JPS5919335B2 - 電子写真法 - Google Patents

電子写真法

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JPS5919335B2
JPS5919335B2 JP51141110A JP14111076A JPS5919335B2 JP S5919335 B2 JPS5919335 B2 JP S5919335B2 JP 51141110 A JP51141110 A JP 51141110A JP 14111076 A JP14111076 A JP 14111076A JP S5919335 B2 JPS5919335 B2 JP S5919335B2
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photoreceptor
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茂 定松
孝造 岡
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、表面絶縁性層を有する感光体を用い、ポジ−
ポジ(またはネガ−ネガ)とポジ−ネガ(またはネガ−
ポジ)の複写像を帯電極性の切り換えだけで得ることの
できる電子写真法に関する。
電子写真感光体として従来実用化されてきたものとして
はSe、Se系合金、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の光
導電性物質の層を導電性基板の上に設けたものが代表的
なものであるが、これらはいずれも正帯電か負帯電のど
ちらか一方の極性でのみ使用することが可能なものであ
る。これらの感光体が両極性での使用に耐え得ないのは
、一方の極性で帯電性が悪かつたり、あるいは一方の極
性の荷電キャリヤーが動きにくく、感度が悪いか、バル
ク中にトラップされた空間電荷が感光体中に蓄積されて
残留電位が上昇したりすることが原因である。例えば、
Se系の感材の場合、負帯電すると表面の負電荷による
電場の作用により導電性基板から正電荷担体が注入され
、見かけ上帯電量を小さくして感光体としての感度を低
下させたり、あるいは、内部に存在する負電荷のトラッ
プ中心のため、負帯電、露光をくり返すと、感光体中に
負の空間電荷が蓄積されて残留電位が上昇し、くり返し
特性が悪くなるなどの問題がある。一方、通常の電子写
真プロセスと感光体に対し、米国特許第3041167
号によれば、光導電性層上に密着した表面絶縁層を有す
る感光体を用い、第1次帯電、全面露光、第一次帯電と
逆極性の第二次帯電、像露光のプロセスにより静電潜像
を形成する方法が記載されている。
このプロセスに用いられる感光体は第1図に示すように
表面絶縁層3、光導電性層2、導電性基板1の三層を基
本構成とし、表面絶縁層3は光導電性層2が感じる輻射
線に対して透過性である。
このプロセスを第2図を参照して簡単に説明すると、上
記のような構成の感光性部材の透明の表面絶縁性層3を
まずある極性に帯電し(a図)、次いで一様露光をして
表面の電荷と逆極性の電荷を絶縁性層3と光導電性層2
の境界に形成し(b図)、第一次帯電とは逆極性の帯電
を施し表面電荷を中和するとともに導電性基板1に前記
境界に存在する電荷とは逆極性の電荷を誘起させ(c図
)、次いで像露光して境界に存在している電荷を光照射
・ 部に対応して放電させ、静電潜像を絶縁性層3と光
導電性層2の境界に形成する(d図)方法である。この
感光体は絶縁層一ヒにて現像、転写、クリーニング等の
処理を遂行するものであるため、長い寿命を有すること
、また光導電性層が表面絶縁層によつておおわれている
ことから毒性に対する配慮が不要であることなど、種々
の長所がある。
また、この感光体を使用するプロセスにおいては、正の
荷電キヤリヤ一と負の荷電キヤリヤ一が両方共感光体中
を流れることから、空間電荷の蓄積が少ないことも一つ
の特長であるが、しかしながら前述のような感光体では
、導電性基板から荷電キヤリヤ一の注入が行なわれ、先
に述べたように感光体の感度が低下したり、あるいはS
/N(信号/雑音比)が悪くなつて帯電極性を逆にして
使用する場合には良好な画像が得られていない。従つて
、本発明の目的は、従来のような欠点のない電子写真用
感光体を使用してポジ画像およびネガ画像を選択的に得
ることのできる電子写真法を提供することである。
本発明は従来の感光体を改良し、両極性での使用を可能
としたものであつて、その結果、現像剤を変更せず帯電
極性を切り変えるだけでポジ−ポジ(またはネガ−ネガ
)とネガ−ポジ(またはポジ−ネガ)のコピーを任意に
選択して得ることができるようにしたものである。
また本発明による感光体はその表面に絶縁層を有するこ
とに由来する前記のような長所をあわせ持つたものであ
る。本発明方法で使用する感光体は第3図に示すように
導電性基板1上に中間絶縁層4、光導電性層2、表面絶
縁層3をこの順に積層したものである〇上記光導電性層
3としては、種々の無機あるいは有機光導電性物質を用
いることができる。例えば無定形Seは、本発明にとつ
て望ましい材料である。また耐結晶化性を向上させるた
めにAsを0.1〜5%含んだSeとAsの合金は、同
様に望ましい特性を示す。また増感の目的でTeあるい
はAsを1〜50%含んだSe合金、あるいはTeまた
はAsの含有量が異なる二組成を重ね合わせてなるもの
等も同様に用いることができる。またそれらは電気的特
性を制御するためにF,Cl等のハロゲン元素や、Tl
,In等の周期律表第b層元素を少量含んでいてもよい
。またCdSやZnO等の光導電性物質を用いてもよい
。また有機光導電性物質としては、PVK−TNF系の
ようにPVKを化学増感材で増感したもの、あるいは色
素により増感したもの、あるいは色素をバインダー中に
分散させたもの等を用いることができる。なお、光導電
性層の厚さは5〜200μの範囲であることが望ましい
。本発明方法に用いる感光体の表面絶縁層3としては高
抵抗で電荷を保持することができ、耐摩耗強度の大きい
ものであることが望ましく、さらに光導電性層2が感じ
る輻射線に対して透過性であることが要求される。
具体的には高分子フイルム、例えばウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリエステル樹脂、弗素樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリエチレン樹脂、錯酸セルローズ樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂等のフイルム、あるいは無機絶縁材料
例えばSiO2,Al,O3等によるガラス、セラミツ
クス等が用いられるものである。なお、表面絶縁層3の
厚さは5〜50μの範囲であることが望ましい。導電性
基板1と光導電性層2との間に介在する中間絶縁層4と
しては、高抵抗であつて荷電キヤリヤ一の注入を阻止す
るものでなければならない。
さらに導電性基板1及び光導電性層2との接着性がよい
ことを要するが、透光性である必要はない。具体的には
表面絶縁層3として用いられる高分子フイルム及び無機
絶縁材料としてあげたものは、何れもこの中間絶縁層と
して用いることができる。中間絶縁層の膜厚は0,1〜
20μの範囲であることが望ましい。導電性支持体とし
ては、導電性であればよく、例えばアルミニウム、銅、
ニツケル、錫等の金属導電体、樹脂フイルムに導電加工
したもの、あるいは吸湿性の紙、紙の土にアルミ箔を付
着したもの等があげられる。
上記感光体を用い、米国特許第3041167号明細書
に記載されたプロセス、すなわち第一次帯電、全面露光
、第一次帯電と逆極性の第二次帯電、像露光からなるプ
ロセスのもとで静電潜像を形成させることにより、安定
性のよい良質のコピーを得ることができる。
さらに、第一次帯電と第二次帯電の極性を同時に両方と
も逆にすることにより、現像剤を変更することなく、コ
ピー画像を反転させることができる。中間絶縁層を有す
る感光体を用いて反転像を得ることを特徴とする本発明
のプロセスを第4図、第5図を参照して簡単に説明する
と、第3図に示したような構成の感光体の表面絶縁性層
3をまずある極性(第4図の場合は正、第5図の場合は
負)に帯電し(a図)、次いで一様露光をして表面の電
荷と逆極性の電荷を表面絶縁性層3と光導電性層2の境
界に形成するように光導電性層2を分極させ(b図)、
第一次帯電とは逆極性の帯電を施し表面電荷を中和する
(c図)。
その後、像露光して光照射部の分極を放電させて消去し
、静電潜像を表面絶縁性層3と光導電性層2の境界に形
成する(d図)。この分極による静電潜像をある極性に
帯電したトナー粒子で現像する場合、例えば第4図、第
5図で示すように正帯電したトナー5を用いた場合、負
極性の潜像に対しては第4図eのように潜像に対応して
、また正極性の潜像に対しては第5図eのように周辺電
場効果(Edgeeffect)のため像部分周辺の光
導電層2の表面に負電荷が誘起され、その部分にトナー
5が吸引されてネガ像ができる。ただし、後者の場合は
周辺電場効果のある場所だけが現像されるため線画像に
は適用できるが、連続階調の再現には使用できない。連
続階調の再現をする場合は、第6図に示すように現像電
極6を設け、現像電極6の電圧をコントロールして静電
潜像と等しい電位が電極6に生じるようにしておく。
第5図dの場合、この条件で感光板表面には負電荷が誘
起され、はじめ電荷密度が最も大きかつた部分の正電荷
は中和され、逆にもともと正電荷密度のゼロの部分には
、電荷密度が最も大きかつた正電荷と同じ負電荷密度が
生じる。中間部分にはもとの正電荷に逆比例する過剰の
負電荷が生じる。それ故、パウダークラウド法などで正
帯電したトナー5を用いて現像すると、連続階調再現性
のよい反転像が得られる。以下の実施例によつて本発明
を更に具体的に説明する。実施例 アルミニウム支持体上にウレタン樹脂を厚さ約5μに塗
布し、その上に真空蒸着法によりSeの厚さ60μの膜
を形成させる。
その時支持体の温度は60℃から70℃の間に保つてお
く。ついでSe蒸着膜上に12μ厚のポリエステルフイ
ルムをエポキシレジンで接着することにより感光体が得
られる。次に、感光体の絶縁層表面を−5.5KVのコ
ロナ放電により帯電し、次いで約10ルツクス・秒の光
量で全面露光し、さらに+5.5KVのコロナ放電によ
り帯電し、最後に約10ルツクス・秒の光量で像露光す
ることにより、約800Vの静電コントラストを有する
静電潜像を得た。
これを負に帯電するトナーと正に帯電するキヤリヤ一か
らなる現像剤でカスケード現像することにより、良質の
ポジ画像が得られた。次に第一次帯電を+6KVのコロ
ナ放電で行ない、光量10ルツクス・秒の全面露光、−
5KVのコロナ放電による第二次帯電、光量10ルツタ
ス・秒の像露光と操作を続けることにより、同一の現像
剤を用いながら反転画像を得ることができた。
このようにポジ−ポジ(またはネガ−ネガ)とネガ−ポ
ジ(またはポジ−ネガ)の切り変えは、帯電極性の切り
変えだけで容易に行なうことができる。以上に述べた実
施例から明らかなように、本発明方法によれば同一の現
像剤を用いてポジ−ポジ(またはネガ−ネガ)およびネ
ガ−ポジ(またはポジ−ネガ)像を極めて簡単な操作に
より任意に選択的に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1および2図は従来法を、また第3〜6図は本発明方
法を説明するための図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 導電性基板1の上に絶縁性層4、光導電性層2、表
    面絶縁性層3を順次積層した電子写真用感光体に一次帯
    電し、次いで一様露光した後、一次帯電と逆極性の二次
    帯電を行つて表面電荷を中和し、その後像露光して静電
    潜像を形成すること、または上記一次帯電および二次帯
    電の極性を逆にして以下同様に行い静電潜像を形成する
    ことを選択的に行ない得ることを特徴とする電子写真法
JP51141110A 1976-11-26 1976-11-26 電子写真法 Expired JPS5919335B2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51141110A JPS5919335B2 (ja) 1976-11-26 1976-11-26 電子写真法
DE19772752753 DE2752753A1 (de) 1976-11-26 1977-11-25 Elektrophotographisches verfahren
GB49083/77A GB1595463A (en) 1976-11-26 1977-11-25 Electrophotographic process
US05/855,143 US4197119A (en) 1976-11-26 1977-11-28 Electrophotographic process

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JPS5366232A JPS5366232A (en) 1978-06-13
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GB (1) GB1595463A (ja)

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