JPS606647A - アルフアメニン及びその関連化合物と合成法 - Google Patents

アルフアメニン及びその関連化合物と合成法

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JPS606647A
JPS606647A JP58107888A JP10788883A JPS606647A JP S606647 A JPS606647 A JP S606647A JP 58107888 A JP58107888 A JP 58107888A JP 10788883 A JP10788883 A JP 10788883A JP S606647 A JPS606647 A JP S606647A
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JP58107888A
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Hamao Umezawa
梅沢 浜夫
Takaaki Aoyanagi
青柳 高明
Kuniaki Tatsuta
邦明 竜田
Takeshi Nakamura
健 中村
Shunzo Fukatsu
深津 俊三
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Microbial Chemistry Research Foundation
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアルファメニン及び新規なアルファメニン関連
化合物の製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は次
の一般式[1) 〔式中R1はα−アミノ酸分子のα−カルボキシル基を
除いた部分に相当するα−アミノ酸残基を示し、R″は
水素原子5,00〜6のアルキル基又は置換基牽有して
もよいアリール基、特にフェニル基、又はアラルキル基
特にベンジル基を示し、*は立体配置R又はSl又はこ
れらの組み合せを示す〕で表わされるアルファメニン及
びその関連化合物の合成法に関する。また本発明は一般
式(■)の化合物の範囲に属する新規なアルファメニン
関連化合物にも関する。
アルファメニンと総称されるアルファメニンA及びB(
前記一般式+1)でRはアルギニン由来のα−アミノ酸
残基で、R2がベンジル基又はp−ヒドロキシベンジル
基である場合に相当)は本発明者らにより、アミノペプ
チダーゼ阻害物質としてスクリーニングされて発見され
た新規ノ物質であって免疫賦活作用ならび鎮痛作用を有
する発酵生産物である( !i′f願昭57−9627
6号明細書参照)。
アルファメニンの化学構造は次式マ表わされる。
ここでR′は水素原子又は水酸基を示し、n、4が水素
原子の場合はアルファメニンA 、 R’が水酸基の場
合はアルファメニンBとそれぞれ命名されている。
本発明者らは、アルファメニン並びにその関連化合物を
化学的に合成すべく鋭意検討中、α−アミノ酸エステル
誘導体と、置換又は非置換マロン酸ジエステルの金属塩
誘導体とを出発原料として用イた場合に簡便に収率よく
、アルファメニン及び新規なアルファメニン関連化合物
が合成されることを見い出し本発明を完成させ・た。
アルファメニンと化学構造が近縁の化合物の合成法とし
ては、ケトメチレン化合物とオキサシロンを用いたDa
kin −West反応の応用([Journalof
 Medici’nal Chemigtiy J 2
4巻、964頁、19i1)や、アミノ酸ピリジンチオ
ールエステルにグリニヤ試薬を反応させる方法([Te
trahedronLetter J 23巻、256
6頁、1982)があるが、前者の方法は出発物質のケ
トメチレン化合物、即ち置換コハク酸の半エステル、半
酸クロリドの調製に難点があるばかりでなく、目的化合
物が前記式+11の5−アミノ基のアシル置換されたも
のに相当するので、アミノ基を遊離の状態暑こ戻すのに
激しい酸加水分解が要求される難点がある。後者の方法
はグリニヤール試薬を用いるため出発物質が狭い範゛囲
に限定され、官能基の保護基との関連で前記式(!)の
ケトン基の保護を必要とするなどの点で操作が袂雛であ
る。
これに比べて、本発明方法は簡便で効率がよく、本発明
の方法によると、一般式 %式%() 〔式中 Blはα−アミノ酸分子のα−カルボキシル基
を除いた部分に相当するα−アミノ酸残基であって、こ
のα−アミノ酸残基がα−アミノ基の他に官能基を含む
場合には、α−アミノ基及びその官能基は公知の保護基
で保護されてあり、Xは臭素又は沃素原子を示す〕で表
わされるα−アミノ酸誘導体に次の一般式 〔式中、R2は水素原子、01〜6のアルキル基、ある
いは置換基を有してもよいアリール基又はアラルキル基
を示し BmはC1〜4のアルキル基又はテトラヒドロ
ピラニル基の形の保護基を示し、Meはアルカリ金属を
示し、*印はこれの付された炭素原子における立体配置
がR1型又はS型、あるいはこれらの組合わせであるこ
とを示す〕の置換又は非置換マロン酸ジエステル・アル
カリ金属塩を縮合させて次の一般式 〔式中、R1、B2 、 R3及び*は前述の意味を示
す〕の縮合生成物を生成し、次いでこの生成物を公知の
方法による脱カルボキシル反応又は脱カルボキシレート
反応(−cooa”基1個の脱離)と公知の脱保獲反応
に付することを特徴とする、次の一般式%式% 〔式中、Rは、n、1で表わされる官能基を保護された
α−アミノ酸残基から保護基の脱除により生成されたα
−アミノ酸残基であり B2及び*は前述O)意味を有
する〕で表わされるアルファメニン及びその関連化合物
の製造法を便旨とする。
本発明の方法で原料物質として用いられる一般式(Il
lのα−アミノ酸誘導体は、例えば次式R’ −C0O
HTVI 〔式中 Blは一般式(Illにおけると同じ意味を示
す〕のα−アミノ酸官能基保護体に対して、トリエチル
アミンの任在下に無水テトラヒドロフラン中で低温でク
ロルギ酸エチルを反応させ−1さらにジアゾメタンを反
応させて次式 %式%( のジアゾメタン誘導体を生成し、さらに式(vl)の化
合物にテトラヒドロフラン中で臭□化水素酸の酢酸溶液
を作用させることからなる方法により、次式%式% のブロム体として得られる。こや代品のブロム体にアセ
トン中で沃化ナトリウムを作用させると、次式 %式%() のヨード体として得られる。
また、反応剤としての一般式(11のマロン酸ジエステ
ルのアルカリ金属塩は、次式 〔式中 Bm 、 FLa及び*は一般式(組における
と同じ意味を有する〕の置換又は非1道換マロン酸ジエ
ステルに対して、N、N−ジメチルホルムアミド及びヘ
キサメチルホスホリックトリアミド(HMPA )の混
液中で水素化アルカリ金属、好ましくは水素化す゛トリ
ウムを作用させることにより調製できる。
本発明の方法において、式([1の化合物と式(I)の
化合物を縮合させる反応としては、通常の有機溶媒、例
えばポルムアミド、ジメチルホルムアミド。
ヘキサメチルホスホリックトリアミド(HMPA)など
の溶媒中で水冷下(09〜15℃)に数時間反応させる
方法が挙げられる。
この縮合反応において、原料化合物中の基Bl。
R2の部分中に官能基、すなわち水酸基、アミノ基。
カルボキシル基などの官能基が含まれる場合には、これ
らの官能基は反応に際し保護されていることが望ましく
、これには公知の保護基が利用できる。
水酸基の保護基としては、テトラヒドロピラニル基、ベ
ンジル基などが用いられ、またアミノ基の保詭基として
はベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオキシ
カルボニル基、あるいはr−ブトキシカルボニル基など
のアルコキシカルボニル基が用いられる。カルボキシル
基の保護の場合テトラヒドロピラニル基、アルキル基な
どのエステル形成基が保護基の代表として挙げられる。
式(II)の化合物と式(組の化合物との縮合の結果と
して、水洗では、式(IVIのジカルボン酸エステル化
合物が生成されるから、次にこれから脱カルボキシル(
又は脱カルボキシレート)させる。このための脱カルボ
キシル(又はカルボキシレート)反応(−COOR”基
1個の脱除反応)としては常法のマロン酸の脱炭酸反応
が利用できる。この目的には例えば、ピリジン、ジメチ
ルホルムアミドなどの溶媒中で塩化す) IJウムの如
き無機塩の存在下に加熱する方法が用いつる。脱カルボ
キシル(又はカルボキシレート)反応後には、脱保護反
応が行われるが、これは夫々の保護基の創類に応じて種
々の常法が利用できる。
本発明の方法の原料化合物(11中に存在するα−アミ
ノ酸残□基R1が由来するα−アミノ酸の例としては、
アルギニン、リジン、フェニルアラニン。
チロシン、ヒスチジン、システィン、メチオニン。
アスパラギン酸、グルタミン酸、セリン、プロリンアラ
ニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、ノルロイシン
などである。反応剤のマロン酸ジエステル誘導体(1)
の中のR2が炭素数1〜6のアルキル基である場合、こ
れは直鎖状でも側鎖を有するものでもよい。R2が置換
基を有17てもよいアリール基の例としてはフェニル基
であることができ、あるいはアラルキル基である場合の
例としては、ベンジルが挙げられ、そのフェニル核上の
置換基としてはヒドロキシル基、ニトロ基、メトキシ基
すどが好ましい。また BSはメチル、エチルの如きア
ルキル基、あるいはテトラヒドロピラニル基であるのが
よい。
本発明の方法の一実施態様によると、次式〔式中、Aは
公知のアミン保護基例えばt−ブトキシカルボニル基の
如きアルコキシカルボニル基、又はベンジルオキシカル
ボニル基の如きアラルキルオキシカルボニル基を示し、
Xは臭素又は沃素原子を示す〕で表わされるアルギニル
−ハロメタン′dアミノ保護体に次式 〔式中、R3はC1〜4のアルキル基又はテトラヒドロ
ピラニル基の形のカルボキシル保護基を示し、R′は水
素源子又は水酸基を示し、Meはアルカリ金属を示ス〕
のベンジルマロン酸ジエステル・アルカリ金属塩を反応
させて次式 〔式中、A 、 R’ 、 n’は前記と同ρ−意味で
ある〕の縮合生成物を生成し、次いでこの生成物を加水
分解して次式 R4 H 〔式中、A、I’L’は前記と同じ意味である〕のジカ
ルボン酸化合物に転化し、さらにこのジカルボン酸化合
物から脱炭酸し、すなわち、カルボキシル基1個を常法
で除去して次式 〔式中、h、vは前記と同じ意味である〕のモノカルボ
ン酸化合物を生成し、次に常法でアミノ保護基(5)の
脱離・反応にかけることを特徴とする、次式 [R4は前記の意味をもつ]のアルファメニンA又はB
の製造法が提供される。
前記一般式(1)の化合物のうち、アルファメニン以外
は新規な物質である。従って、第二の本発明によると、
次の一般式 〔式中 Haはa−アミノ酸分子のα−カルボキシル基
を除い、た部分に相当するα−アミノ酸残基であり、R
1は水素原子、C1〜6のアルキル基、あるいは置換基
を有してもよいアリール基又はアラルキル基であり、*
はこれの付された炭素原子における立体配置がR型−又
はS型、あるいはこれらの組合わせであることを示し:
但しRaがアルギニン分子からα−カルボキシル基を除
いた部分に相当するアルギニン残基であって且つR,′
がベンジル基又はp−ヒドロキシベンジル基である場合
は除く〕で表わされるアルファメニン関連化合物、およ
びその薬学的に許容される塩が提供される。
この一般式(Ia月こよるアルファメニン関連化合物に
おいて、例えば基a” −co−の部分はリジンから誘
導される次式 %式% の基;フェニルアラニンから誘導される次式の基;チロ
シンから誘導される次式 の基:ヒスチジンから誘導される次式 、の基;システ
ィンから誘導される次式 %式% の基;メチオニンから誘導される次式 7H宜 ′ CHs8CH,−CH−CO− の基:アスパラギン酸から誘導される次式%式% の基;グルタミン酸から誘導される次式H2 ■ HOOC−CH,CH,−CH−C0−の基:セリンか
ら誘導さ□れる次式 %式% の基ニブロリンから誘導される次式 1.1 の基;アラニンから誘導される次式 %式% の基;バリンから誘導される次式 の基:ロイシンから誘導される次式 %式% の基:イソロイシンから誘導される次式の基;ノルロイ
シンから誘導される次式%式% 一般式(1)ならびに(la)の薬学的に許容される塩
は、分子の酸性、塩基性によって塩の状態が変るが、代
表的なものとしては分子中のアミノ基又はグアニジル基
における塩酸塩、硫酸塩などの無機酸付加塩があり、才
た分子中のカルボキシル基におけるナトリウム塩、カリ
ウム塩などのアルカリ金属塩などが挙げられる。
本発□明で得られる一般式(1)ならびに(Ia)の化
合物は、いづれも0.002mci/d〜50 mcg
/−の範囲でアミノペプチダーゼB阻害活性を有し、才
たアルファメニンと同様にり、T、H法で測定して細胞
性免疫賦活性を示す化合物である。
以下に、原料の調製を示す参考例、ならびに本発明の実
施例により本発明の詳細な説明するが、本発明は何らこ
れらの実施例に限定されるものではない。
参考例1 イ) トリーN−ベンジルオキシカルボニルアルギニル
−ジアゾメタンのl!li製 Hz C=NH −Z (CHz)s ZHN−OB−COCHN。
(但し2はベンジルオキシカルボニル基C6H,CH,
0CO−を示すン スタコミャグらの方法(ジャーナル・オブ・メデイミナ
ル・ケミストリイ、22巻1127頁(1979))に
準じてトリーN−ベンジルオキシカルボニル−アルギニ
ンのs、 e s t (6,67ミリモル)(国産化
学社製)とトリエチルアミンの0、927 ag (6
,67ミリモル)を無水テトラヒドロフランの50sd
に懸濁し、ドライアイス−アセトン浴で一15℃に冷却
する。これにクロルギ酸エチル0.65F3Il/(6
,ロアミリモル)を反応温度を一15℃に蘇ちながら撹
拌下、約5分で滴下し、さらに15分間、同温に保つ。
N−メチルニトロソウレア2gより常法に従い調製した
ジアゾメタン・エーテル溶液30MI(ジアゾメタン約
15ミリモル含有)を、氷冷し、上の反応溶液に一度に
加える。反応温度を一り0℃±5℃に約一時間保ったの
ち、溶媒を減圧留去し残渣を酢酸エチル50dに溶解し
水洗、飽和重重水洗、水洗(2回)を行ない、無水硫酸
す) IJウムで乾燥する。濾過後、P液を約10−に
濃縮し、石油エーテルをろ液が白濁するまで加えると、
結晶が析出する。−夜室温放置して炉取し、酢エチー石
油エーテルの混液で洗條する。表題化合物2.498f
(4,32ミリモル)を黄色結晶として得る。
収率65%、m、p、 117.5〜118.5℃質量
分析(FDマス、スペクトル):m/e577(m+1
) (01トIJ−N−ベンジルオキシカルボニルアルギニ
ル−ブロモメタンの調製 〒Hz 計2 (cH宜)S ? Z HN −CH−COCH! −B r(イ)で得ら
れたジアゾ体2.450f(4,08ミリモル)をテト
ラヒドロフラン2(llwJlこ溶解して氷冷する。2
5%臭化水素酸の酢酸溶液をエーテルで10倍希釈した
溶液15mを、上の溶液に水冷下、3時間で滴下する。
溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチル5(l1w/に溶
解し、順に水、飽和重曹水、水(2回)で洗條後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。濾過後、P液を約7 y
lまで濃縮すると結晶化する。結晶をい取し、酢、酸エ
チル、石油エーテルの混液で洗條乾燥すると目的の表題
化合物が無色針状晶として得られる。収率8o%。
m、p、136.5〜137℃ 質量分析(FDマススペクトル):m/e655 (m
+2)#653(、、m ) パイルシュタインテスト:陽性 〔α)”; 0@(C=1.0 、クロロホルム)(ハ
) トリーN−ベンジルオキシカルボニルアルギニル−
ヨードメタンの調製 「 (CHJs ZHNCH−COCM、−I 前項(ロ)のブロモメタン誘導体生成物の130.7W
(0,2ミリモル)(!:ヨー化ナナトリウム90η0
.6ミリモル)をアセトン2宵lに懸濁し、室温、遮光
下に3時間反応する。TLC(メルクシリカゲルプレー
) (Art 5715) を用い展開系としてベンゼ
ン−アセトン(10:1)で原料の消失と新たなスポッ
トの出現を確認後、溶媒を減圧留去し、その残渣を酢酸
エチル10m1に溶解し、7dの水で3回洗鋒する。無
水硫酸マグネシウムで乾燥后濾過し、P液を約τ景に濃
縮し、エーテルを加えると結晶化する。−次晶96qを
P取後、F液を濃縮すると二次晶50岬が得られる。収
量、計126q(0,180ミリモル)。収率90%。
m、p、136〜136.5℃ 質量分析(FDマススペクトル) : m/ e 70
1 (m+1 )パイルシュタインテスト:陽性 に) ベンジルマロン酸ジ−テトラヒドロピラニル−エ
ステル・ナトリウム塩の!9IJI!!ボウマン及びフ
ォルトハムらの方法(ジャーナル・オブ・ケミカル・ソ
サイエテイ、′5945頁(1952))に準じて先づ
次式 のベンジルマロン酸ジ−テトラヒドロピラニル−エステ
ルを作る。これには、ベンジルマロン酸0.583f(
3゛ミリル)、ジヒドロピラン1.45−(16ミリモ
ル)を15mgのベンゼン中で水冷下lこ一簡の1lI
Va酸を触媒として反応させた。KOH250キを加え
て60分撹拌し、傾瀉により上澄液をとり、30℃以下
の水浴を用いてベンゼンを減圧留去すると、無色油状物
として目的のジエステルが得られる。これをN、N−ジ
メチルホルムアミド2m1.ヘキサメチルホスホリック
トリアミド(HMPA)0.5−の混液に溶解し水冷後
、水素化ナトリウム56 sv(1,5ミリモル)を加
え、同温で1時間撹拌すると、表題のす) IJウム塩
を含む漬明な溶液となる。
実施例1 アルファメニンAの合成 NH。
C=NH (イ)縮合反応 参考例1に)で調製したベンジルマロン酸ジ−テトラヒ
ドロピラニルエステル・ナトリウム塩を含む澄明な溶液
に対して、参考例1(/うで調製したトIJ + N 
−/<ンジルオキシカルボニルアルギニルーヨードメタ
ンの701q(1ミリモル)を加えて、水冷下に2時間
撹拌して縮合反応させる。シリカゲルTLCで原料ヨー
ドメタン化合物の消失が確認された。
(ロ)脱カルボキシル反応 前項(イ)の反応溶液にジオキサン5dを加え、水冷下
にIN−HCノの1.5−を2分間で加え、水冷下に3
時間、室温で2時間隔PPシて加水分解すると、この反
応液中では、テトラヒドロピラニル基が脱離されて次式 (zはベンジルオキシカルボニル基を示す)のジカルボ
ン酸化合物が生成される。(なお、この加水分解反応液
をそのままサンプリングし、濃縮後、ジオキサン中ジア
ゾメタン・エーテル溶液を加えると、下記の別途合成品
、とNMR,、TLC,マススペクトル(FDマススペ
クトル)で一致するジメチルエステルを与える、rr、
/e 794 )。
上記の加水分解反応液より大部分のジオキサン、基端。
水を減圧留去し、残渣にピリジン5 mlを加え、10
0℃に加温すると、炭酸ガスを含む気体の発生が認めら
れる(脱炭酸反応)。約20分で気体の発生は止め、T
LC(メルク社シリカゲルプレートΔrt5717、ク
ロロホルム−メタノール−酢酸10:1:0.5)でジ
カルボン酸の消失と、新たな2つのスポットの形成が確
認される。反応液よりピリジン、N、N−ジメチルホル
ムアミドを減圧留去し、残渣を酢酸エチル15mに溶解
し1〇−の水で5回洗條し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、”濾過後活性炭100”Pを加れ、再び許過し、
P液を減圧濃縮すると、目的のl−IJ −N−ベンジ
ルオキシカルボニル−アルファメニンAが油状物として
得られる。これをクロロポルム2 wteに溶解し、シ
リカゲル・カラム(マリンクロット社cc−7,35f
) に吸着させる。クロロホルム−メタノール(120
:1)の混液を展開溶媒とし、−分画3.5−として溶
出すると、フラツジ、ヨン歯25〜−26にRf値の高
いスポットの化合物352my。
フラクションNa39〜42#こRf値の低いスポット
の化合物67mgを得る。残りの&27〜38は212
qの混合物であった。高いRf値の化合物を(Va)、
低いRf値の化合物を(vb) として、以下にそれら
の物理定数を示す。
(Va)化合物 ’H−NMR(δ値、 80 MHz 、 CDCl5
中中):8.16(=NH) 、7.2’3(06Hs
 ) 、 5.1B、5.11 、OBそれなお、ジア
ゾメタン処理で得られたVa化合物のメチルエステルの
質量分析(、FDマススペクトル)はm/ e 75 
B (m+1 )を示した。
(vb)化合物 ”H−NMR(δ値、 80 MHz 、 CDCl5
中):9.25(=N)1)、731,728,724
(C,)i、)、5.18゜5.08 、5.05 (
’cft、ソt1.−CfbO−8−N−) 。
なお、ジアゾメタン処理で得られた(Vh)化合物のメ
チルエステルの質量分析(FDマススペクトル)はm/
e738(m+1 )を示した。
e→ 脱保護反応(アルファメニンAの生成)前項(四
で得られたトリーN−ペンジルオキシヵルボニルーアル
ファメニン(Va) 又は(Vb)の100qを、ジオ
キサン3−1蒸留水0.51.1N塩酸0.3 dの混
液に溶解し、パラジウム黒触媒10■の存在下に3気圧
の水素雰囲気下に5時間接触纜元反応にかけた。TLC
で原料の消失とアルファメニンと同一のRf値を示すス
ポットの形成を確認した( TLCには、シリカゲルメ
ルクTLCプレート、Art5715 を使用しフェノ
ール−水(3:1)で展開)。その后、触媒を戸去し、
溶媒、水、を減圧留去する。得られたアルファメニン塩
酸塩の粗粉末を0.1dの水に溶解し、非イオン性吸着
(耐脂ダイヤイオンHP−20の41に吸着し、水で展
開する。1分画り、 4 lIIとして分画すると、 
Nn12から&28の区分に目的のアルファメニンが溶
離される。これを集め減圧の縮し、約1−とし、ダウエ
ックスwatt約0.2 mlを加え、PHを中性とし
、濾過、水洗し、戸液をa縮、直結乾燥すると、目的の
アルファメニンAの23岬を得る。
収率46.4%。
前記の(V a )化合物から得た目的のアルファメニ
ン物質はTLCで醗酵法による天然アルファメニンと同
一のRf値を示した。 これを+If物質とする。
前記の(Vb)化合物より得られた物質を+1)物質と
して物性を示すと次の通りである。
(1′1物質 jH−NMR(J値、80MHz、重水中):lBO〜
798(CaHs) 、4.83(CH)、3.69〜
3.84(CH。
CHz ) 、 3.!14〜3.68(CHt X 
2) 、2.30〜2.70(CH,)。
2.01〜2.30 (CH,) 坂口反応:ニンヒドリン発色:陽性 アミノペプチダーゼB阻害活性(IC,。):0.00
7m c g’/ ml (天然品アルファメニンA 
: 0.005mcg7′Ll)IH−NMR(δ値、
80MHz、重水溶媒中)ニア、78〜7.86 (C
aHs) 、 4.86 (CH) 、 3.72〜3
.85 (CH。
CHz ) 、 3.!15〜!1.67 (CH,X
2 ) 、 2.り5〜2.70 ((1%) 。
2.01〜2.50 (CH,) 質量分析: 8IM8:m/e321(m+1)( FDマス:m/e 321 (m + 1 )坂口反応
:ニンヒドリン発色:陽性 アミノペプチダーゼB阻害活性(ICAO):0.06
mCg/d なお、上記のアミノペプチダーゼ阻害活性(ICso)
 は特願昭57−96276号明細書に示されたホップ
ス法の改良法で測定したものである(以下、同様)。
実施例2 5−アミノ−8−グアニジル−4−オキソ−1−オクタ
ン酸の合成 〒H冨 H H,NCH−Co−CH,CH,C0OHマロン酸ジ−
テトラヒドロピラニルエステルから参考例1に)の方法
と同様に水素化ナトリウムと反応して調部されたマロン
酸ジ−テトラヒドロピラニルエステル・ナトリウム塩(
1,1ミリモル)と、参考例I Nで得たトリーN−ベ
ンジルオキシカルボニル−アルギニル−ヨードメタンの
701q(1ミリモル)とを実施例1イ)と同じ手法で
縮合反応させ、更に実施例i (at 、 (/−iと
同様に反応。
処理、精製し、これにより、表題化合物を1塩酸塩とし
て得た。収量72.3q(収率27%)。
質量分析(8IM8) :m/e 231 (m+1 
)坂口反応、ニンヒドリン反応:陽性 実施例3 5−アミノ−8−グアニジル−4−オキソ−2−フェニ
ル−1−オクタン酸の合成 NH。
フェニルマロン酸ジーテトラヒド口ピラニルエステルか
ら参考例1に)の方法と同様に水素化ナトリウムと反応
して調製されたフェニルマロン酸ジ−テトラヒドロピラ
ニルエステル・ナトリウム塩と、参考例1ハで得たトリ
ーN−ベンジルオキシカルボニル−アルギニル−ヨード
メタンとを実施例1イ)と同じ手法で縮合反応させ、更
に実施例1(ロ)、e場と同様に反応、処理、精製し、
これにより表題化合物を1塩酸塩として得た。
質量分析 8イM8 : m/e 307 (m+1 
)( FDマススペクトル : m/e307(m+1 )坂
口反応、ニンヒドリン反応:陽性 アミノペプチダーゼB阻害活性(ICgo):0−04
5mcg/sl 実施例4 5−アミノ−8−グアニジル−4−オキソ−2−メチル
−1−オクタン酸の合成 H,N L:H−に0−CH,−CHC0OHメチルマ
ロン酸ジ−テトラヒドロピラニルエステルから参考例1
に)の方法と同様に水素化ナトリウムと反応して調製さ
れたメチルマロン酸ジ−テトラヒドロピラニルエステル
・ナトリウム塩と、参考例1(/1で得た1−N−ベン
ジルオキシカルボニル−アルギニル−ヨードメタンとを
実施例1(イ)と同じ手法で縮合反応させ、更に実施例
1(ロ)。
(/→と同様に反応、処理、精製し、これにより表題化
合物を1塩酸塩として得た。
質量分析(8イM8):m/e 245(m+1)アミ
ノペプチダーゼB阻害活性(IC5゜):0.081m
cg/d 参考例2 イ) N−ベンジルオキシカルボニルフェニルアラニン
に対して参考例1(イ)、(ロ)と同様にジアゾメタン
及び臭化水素酸酢酸溶液を反応させて次式%式% ((EI L/ Zはベンジルオキシカルボニル基を示
す)のN−ペンジルオキシカルボニルーフェニルアラニ
ルーブロモメタンを得た。収率47%。
mp、102.5〜106℃ 〔α〕 +21@ (C=046 CHC)、 )質量
分析(FDマススペクトル): 37B(m+2)、5
76Cm)(ロ) メチルマロン酸ジメチルエステル1
.58 F(10,8ミリモル)をN、N−ジメチルホ
ルムアミド6II#、ヘキサメチルホスホリックトリア
ミド0.6−の混液に溶解し、水冷後に水素化ナトリウ
ム250 W (9,58ミリモル)を加えて1時間撹
拌した。
次式 のメチルマロン酸ジメチルエステル・ナトリウム塩を含
む澄明な溶液を得た。
実施例5 5−アミノ−2−メチル−4−オキソ−6−フェニル−
1−ヘキサン酸の合成 C,H。
■ (イ) 5−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−メ
トキシカルボニル−2−メチル−4−オキソ−6−フェ
ニル−ヘキサン酸メチルエステルの生成 06H。
((flLZはベンジルオキシカルボニル参考例2(口
)で得たメチルマロン酸ジメチルエステル・ナトリウム
塩の溶液に対して、参考例2ビ)テ得f.= N − 
ベンジルオキシカルボニル−フェニルアラニル−ブロモ
メタン ル)を加え、その混合物を水冷下に30分間撹拌する。
シリカゲルTLC(メルクTLCプレート、Art57
15、ベンゼン−アセトン(10:1)で展開)により
原料ブロモメタン化合物の消失と、新たなスポットの出
現を確認した。その才ま、反応液から、N、N−ジメチ
ルホルムアミドを減圧留去し、残渣をエーテル40 m
lに溶解し、水洗、0、05 N−塩酸洗、重曹水洗、
水洗2回と順に洗條した。その後無水硫酸すl−IJウ
ムで乾燥する。
濾過後、溶媒を留去すると、2.263fの淡黄色油状
物を得る。これをシリカゲルクロマトグラフィー(Wa
ko 、 C−20064f 、ベンゼン−アセトン(
3o:i)で展゛開 )で精製し、表題の目的化合物の
1.75 ? (5,97ミリモル)を油状物として得
た。収率66%。
”II−NMR(δ値、 60 M Itz、、CDC
js中) : 7.30 (Cadi) −7、22(
Co口、l)、5.57(NH,ダブレット、J=8H
z)。
5.05 (−CH,O) 、 4.72〜4.40(
N−晶H−2−)’。
5.65 (−0CHB ) 、 3.17〜2.90
 (CH,X2) 、 1.43(−CH,)質褐−分
析(FDマススペクトル):m/a 442(m+1 
)(t:I 5−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2
−メチル−4−オキソ−6−フェニルー1−ヘキサン酸
メチルエステルの生成 C,H。
前項(イ)で得た生成物の1.7 Ofを、 A、P、
クラピクロらの方法(Synthesis、 805 
(1982) )に従いN、N−ジメチルホルムアミド
17 lEl 、水0.18IIIlの混液に溶解し、
塩化すl−IJウム450キを加えて52時間150℃
に加温すると、メトキシカルボニル基の1個が脱離する
。溶媒を減圧留去し得られた残渣を、酢酸エチル50 
#Il、水50 Mで分液し、さらに2回50mの水で
洗條し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。瀘
過後、ろ液を濃縮乾固し、得られた油状物をシリカゲル
・カラムクロマトグラフィ(シリカゲル、Wak。
C−200、ベンゼン−アセトン(80:1 )から(
40:1)で展開、1分画6y)で精製する。
フラクション翫34からNa48を合して濃縮乾固する
と、表題の化合物の6@4■(0,82ミIJモル)を
油状物として得る。収率19%。
鳳H−NMI’L(δppm、80MHz、重クロロホ
ルム中):0り96〜1.50 (C■b) −2,6
5”−5,45(CHs 、 CH2、CH) −5,
65(C1(sO−) −5,64’(CH2O−) 
−4,58〜4.65 (CH) −5,05(CHy
 ) −s、o 5 (Cut) −5,20〜5.4
5 (NH)なお、この”H−NMRは本物質がジアス
テレオマーの約1=1の混合物であることを示した。
質量分析(FDマススペクトル) : m/e 384
 (m+1 )rl 5−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−2−メチル−a−1−1−ソー6−フェニル−1
−ヘキ°サンの生成 前項(ロ)のメチルエステル生成物の20011P(0
,52ミリモル)をメタノール2dに溶解し、水冷後、
I N −NaOH0,5−を加えて水冷下に6時間撹
拌する。シリカゲルTLCで原料メチルエステル化合物
の消失を確認してから、メタノールを50℃の水浴を用
いて減圧留去する。水3d及びエーテル3dを加え分液
し、水層をさらに2回エーテル抽出する。水層を氷冷後
I N HCノ約Q、 6mlを加えてp)12とし酢
酸エチルで2回抽出する。有機層を飽和食塩水で2回洗
條し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過し、溶媒
を減圧留去すると目的表題化合物の140 ! (0,
58ミIJモル)を油状物として得る。収率76%。
”H−NMR(δppm、重クロ口重クロロホルム中 
0.97〜1.32(CHs ) 、 2.60〜3.
27 (CH,、CH,、CH) 、 4.!17〜4
.72CCH) 、 5.03 (CH,) 、 5.
17〜5.45 (NH) 、6.95〜 ・7、55
 (CaHs) 質量分析(FDマススペクトル) : m/e 570
 (m+1 ) 。
254.115 に) 5−アミノ−2−メチル−4−オキソ−6−フェ
ニル−1−ヘキサン酸の形成 前項(ハ)の生成物の92.4 W (0,25ミリモ
ル)をジオキサン1d、水0.2 ml 、 I N−
HCノ50ydの混液に溶解し、パラジウム触媒を加え
て6気圧の水素の雰囲気下に接触還元して脱ベンジルオ
キシカルボニルした。2時間後、TLC(メルクTLC
プレートArt5715mクロロホルム−メタノール−
酢酸(10:1:0.5)で展開)で原料アミノ保護体
の消失と、二yヒドリン発色陽性のスポットを確認する
触媒をP去後、P液を濃縮乾固し、残渣を水0.15−
に溶解し、ダイヤイオンHP −20樹脂の3−のカラ
ムに吸着させる。6dの水で洗條後、10%メタノール
水で目的物を溶離する。この溶液をダウエックスWGR
(OH型)で…6とし、濾過後、P液を濃縮乾固し目的
の表題化合物の44岬を無色粉末として得る。収率75
%。
”n−NMR(δppm、重メタノール中) : 1.
02〜1.!+4(OH,)、2.65〜5.24(O
R,、CH,、CH)、4.56〜4.7s(co) 
、 7:05〜758(Cans)質量分析(FDマス
スペクトル):m/e 236(m+1)アミノペプチ
ダーゼB阻害活性(IC,。) : 48mcg/ar
/参考例3 (イ) N−1〜フトキシ力ルポニループロリン4.0
5F(18,8ミリモル)に参考例1ビ)の方法と同様
にしてクロルギ酸エチルとジアゾメタンを反応させて次
式 のN−t−ブトキシカルボニル−プロリル−ジアゾメタ
ンを黄色油状物として得た。収量4.24f(94%)
IR:(フィルム法、Heat);ν 21o8tlX このN−t−ブトキシカルボニル−プロリル−ジアゾメ
タン、の3.’93Fのテトラヒドロフラン溶液に参考
例1イ)の方法と同様にして、2.5%臭化水素酸の酢
酸−エーテル溶液を水冷下に滴下した。
反応液を濃縮乾固し、残渣を抽出して後、シリカゲル・
クロマトグラフィ(シリカゲル、 Wak。
C200、12Of 、ベンゼン−酢酸エチル(17:
1)から(13:1)で展開)で精製すると、次式 のN−t−ブトキシカルボニル−プロリル−ブロモメタ
ンを2.98Fの無色油状物として得る。収率62% 質量分析(FDマススペクトル) : m/ e 29
4 (m+2 ) 。
292 (m) (ロ) 650tnoのイソブチルマロン酸ジエチルエ
ステルと4B1#g水素化す) IJウムを参考例1に
)の方法と同様に反応させると、イソブチルマロン酸ジ
エチルエステル・ナトリウム塩の溶液が得られた。
実施例6 2−イソブチル−4−(2−ピロリジル)−4−オキソ
−1−ブタン酸の合成 CH(CHs)* (イ) 2−イソブチル−2−エトキシカルボニル−4
−(1’−t−ブトキシカルボニル−2′−ピロリジル
)−4−オキソ−1−ブタン酸エチルエステルの生成 CH(CHs )x ( 参考例3(ロ)で得たイソブチルマロン酸ジエチルエス
テル・ナトリウム塩の溶液に対して、参考例3(イ)で
得たN−t−ブトキシカルボニル−プロリル−ブロモメ
タンの27011Qを実施例1の方法と同様に縮合反応
させ、さらにシリカゲル・カラムクロマトグラフィで精
製すると、表題化合物の172岬が無色油状物として得
られた。収率44%”H−NMR(δI) pm* 重
クロロホルム中) : 0.7B 、 0.89(OH
,)、1.1〜143 (CHs)−1,’12 ((
CHs)s)−1,55〜2.10 (CH,、C)1
.) 、3.03〜3.28 (CH,) 。
3.30〜5.67CCH*)、3.92〜4.28(
CH之)質量分析(FDマススペクトル):m/e 4
28(m+1)。
257.170 10) 2−インブチル−4−(1−t−ブトキシカル
ボニル−2−ピロリジル)−4−オキソ−ブタン酸エチ
ルエステルの生成 前項(イ)の生成物の428■(1ミリモル)をDM8
0の5+d、水0.1wJの混液に溶解し、塩化ナトリ
ウムの120qを加えて4時間160℃に加温すると、
エトキシカルボニル基1個が脱離する。
実施例1(ロ)と同様に処理し、シリカゲル・カラムク
ロマトグラフィにて精製すると、1931qの表題化合
物を油状物として得る。収率54%。
質量分析(FDマススペクトル):m/e 556 (
m+1 )。
185.170 e→ 2−イソブチル−4−(1−t−ブトキシカルボ
ニル−2−ピロリジル)−4−オキソ−ブタン酸の生成 CH(CHs )* 前項(ロ)のエチルエステル生成物の182qを実施例
5G/→と同様にアルカリ加水分解する。゛反応液を濃
縮後、酢酸エチル5dを加え、1N塩酸0.48−2水
5 ateを加え分液する。有機層を飽和食塩水で2回
洗條し、無水硫酸マグネシウムで先鋒後、濾過、濃縮乾
固すると164π1の油状物が得られる。これをシリカ
ゲル・カラムクロマトグラフィで精製(マリンクロット
社製品CC−7,5? 、クロロホルム−メタノール(
20:1 )で展開)すると、目的の表題化合物の12
8■を無色油状物として得る(76%)。
質量分析(FDマススペクトル):m/e 32B (
m+1 )に) 2−イソブチル−4−(2−ピロリジ
ル)−4−オキソ−1−ブタン酸の生成 前項rlの生成物の120■をジオキサン3耐に溶解し
、水冷後、6N士塩酸ジオキサン溶液の2、4 mlを
加え同温で20分撹゛押して脱保股反応を行う。TLC
(シリ1カゲル、メルクTLC。
Art5715.クロロホルム−メタノール−酢酸(1
0:1:0.5)で展開)で原料t−ブトキシカルボニ
ル化合物の消失と、新たなニンヒドリン陽性のスポット
の出現を確認した。反応溶媒を減圧留去し、実施例5に
)と同様に処理、精製、中和し目的の表題化合物52W
Igを無定製粉末として得る。
収率62% m、p、80〜105℃ ’H−NMR(δ値ppm、60MHze重メタノール
中):0.80〜0.92 (CH,) 、 1.47
〜2.03(CH□CH,、CH)。
2.98〜3.24(cut)、、aao〜3.52(
CHり。
4.68〜4.84(OH) 質te析(FDマススペクトル):m/e 228(m
+1 )アミノペプチダーゼB阻害活性(IC5o) 
: 12mc g/sl参考例4 (イ)N−ベンジルオキシカルボニル・アスパラギン・
ベンジルエステルに参考例1イ)の方法と同様にクロロ
ギ酸エチルとジアゾメタンを反応させて次式 %式% (ただし2はベンジルオキシカルボニル基を示す)のN
−ベンジルオキシカルボニル−アスパラギニル−ジアゾ
メタン・β−ベンジルエステルを淡黄色固体として得た
。m、p、120−125℃。
収率67%。
(all’ IB(ν ) : 210B ax 質量分析(FDマススペクトル):m766日2(m+
1)(ロ)前項(イ)のジアゾ生成物を参′考例1(ロ
)と同様に臭化水素酸と反応させて次式 %式% ルーブロモメタン・β−ベンジルエステルヲ無色結晶と
して得た。収率89% 質量分析(FDマススペクトル):m/e 436(m
+2)m/e 434(m) 実施例7 5−アミノ−2−イソプロピル−4−オキソ−へブタン
・ジカルボン酸の合成 (イ)参考例4(ロ)で得たN−ベンジルオキシカルボ
ニル−アスパラギニル−ブロモメタン・β−ベンジルエ
ステルに対して実施例1(イ)の方法と同様にしてイソ
プロピルマロン酸ジエチルエステル・ナトリウム塩を反
応させ、さらに同様に処理して次式 の化合物を無色油状物として得た。収率63%質量分析
(FDマススペクトル):m/e 556(m+1)。
312.243 (四 前項(イ)の生成物を実施例5(ロ)と同様に処
理して脱エトキシカルボニル化を行い、次式の化合物を
無色油状物として得た。収率67%質量分析(FDマス
スペクトル):m/e 484(m+1)(/1 前項
(ロ)の生成物を実施例5rlと同様にしてアルカリ加
水分解して次式 の化合物を無色不定形固体(mp、183〜198℃)
として得た。収率82%。
質量分析(FDマススペクトル):m/e 366(m
+1)なお、この化合物ジアゾメタン処理して得られた
ジメチルエステル体の質量分析はm/e594(m+1
)であった。
に)前項e→の生成物を実施例5に)と同様に接触還元
して脱ベンジルオキシカルボニル化して目的の5−アミ
ノ−2−イソプロピル−4−オキソ−へブタン・ジカル
ボン酸を無色固体、mp195〜220℃として得た。
収率86%。
質量分析(FD7ススベクトル): 232(m+1 
)実施例8 6−メルカブトー5−アミノ−4−オキソ−2−メチル
ーベブタン酸の合成 8 N−ジー業−ブトキシ力ルポニルシスティンから誘導さ
れたN−ジ−t−ブトキシカルボニル−シスtイニルー
ブロモメタンに対して、実施例5(イ)と同様に、メチ
ルマロン酸ジエチルエステル・ナトリウム塩を反応させ
、さらに実施例5(O)、(ハ)、に)と同様にして表
題化合物を淡黄色固体、mp、、124℃〜137℃と
して得た。
質量分析(FDマススペクトル):m/e 193(m
+2)。
19Dm) アミ□ノペプチダーゼB阻害活性(IC,。) : 0
.13mcg/sl第1頁の続き ■Int、 C1,’ 識別記号 庁内整理番号C07
D 309/12 716?−4C@発 明 者 青柳
高明 藤沢市本鵠沼3丁目3番6号 0発 明 者 竜田邦明 東京都杉並区松ノ木2丁目26番 7号 0発 明 者 中村健 横浜市港北区大豆戸町803の2 0発 明 者 深津俊三 東京都新宿区市ケ谷田町1の13 手続補正書(自発) 昭和59年 1月30日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和58 年特許願第107888号 2、発明の名称 アルファメニン及びその関連化合物と合成法3、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 柱 所 東駅部品用区上大崎3丁[J14%23号名称
 財団法人微生物化学研死会 4、代理人 〒105 住所 東京都港区西新橋1丁目1番15号物
産ビル別館 電話(591) 0261(6645) 
氏名 八木1) 茂 rもよ補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の橢 t、補正の内容 (1)明細書筒グ頁3行の「ス」を「ン」と補正する。
Q)同第1−2頁l−2行の「ゾロリン」の次に句点「
、」を挿入する。
(3)同第21頁下から7行の「ミナル」を「シナル」
と補正する。
(リ 同第ココ頁13行の「酢エチ」を削除して「酢酸
エチル」を挿入する。
(1) 同第コア頁第3行の H2No H00QH20H0OOHJ を’ NH。
■ 0 = NT( n!N0F(−00−OHI 0HOOOHJと補正す
る。
(、G) 同第30頁1行の「OIJを削除してr 1
.0 / Jを挿入する。
(乃 同第31頁lワ行の「水洗し、」全削除して「樹
脂を水洗し、その洗液と合せた」を挿入する。
、(リ 同第32頁lj行のr (ll’′)」を削除
してr(1“)」を挿入する。
(り)同第3コ頁/、/行及び第33頁λ行のr FD
マス」の次に「スペクトル」を挿入する。
(lの同第グ弘頁1行の「(イ)」を削除して「(ロ)
−を挿入する。
(/l)同第at頁!行の「洗滌」を削除して「乾燥」
を挿入する。
(12)同第≠を頁11行の「十」を削除する。
(/J)同第1り頁μ行の「型」を「形」と補正する。
(/It)同第j3頁λ行の「化合物」の次に「金」を
挿入する。
(/j)同第j′3頁10行の「コ3λ」の前にr m
/e。
を挿入する。
手続補正書(自発) 昭和5′9年7月 13日 特許庁長官殿 11、事件の表示 昭和58 年特許願第107888号 2、発明の名称 アルファメニン及びその関連化合物と 合成法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願大 佐 所 東京部品用区上大崎3丁目14番23号名 称
 財団法人 微生物化学研究会 !補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明 の詳細な説明の橢 ム補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙のとおり補正する0(2)
 明細書第5頁7行の「号」の次に「及び特願昭58−
17413号」を挿入する◎13) 四@6頁9〜20
行の記載を次の通゛り補正する。
「1981)よりなる方法や、アミノ酸とピリジンチオ
ールとのエステルにグリニヤール試薬を反応させる方法
(r TetrahsdronLette’r J 2
3巻、2533 頁、1982)カするが一前者の方法
は出発物質として用いるケトメチレン化合物、即ちコー
ク酸誘導体の半一エステル又は半−酸クロライドの調製
が難しいばかりでなく、得られる生成物は前記式(I)
の化合物に見られるアミノ基がアシル置換され九ものに
相当するので、そのN−丁シル基を脱離させるために最
后の段階で激しい酸加水分解が要求される難点がある。
後者の方法はグリニヤール試薬を用いるため出発物質の
選択が狭い種類に限定され、出発物質中のケトン基の保
I!を必要とするなどに基因して」 14) 同第7頁3行の「の方法」を削除する・ζ5)
同第7頁12行及び第8頁6行□の式中の「*」を削除
する。
4G) 同第8頁1−3行の「を示し、−一一一一一 
こと」を削除する。
(7)同第8頁7行及び第10頁7行の「及び耐を削除
する。
(8) 同第10頁6行の式を次の通り補正する。
<91 inlm l l fi l 3 行o rr
ル*ル’J (D#K「メチル基、エチル基、プロピル
基の如き」を挿入する。
a・ 同第12頁3行の「下に」の次に「100°C〜
200°Cの温度で」を挿入する◎ aυ 同第14頁5行の式中の[A の部分礁 −N−」 を「 A と補正する〇 一〇−」 C3同第15頁5行の式中(D r−C−C0OHJの
部分をr −CH−C00HJと補正する・0 同第1
5頁末行の式を下記の通り補正する0[ [(、N−C−NH−(CH2)3−CH−Co−CH
2−CH−COOH1 NH (Ib) J (14同第20貞15行と16行との間に次の記載を挿
入する。
「 一般式(I)及び(Ia) の化合物は・免疫賦活
による治療の目的とする疾病の状態にもよるが、通常は
成人について1日1回、2り〜500岬の範囲でありう
る・また・急性毒性をみるため1マイスに腹腔内投与し
たところ、+00q/に9〜1000η/kgの投与で
死亡例を認めず、本化合物は安全であると認められた。
」 Gタ 同第24頁4行及び第37頁5行のrcJを「C
」と補正する@ 顧 同第26頁1行の式中の「−CくJの部分t−[−
ciiり’Jと補正する◎ lIη 同第26頁下から2〜3行の「同温で」を削除
して「さらに水冷下に」を挿入する◎(1饋 同第27
頁7行の「澄明」の曲に1曲配りを挿入する0 aIJ 同第27頁12行と13行との間に次の記載を
挿入する◎ 「 反応混合物中には、次式 (但し2はベンジルオ中シヵルボニk11.Yt示す)
の縮合生成物が生成された◎」 ■ 同第28頁2行の「では1」の次に「縮合生成物か
ら」を挿入する。
の 同第?g頁8行の「ジオキサン中」ヲ「ジオキサン
に沼かし」と補正する。
■ 同第29頁19行の「りの」の次に「両者」を挿入
する。
(至)同第31頁1行、5〜6行、10〜11行。
■4〜15行;第3−2頁1〜2行の「アルファメニン
」の次に[AJt−挿入する〇(2)同第31頁17行
の「水洗し、」を削除して「樹脂を水洗し、その洗液と
合せた」を挿入する。
■ 同第37頁5行の「〔α]、J を[〔α〕Dと補
正する・ C1(3 額 同第40頁4行の式中のr −C−C00CH3J
の部分をr −CI −C00CH3Jと補正する◎(
ト)同第40頁5〜6行の「クラピクロら」を削除して
r K’ra’peho Jを挿入する。
囚 同第40頁11−12行の「で分液し、」゛を削除
して「と混合し、2層に分液1−でその有機層を」を挿
入する・ 司 同第41頁13行の「Φサン」の次に「酸」を挿入
するO Q) 同第41頁目5行の「水冷後、」の次に「アルカ
リ加水分解のため」を挿入する@(9同第41頁1g行
の「から、」の次に「反応混合物中ら」を挿入する。
−同第4I頁末竹の「加え」の次に「有機層と水性層と
に」を挿入する。
(至)同第43頁11行のrppm、Jの次に「80M
1(z、J を挿入する。
(ト)同第44頁10行の1抽出して後、」を削除して
「酢酸エチルで抽申した後、その抽出液を」を挿入する
◎ (至) 同第50頁8行の「生成」を削除して「−メタ
ン化合」を挿入する。
(M 同第51頁4行の式中の 「 I CH −C)I−COOI(Jの部分を 「 I CH2 −CH−CooFLJと補正する。
特許請求の範囲 l・ 一般式 %式%() 〔式中、B’ はα−アミノ酸分子のα−カルボキシル
基を除いた部分に相当するα−アミノ酸残基であって、
このα−アミノ酸残基がα−丁ミノ基の他に官能基を含
む場合には・α−丁ミノ基及びその官能基、は公知の保
護基で保護されて、I!1シ、xは臭素又は沃素原子を
示す〕で表わされるα−アミノ酸誘導体に次の一般式 〔式中・Rは水素原子、C1〜6のアル中ル基、 ゛あ
るいは置換基を有してもよいアリール基又は丁うル午ル
基を示しs R3はC1〜4のアル中ル基又はテトラヒ
ドロピラニル基の形のカルボキシル基保護基を示し、M
・ はアルカリ金属を示す〕の置換又は非を換マロン酸
ジエステル・アルカリ金属塩を縮合させて次の一般式 〔式中、at 、 R2、R3は前述の意味を示す〕の
縮、f!r’1.□、□ユ1、次い下この竺成物門公知
の方法による脱カルボΦシル反応又は脱カルボ中シレー
ト反応(−Cool 基1個の脱離)と公知の脱保鏝反
応に付することt−%微とする一次の一般式〔式中、R
は・ Bl で表わされる官能基を保護されたα−アミ
ノ酸残基から保護基の脱除によシ生成されたα−アミノ
酸残基であり、R2は前述の( 組合わせであることを示す〕で表わされるアルファメニ
ン及びその関連化合物の製造法・2、一般式 〔一式中、R’ はα−アミノ酸分子のα−カルボキシ
ル基を除いた部分に相当するα−アミノ酸残基であり、
Rは水氷原子、C1〜6のアルΦル基、あるいは置換基
な有してもよい丁リール基又はアラル中ル基であり、−
は仁れの付された炭素原子における立体配置がR型又は
S型、あるいはこれらの組合わせであることを示し;但
しRが了ルギニン分子からα−カルボキシル基を除いた
部分に相当するγルギニン残基であって且つRがヘンシ
ル基又はp−ヒドロギシベンジル基である場合は除く〕
で表わされる新規なアルファメニン関連化合物、および
その薬学的に許容される塩。
手続補正書(自発) 昭和59年8 月6 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和58 年特許願第107888号 合成法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 東京部品用区上大崎3丁目14番23号名 称
 財団法人 微生物化学研究会 !補正の対象 日QIJM書(’)5iuQO詳iJQ明cr>@tx
 b vKFiB和59年1月30日付及び昭和59年
7月13日付の手続補正書 ム補正の内容 (1)明細書第7頁12行の記載を次の通り補正する。
」 (2) 同f414頁5行の式(IVa) ノ中のr−
(COOR3)2J O部分なr −(COOR)2J
 l:、、 補正する。
蝋4) 昭和59年1月30日付手続補正書第3頁下か
ら2行の「5行の」の次に「2番目の」(5)昭和59
ξ7月13日付手続補正書第4頁2〜3行の記載を削除
する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 %式%(1) 〔式中、Wはα−アミノ酸分子のび一カルボキシル基を
    除いた部分に相函するα−アミノ酸残基であって、この
    α−アミノ酸残基がα−アミノ基の他に官能基を含む場
    合には、α−アミノ基及びその官能基は公知の保護基で
    保護されてあり、Xは臭素又は沃素原子を示す〕で表わ
    されるα−アミノ酸誘導体に次の一般式 〔式中 B2は水素原子、01〜6のアルキル基、ある
    いは置換基を有してもよいアリール基又はアラルキル基
    を示し Baは01〜4のアルキル基又はテトラヒドロ
    ピラニル基の形のカルボキシル基保護基を示し、Meは
    アルカリ金属を示し、*印はこれの付された炭素原子に
    おける立体配置がR型又はS型、あるいはこれらの組合
    わせであることを示す〕の置換又は非置換マロン酸ジエ
    ステル・アルカリ金属塩を縮合させて次の一般式 〔式中、B1 、 H,R、RR及び*は前述の意味を
    示す〕の縮合生成物を生成し、次いでこの生成物を公知
    の方法による脱カルボキシル反応又は脱カルボキシレー
    ト反応(−coon、3基1個の除去)と公知の脱保護
    反応に付することを特徴とする、次の一般式 %式%(1) 〔式中、Rは、alで表わされる官能基を保護されたα
    −アミノ酸残基から保護基の脱除により生成されたα−
    アミノ酸残基であり Bl及び* it前述の意味を有
    する〕で表わされるアルファメニン及びその関連化合物
    の製造法。 2、一般式 %式%() 〔式中、R・8はα−アミノ酸分子のα−カルボキシル
    基を除いた部分に相当するα−アミノ酸残基であり、F
    L2は水素原子9.c1〜6のアルキル基、あるいは置
    換基を有してもよいアリール基又はアラルキル基であり
    、*はこれの付された炭素原子における立体配置がRW
    又はS型、あるいはこれらの組合わせであることを示し
    :但しBJIがアルギニン分子からa−カルボキシル基
    を除いた部分に相当するアルギニン残基であって且っV
    がベンジル基又はp−ヒドロキシベンジル基である場合
    は除く〕で表わされる新規なアルファメニン関連化合物
    、およびその薬学的に許容される塩。
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