6071140 U JP S6071140U
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JP
Japan
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semiconductor manufacturing
gas
electrode
manufacturing equipment
chamber
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Application number
JP16339583U
Other languages
English (en)
Inventor
野田　耕一郎
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案による半導体製造装置の一実施例を示
す真空処理室部の縦断面図、第２図は、第１図の対向電
極の要部拡大縦断面図である。 １０・・・・・・真空処理室、２０・・・・・・対向電
極、２１・・・・・・ガス供給路、２２・・・・・・ガ
ス室、２３・・・・・・ガス放出孔、３０・・・・・・
基板電極、４０・・・・・・放電空間、５０・・・・・
・ファン、６０・・・・・・基板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ガス供給路とガス室とが連通して形成され該ガス室と連
    通してガス放出孔が穿設された対向電極と基板電極とが
    放電空間を有し真空処理室に内設され、前記基板電極に
    載置された基板をドライブロセ哀にて処理する装置にお
    いて、前記ガス室に前記ガス供給路の出口と対応してフ
    ァンを回転自在に内設したことを特徴とする半導体製造
    装置。
JP16339583U 1983-10-24 1983-10-24 半導体製造装置 Pending JPS6071140U (ja)

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JP16339583U JPS6071140U (ja) 1983-10-24 1983-10-24 半導体製造装置

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JPS6071140U true JPS6071140U (ja) 1985-05-20

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ID=30358538

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