JPS6067957A - 非晶質シリコン電子写真感光体 - Google Patents
非晶質シリコン電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS6067957A JPS6067957A JP17578383A JP17578383A JPS6067957A JP S6067957 A JPS6067957 A JP S6067957A JP 17578383 A JP17578383 A JP 17578383A JP 17578383 A JP17578383 A JP 17578383A JP S6067957 A JPS6067957 A JP S6067957A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous silicon
- silicone resin
- film
- sensitive body
- electrophotographic sensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は非晶質半導体シリコン膜を電子写真感光体とし
て利用する際の表面状態変化に関するものである。
て利用する際の表面状態変化に関するものである。
シラン（ＥＬＨ４）、ジシラン（ト）町などのガス會プ
ラズマ放電によシアルミニウム等の金属ドラム上に堆積
して作成される。非晶質半導体シリコンドラムは、この
材料の高硬匿性、高耐熱性及び無毒性のため、長寿命電
子写真感光体として被写器、レーザプリンター用に広く
利用されることが期待されている。電子写真感光体とし
てこの非晶質シリコンを使用するとき、感光体膜内にお
ける基本構成は、比較的低抵抗の電荷発生層と、高抵抗
の電荷−送層、金属ドラムとこれら非晶質シリコンの界
面における障壁層からなり、これら３層の役割並びに電
子論的構造は、従来のセレン系感光体や有機光卑電体と
類似性の高いものである。これに対し非晶質シリコン特
有の問題点としては、膜生成速度が遅いこと、電気抵抗
の光照射による変化（ステブラ−ウロンスキ効果）、吸
着ガスによる変化が大きいことが挙げられうる。電子写
真感光体として利用されるとき、光照射による変化は光
量が数ミリワット程度で問題とならないが、帯電、転写
時には高電圧コロナ放電を印加するため、オゾン、窒素
鹸化物等のガスが機器内で発生し、これが非晶質シリコ
ン表面層に吸着することは大きな問題点であった。この
ため表面層のガス吸着効果を低減させる丸め、１μｍ以
下のＡ８ｚａａＳＢＬＧ、ＢＪｔｓＮａ などの薄膜層
を非晶質シリコン層上に堆積されることが実施されてい
た。しかるにこれら 。
ラズマ放電によシアルミニウム等の金属ドラム上に堆積
して作成される。非晶質半導体シリコンドラムは、この
材料の高硬匿性、高耐熱性及び無毒性のため、長寿命電
子写真感光体として被写器、レーザプリンター用に広く
利用されることが期待されている。電子写真感光体とし
てこの非晶質シリコンを使用するとき、感光体膜内にお
ける基本構成は、比較的低抵抗の電荷発生層と、高抵抗
の電荷−送層、金属ドラムとこれら非晶質シリコンの界
面における障壁層からなり、これら３層の役割並びに電
子論的構造は、従来のセレン系感光体や有機光卑電体と
類似性の高いものである。これに対し非晶質シリコン特
有の問題点としては、膜生成速度が遅いこと、電気抵抗
の光照射による変化（ステブラ−ウロンスキ効果）、吸
着ガスによる変化が大きいことが挙げられうる。電子写
真感光体として利用されるとき、光照射による変化は光
量が数ミリワット程度で問題とならないが、帯電、転写
時には高電圧コロナ放電を印加するため、オゾン、窒素
鹸化物等のガスが機器内で発生し、これが非晶質シリコ
ン表面層に吸着することは大きな問題点であった。この
ため表面層のガス吸着効果を低減させる丸め、１μｍ以
下のＡ８ｚａａＳＢＬＧ、ＢＪｔｓＮａ などの薄膜層
を非晶質シリコン層上に堆積されることが実施されてい
た。しかるにこれら 。
薄膜層の形成は非晶質シリコン層生成槽内で実施するた
め、生成槽内の新規構成、残余ガスによる槽内の汚染等
の点から望ましいものとは言えなかった。
め、生成槽内の新規構成、残余ガスによる槽内の汚染等
の点から望ましいものとは言えなかった。
本発明の目的は、ガス吸着による非晶質シリコン膜の特
性変化を防止し、電子写真感光体として長期間安定印字
状態を確保することを目的とする本発明は、非晶質シリ
コン層が２００°Ｃ程度の高温に対しても特性の劣化が
ないことに着目し、非晶質シリコン層表面にシリコン樹
脂を塗工し、高温乾燥により得られるｙ ＩＪコン樹脂
塗膜の耐オゾン性、耐水性、耐熱性などの諸物件を活用
したことにある。
性変化を防止し、電子写真感光体として長期間安定印字
状態を確保することを目的とする本発明は、非晶質シリ
コン層が２００°Ｃ程度の高温に対しても特性の劣化が
ないことに着目し、非晶質シリコン層表面にシリコン樹
脂を塗工し、高温乾燥により得られるｙ ＩＪコン樹脂
塗膜の耐オゾン性、耐水性、耐熱性などの諸物件を活用
したことにある。
本発明を実施例によシ説明する。公知の高周波グロー放
電法によシ、アルミニウムドラム表面上に非晶質シリコ
ンを堆積させた。アルミニウムドラムは軸方向に２分割
されておシ、一方は表面処理状態で電子写真特性評価を
実施し、他方は無色透明のシリコンフェス（信越化学展
ＫＲ２７１等及びダウコーニング製ＦＳＲ−１０７等）
をスプレー塗装し、その後１５０’０１時間オーブン中
にて乾燥させた。両者の膜厚はいずれもＢμｍ程度であ
ジ、認めうる１１どの差違は生じてぃなかった。６「の
負コロナ帯電で、初−期表面電位は、−３５０〜−４０
０７を示し、波長５５ｏＩ＋ｌＩ＋＋の光照射に対して
、表面電圧は、０から一３０Ｖとなった。しかし、表面
処理状態のドラムは、数幻回の印字ザイクルに対し、初
期表面電位の低下を生じ、印字濃度はうすく、又、全体
的にカプリ現象を露呈して来た。
電法によシ、アルミニウムドラム表面上に非晶質シリコ
ンを堆積させた。アルミニウムドラムは軸方向に２分割
されておシ、一方は表面処理状態で電子写真特性評価を
実施し、他方は無色透明のシリコンフェス（信越化学展
ＫＲ２７１等及びダウコーニング製ＦＳＲ−１０７等）
をスプレー塗装し、その後１５０’０１時間オーブン中
にて乾燥させた。両者の膜厚はいずれもＢμｍ程度であ
ジ、認めうる１１どの差違は生じてぃなかった。６「の
負コロナ帯電で、初−期表面電位は、−３５０〜−４０
０７を示し、波長５５ｏＩ＋ｌＩ＋＋の光照射に対して
、表面電圧は、０から一３０Ｖとなった。しかし、表面
処理状態のドラムは、数幻回の印字ザイクルに対し、初
期表面電位の低下を生じ、印字濃度はうすく、又、全体
的にカプリ現象を露呈して来た。
この後、この表面未処理ドラムの電気抵Ａ初期に比較し
て、３桁程度低下していた。更にこのドラムの非晶質シ
リコン膜を暗中で１５０”０２時間加熱した時、抵抗値
の初期復帰現象が見られたものの、初期値に比較して抵
抗値は１桁以上低下していた。一方、同じ製作条件の非
晶質シリコン膜に対し、上記シリコン樹脂塗装を実現し
たものは、１０００回の印字サイクルに対しても、初期
状態と大差なく、良好な印字状態にあった。
て、３桁程度低下していた。更にこのドラムの非晶質シ
リコン膜を暗中で１５０”０２時間加熱した時、抵抗値
の初期復帰現象が見られたものの、初期値に比較して抵
抗値は１桁以上低下していた。一方、同じ製作条件の非
晶質シリコン膜に対し、上記シリコン樹脂塗装を実現し
たものは、１０００回の印字サイクルに対しても、初期
状態と大差なく、良好な印字状態にあった。
本発明の実施例は、加熱硬化型のシリコンフェスをもっ
て記載されたが、本発明はこれに限定されるものではな
く、非晶質シリコン膜のガス吸着効果を低減し、電子写
真特性をそこなわず、又、印字像光照射光量を吸収しな
い透明に近いものであれば良い。このためには、室温硬
化型の一連のシリコン樹脂でも使用可能であシ、又塗工
方法も、薄く均一に塗υうるものであれば、スプレー方
法に限定されるものではない。
て記載されたが、本発明はこれに限定されるものではな
く、非晶質シリコン膜のガス吸着効果を低減し、電子写
真特性をそこなわず、又、印字像光照射光量を吸収しな
い透明に近いものであれば良い。このためには、室温硬
化型の一連のシリコン樹脂でも使用可能であシ、又塗工
方法も、薄く均一に塗υうるものであれば、スプレー方
法に限定されるものではない。
非晶質シリコン膜は均−換として形成されているように
見うけられるものの、ミクロな構造として観測したとき
、かなシ凸凹が減しく、又小大気孔性の構造を有するも
のと思われる。このためガス吸着及び微粉塵がこの表面
層に付着し、抵抗値など電子写真特性を低下させている
ものと考えられる。本発明は、シリコン樹脂がこの表面
凸凹性を低減させ、更に又、シリコン樹脂特有の耐熱、
耐寒性、耐水性、電気絶縁性、耐候性によシ、電子写真
感光体ドラムの経時変化を抑止しているものと言える。
見うけられるものの、ミクロな構造として観測したとき
、かなシ凸凹が減しく、又小大気孔性の構造を有するも
のと思われる。このためガス吸着及び微粉塵がこの表面
層に付着し、抵抗値など電子写真特性を低下させている
ものと考えられる。本発明は、シリコン樹脂がこの表面
凸凹性を低減させ、更に又、シリコン樹脂特有の耐熱、
耐寒性、耐水性、電気絶縁性、耐候性によシ、電子写真
感光体ドラムの経時変化を抑止しているものと言える。
又、シリコン上にシリコン樹脂を塗工するためシリコン
樹脂の密着性もそこなわれず、特性向上に寄与している
ものと考えることがで餐 ス〜
樹脂の密着性もそこなわれず、特性向上に寄与している
ものと考えることがで餐 ス〜
Claims (1)
- 非晶質半導体シリコン膜からなる電子写真感光体におい
て、当該膜の表面層に、クリコン樹脂を１Ｉａｎ以下塗
工することを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17578383A JPS6067957A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 非晶質シリコン電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17578383A JPS6067957A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 非晶質シリコン電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067957A true JPS6067957A (ja) | 1985-04-18 |
Family
ID=16002172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17578383A Pending JPS6067957A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 非晶質シリコン電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067957A (ja) |
-
1983
- 1983-09-22 JP JP17578383A patent/JPS6067957A/ja active Pending
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