JPS6070539A - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
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- JPS6070539A JPS6070539A JP58177882A JP17788283A JPS6070539A JP S6070539 A JPS6070539 A JP S6070539A JP 58177882 A JP58177882 A JP 58177882A JP 17788283 A JP17788283 A JP 17788283A JP S6070539 A JPS6070539 A JP S6070539A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
- G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
- G11B23/0028—Details
- G11B23/0035—Details means incorporated in the disc, e.g. hub, to enable its guiding, loading or driving
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は光ディスクに関し、更に詳しくは記録層を支持
するガラス板の中心孔の内壁面及びその周辺部に保護層
或いはガスケット層を設けることにより長寿命で安定性
が優れた構造の光ディスクに関する。
するガラス板の中心孔の内壁面及びその周辺部に保護層
或いはガスケット層を設けることにより長寿命で安定性
が優れた構造の光ディスクに関する。
今日、光ディスクは、いわゆる情報イヒ社会にあって、
大規模な情報収容能力を有する情報相体の新だな手段と
して注目を集めている。このような光ディスクとしては
種々のものがあるが、例えば、デジタルオーディオディ
スク、ビデオグイスフ、ドキュメントファイルディスク
に代表されるものが挙げられる。
大規模な情報収容能力を有する情報相体の新だな手段と
して注目を集めている。このような光ディスクとしては
種々のものがあるが、例えば、デジタルオーディオディ
スク、ビデオグイスフ、ドキュメントファイルディスク
に代表されるものが挙げられる。
従来の光ディスクは回転用の中心孔を有し、その表面又
は内部に記録情報に応じた凹凸i4ターンの刻印を有す
る構造である。光デイスク用の基板としてはプラスチッ
ク、ガラス、金:4材が使用されているが、耐熱性、耐
湿性、寸法安定性及び透明性などが優れていることから
、とシわけガラスが有望視されている。
は内部に記録情報に応じた凹凸i4ターンの刻印を有す
る構造である。光デイスク用の基板としてはプラスチッ
ク、ガラス、金:4材が使用されているが、耐熱性、耐
湿性、寸法安定性及び透明性などが優れていることから
、とシわけガラスが有望視されている。
しかし々から、基板としてガラス材を使用する光ディス
クはガラス材の機械的強度が低いため、ディスクをスピ
ンドル等の回転駆動軸へ装脱着する際に、スクラッチ、
クラック等が生じ、これが原因となってガラスが疲労し
、最終的にはディスクが破壊されるという問題点があっ
た。しかも、かかる問題点は記録もしくは再生の高密度
集積化の動向にあって、ディスクに高速回転を要請され
る状況下で漸次、顕在化の様相を呈している。
クはガラス材の機械的強度が低いため、ディスクをスピ
ンドル等の回転駆動軸へ装脱着する際に、スクラッチ、
クラック等が生じ、これが原因となってガラスが疲労し
、最終的にはディスクが破壊されるという問題点があっ
た。しかも、かかる問題点は記録もしくは再生の高密度
集積化の動向にあって、ディスクに高速回転を要請され
る状況下で漸次、顕在化の様相を呈している。
したがって、当業界においては長寿命で安定性に優れた
光ディスクの出現が強く切望されていた。
光ディスクの出現が強く切望されていた。
本発明の目的は、疲労等による耐破壊性が改善され、か
つ長寿命で安定性が優れた光ディスクを提供することで
ある。
つ長寿命で安定性が優れた光ディスクを提供することで
ある。
本発明の光ディスクは、回転用の中心孔を有するがラス
基板上の薄膜に情報が記録されて成る光ディスクにおい
て、該中心孔の内壁及びその周辺部に保護層或いはがス
ケット層を有することを特f炊とするものである。。
基板上の薄膜に情報が記録されて成る光ディスクにおい
て、該中心孔の内壁及びその周辺部に保護層或いはがス
ケット層を有することを特f炊とするものである。。
本発明に係る保護層或いはがスケット層に使用される材
料は、通常保護材或いはガスケット材として使用される
ものであれば如何なるものであってもよく、例えば有機
高分子材料、無機高分子材料、軟質金属材料、有機樹脂
とフィラーとの混合からなる材料系等が挙げられる。
料は、通常保護材或いはガスケット材として使用される
ものであれば如何なるものであってもよく、例えば有機
高分子材料、無機高分子材料、軟質金属材料、有機樹脂
とフィラーとの混合からなる材料系等が挙げられる。
有機高分子材料の具体例としては、2リエチレン、前リ
ノロビレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸
ビニル、アクリル樹脂、ポリビニルエーテル、ポリビニ
ルケトン、ポリエーテル、フッ素樹脂、ポリカー列ξネ
ート、ポリエステル、ナイロン、ツエン系シラスチック
1.」?リイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンサ
ルファイド、高アクリロニトリル共電合体、ケイ素樹脂
、フェノール樹脂、アミノ樹脂、フラン樹脂、デリレン
樹脂、アニリン樹脂、アセトンホルムアルデヒド樹脂、
不飽和ポリエステル、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン、アリル樹脂、セルロース系プラスチック
及びその誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種
以上のものが挙げられる。この7Iイ機高分子材料のな
かでも、好1しくは摩擦係数の小さい材質であるフッ素
樹脂が挙げられる。
ノロビレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸
ビニル、アクリル樹脂、ポリビニルエーテル、ポリビニ
ルケトン、ポリエーテル、フッ素樹脂、ポリカー列ξネ
ート、ポリエステル、ナイロン、ツエン系シラスチック
1.」?リイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンサ
ルファイド、高アクリロニトリル共電合体、ケイ素樹脂
、フェノール樹脂、アミノ樹脂、フラン樹脂、デリレン
樹脂、アニリン樹脂、アセトンホルムアルデヒド樹脂、
不飽和ポリエステル、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン、アリル樹脂、セルロース系プラスチック
及びその誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種
以上のものが挙げられる。この7Iイ機高分子材料のな
かでも、好1しくは摩擦係数の小さい材質であるフッ素
樹脂が挙げられる。
無機高分子材料の具体例としては、同核高分子、異核高
分子、配位高分子、無機高分子の有機誘導体から成る群
よシ選ばれる少々くとも1種以上のものが挙げられる。
分子、配位高分子、無機高分子の有機誘導体から成る群
よシ選ばれる少々くとも1種以上のものが挙げられる。
軟質金属材料の具体例とじてにt%;Ila、アルミニ
ウム、銀、錫、金、インゾウムなどが挙げられるが、加
工性、寸法安定性の面から銅、例えば無酸素銅やリン脱
酸銅やアルミニウムが好適である。
ウム、銀、錫、金、インゾウムなどが挙げられるが、加
工性、寸法安定性の面から銅、例えば無酸素銅やリン脱
酸銅やアルミニウムが好適である。
本発明に係る保護層或いはガスケット層の厚さは100
0X以上であれば特に制約を受けるものでなく、保護層
或いはガスケット層の材質によシ種種の成形法、例えば
真空蒸着法、スパッタ法、プラズマCVD法やメッキ法
、プラスチック成形法、機械加工法等をとることができ
る。また、この保護層或いはガスケット層の表面は本発
明の目的に照らして均一かつ平滑であればよい。
0X以上であれば特に制約を受けるものでなく、保護層
或いはガスケット層の材質によシ種種の成形法、例えば
真空蒸着法、スパッタ法、プラズマCVD法やメッキ法
、プラスチック成形法、機械加工法等をとることができ
る。また、この保護層或いはガスケット層の表面は本発
明の目的に照らして均一かつ平滑であればよい。
本発明の光ディスクの構造を第1図又は第2図に基づい
て具体的に説明する。
て具体的に説明する。
まず、第1図において1.2■厚の表面を光学研摩した
がラス基板1にλ/8n(但しλは光波長、nは屈折率
)厚の薄膜2が設けられ、薄膜2には情報信号に対応し
た凹凸パターン3が刻印されている。基板1には回転用
の中心孔4が設けられ、中心孔4とその周辺には、スピ
ンドル等回転駆動軸への装脱着の際に牛じるクラックを
妨げるため保護層5が設けられている。中心孔4はディ
スク6の偏芯との関係から公差が±25μm程度に加工
されている。中心孔4の端部は、しばしばテーパー或い
は曲面化加工が施されている。
がラス基板1にλ/8n(但しλは光波長、nは屈折率
)厚の薄膜2が設けられ、薄膜2には情報信号に対応し
た凹凸パターン3が刻印されている。基板1には回転用
の中心孔4が設けられ、中心孔4とその周辺には、スピ
ンドル等回転駆動軸への装脱着の際に牛じるクラックを
妨げるため保護層5が設けられている。中心孔4はディ
スク6の偏芯との関係から公差が±25μm程度に加工
されている。中心孔4の端部は、しばしばテーパー或い
は曲面化加工が施されている。
つぎに、第2図に示される光ディスクにおいては、厚さ
1.5順の表面を光学研摩したガラス基板7上にフォト
ポリメリセーション法により表面に凹凸パターンを有し
た紫外線硬化樹脂層8が設けられており、更にその上に
Te −Cなどから成る記録層9が設けられている。こ
れを2枚、記録層9が互いに対向するようにスに一す1
o及び空気層重1を介して接着し、中心孔14付近を軟
質金属又は高分子材料から成る保護層或いはガスケット
層12で被覆し、光ディスク13が構成されている。
1.5順の表面を光学研摩したガラス基板7上にフォト
ポリメリセーション法により表面に凹凸パターンを有し
た紫外線硬化樹脂層8が設けられており、更にその上に
Te −Cなどから成る記録層9が設けられている。こ
れを2枚、記録層9が互いに対向するようにスに一す1
o及び空気層重1を介して接着し、中心孔14付近を軟
質金属又は高分子材料から成る保護層或いはガスケット
層12で被覆し、光ディスク13が構成されている。
以下において、本発明の起施例及び比較例を掲げ、更に
詳しく説明する。
詳しく説明する。
実施例1
表面を光学研摩した厚さ1.2団中心孔23咽φのがラ
ス基板に0.08μm厚のボッ型フォトレジスト層を塗
布し、80℃で20分間ベーキングを施しだ。レノスト
層面を1.0μmφに絞られたArレーデに露光した後
、スプレー現像し、露光部に深さ0.08μ771.巾
0.65μmのトラッキング用案内溝を形成した。記録
媒体として厚さ650μmのTe −C膜をスパッタリ
ング法で設け、1.0mm厚のスペーサをllいて中心
孔及び外周寸近を接着しエアーサンドウィッチ+14造
を構成した。中心孔にはイソブチレン・イソブレンゴム
から成る保護層(ty スケット層)(厚さ:4閣)を
設け(第2図で示す+ O,OS 如く)、本発明の光ディスク(中心孔径15 )−〇 を得だL得られた光ディスクが長寿命で安定性が高いこ
とを確認するために下記した評価試験を行なつゾこ。結
果を表に示す。
ス基板に0.08μm厚のボッ型フォトレジスト層を塗
布し、80℃で20分間ベーキングを施しだ。レノスト
層面を1.0μmφに絞られたArレーデに露光した後
、スプレー現像し、露光部に深さ0.08μ771.巾
0.65μmのトラッキング用案内溝を形成した。記録
媒体として厚さ650μmのTe −C膜をスパッタリ
ング法で設け、1.0mm厚のスペーサをllいて中心
孔及び外周寸近を接着しエアーサンドウィッチ+14造
を構成した。中心孔にはイソブチレン・イソブレンゴム
から成る保護層(ty スケット層)(厚さ:4閣)を
設け(第2図で示す+ O,OS 如く)、本発明の光ディスク(中心孔径15 )−〇 を得だL得られた光ディスクが長寿命で安定性が高いこ
とを確認するために下記した評価試験を行なつゾこ。結
果を表に示す。
一〇
評価試験・・・・・・・・外径が15 の光ディスクを
ス+O,OS ビンドル等の装着治具へ装着し、7200rpmで10
分間、回転させる工程を繰り返し、ディスクの破損枚数
をカランl−Lだ。
ス+O,OS ビンドル等の装着治具へ装着し、7200rpmで10
分間、回転させる工程を繰り返し、ディスクの破損枚数
をカランl−Lだ。
比較例
中心孔の孔径15霧φ及び保護層を設けなかったこと以
外は、丸施例1と同様にして光ディスクを得た。得られ
た光ディスクについて、実施例1と同様の試験を行なっ
た。結果を表に示す。
外は、丸施例1と同様にして光ディスクを得た。得られ
た光ディスクについて、実施例1と同様の試験を行なっ
た。結果を表に示す。
表
実施例2
表面を光学研摩した厚さ1.2mm、中心孔径が15、
5 ttanφのガラス基板の中心孔付近に第1図に示
す如(0,25+nm厚程度のAt等の保護層を設けた
後、厚さ600XのTe −C膜を設は光ディスクを形
成し−た。前記実施例1と同様、良好な結果が摺られた
。
5 ttanφのガラス基板の中心孔付近に第1図に示
す如(0,25+nm厚程度のAt等の保護層を設けた
後、厚さ600XのTe −C膜を設は光ディスクを形
成し−た。前記実施例1と同様、良好な結果が摺られた
。
以上において詳述したように、本発明の光ディスクは従
来のものに較べ長寿命で安定性に優れたものであり、そ
の工業的価値(は大である。
来のものに較べ長寿命で安定性に優れたものであり、そ
の工業的価値(は大である。
第1図および第2図は本発明の光ディスクの断面図であ
る。 1.7・・・ガラス基板、8・・・紫外線硬化樹脂など
から成る凹凸)eターンの形成層、3.9・・・記録層
或いは反射層、2.14・・・凹凸・ぐターン部、10
・・・スペーサ、11・・・空気層、5.12・・・保
護層、4.15・・・中心孔、6.13・・・光ディス
ク。
る。 1.7・・・ガラス基板、8・・・紫外線硬化樹脂など
から成る凹凸)eターンの形成層、3.9・・・記録層
或いは反射層、2.14・・・凹凸・ぐターン部、10
・・・スペーサ、11・・・空気層、5.12・・・保
護層、4.15・・・中心孔、6.13・・・光ディス
ク。
Claims (1)
- 1、 回転用の中心孔を有するガラス基板上の薄膜に情
報が記録されて成る光ディスクにおいて、該中心孔の内
壁及びその周辺部に保護層或いはガスケット層を有する
ことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177882A JPS6070539A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177882A JPS6070539A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光デイスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6070539A true JPS6070539A (ja) | 1985-04-22 |
JPH0471258B2 JPH0471258B2 (ja) | 1992-11-13 |
Family
ID=16038701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58177882A Granted JPS6070539A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 光デイスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6070539A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59113536A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Nec Corp | 光記録媒体 |
JPS59175046A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報担体デイスク |
-
1983
- 1983-09-28 JP JP58177882A patent/JPS6070539A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59113536A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Nec Corp | 光記録媒体 |
JPS59175046A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報担体デイスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0471258B2 (ja) | 1992-11-13 |
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